一种以白玻为基底的绿色系单银LOW-E玻璃的制作方法

本实用新型涉及一种low-e玻璃，具体涉及一种以白玻为基底的绿色系单银low-e玻璃。

背景技术：

绿色镀膜玻璃由于它特殊的产品颜色，及其良好的光学性能，越来越受人们的喜爱，近几年的市场需求量也是不断增加，特别是一些象征环保的相关工程或指定楼盘，如恒大所有楼盘就一直沿用绿色作为门窗玻璃。以往生产绿色系双银low-e玻璃都是采用绿色原片来镀制相关的膜层系列，达到玻璃面颜色为绿色，但是由于绿色原片价格较高，每平方比白色原片贵8~10元，在目前这个深加工利润较薄的环境下，大大提高了生产成本，造成了企业的生存压力。因此，有必要对现有的产品做出改进，以提供一种成本较低的绿色系双银low-e玻璃。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于：提供一种在白玻基材上镀制呈绿色系的新型双银low-e膜系，从而大大降低了生产成本的以白玻为基底的绿色系单银low-e玻璃。

本实用新型的技术方案是：

一种以白玻为基底的绿色系单银low-e玻璃，包括玻璃基材，玻璃基材为白色原片玻璃，其特征在于：所述玻璃基材的上表面依次设有；第一si3n4膜层、tio膜层、第一azo膜层、第一nicr膜层、ag膜层、第二nicr膜层、第二azo膜层和第二si3n4膜层；

所述的第一si3n4膜层为介质层，其厚度为10nm-150nm；

所述的tio膜层为介质层，其厚度为5nm-60nm；

所述的第一azo膜层为银层平复层和阻挡层其厚度为10nm-150nm；

所述的第一nicr膜层为阻挡层，其厚度为2nm-50nm；

所述的ag膜层为功能层，其厚度为3nm-12nm；

所述的第二nicr膜层为阻挡层，其厚度为2nm-50nm，

所述的第二azo膜层为介质层和阻挡层，其厚度为5nm-30nm，所述的第二si3n4膜层为介质层，其厚度为10nm-150nm；

所述的各膜层溅射速度为：2.0~6.0m/min。

本实用新型的绿色系单银low-e玻璃的颜色性能如下：

从上述数据可以分析出，本实用新型的绿色系双银low-e玻璃，其玻璃面颜色a*值为-10.8，b*值为﹢0.3，呈现的颜色为绿色。

本实用新型的绿色系双银low-e玻璃在uv-3600紫外光分光光度计上测出数据，按照jgj/t151-2008标准计算出来6mmlow-e玻璃+12a+6mm白玻的中空玻璃配置，其光学和热学性能如下：

从上述数据分析，该颜色产品光热比lsg在1.19，辐射率为0.09，热学性能达到了单银low-e的水平标准。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型采用普通白色原片玻璃为玻璃基材；生产出的绿色系双银low-e玻璃光热比lsg在1.19，辐射率为0.09，热学性能达到了单银low-e的水平标准，由于采用白色原片玻璃为玻璃基材大大降低了采用绿色原片来镀制相关膜层的生产成本，节约能源，能够大面积在门窗幕墙玻璃上应用。

附图说明

图1为本实用新型的剖视结构示意图。

图中：1、玻璃基材，2、第一si3n4膜层，3、tio膜层，4、第一azo膜层，5、第一nicr膜层，6、ag膜层，7、第二nicr膜层，8、第二azo膜层，9、第二si3n4膜层。

具体实施方式

该以白玻为基底的绿色系双银low-e玻璃，包括玻璃基材1，玻璃基材1为白色原片玻璃。玻璃基材1的上表面依次设有；第一si3n4膜层2、tio膜层3、第一azo膜层4、第一nicr膜层5、ag膜层6、第二nicr膜层7、第二azo膜层8、第二si3n4膜层9。

第一si3n4膜层2为介质层，其厚度为10nm—150nm，优选110nm第一si3n4膜层2采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、以氩气作为溅射气体，氮气作反应气体溅射半导体材料硅铝靶（硅铝靶，硅铝比为si:al﹦90:10)制备而成，以提高膜层的物理性能和抗氧化性能；氩、氮气体比为850sccm~1200sccm：400sccm~600sccm。

tio膜层3为介质层，其厚度为5nm—60nm，优选25nm,以阻挡玻璃表面的na对功能层的破坏，并平复膜银层，提高玻璃的折射率。tio膜层3用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；以氩、氧气作为溅射气体，氩氧气体比为500sccm~800sccm：10sccm~50sccm。

第一azo膜层4为介质层；其厚度为10nm—150nm，优选80nm；第一azo膜层4用交流中频电源溅射陶瓷靶。以氩、氧气作为溅射气体，氩、氧气体比为500sccm~800sccm：10sccm~50sccm。第一azo膜层4用于颜色的调试和提高玻璃的折射率；并从表面平复ag膜层，以进一步降低玻璃的辐射率，同时由于结构致密，也能起到阻挡空气中的大分子对ag膜层的破坏；

第一nicr膜层5为阻挡层，其厚度为2nm—50nm，优选35nm，第一nicr膜层5采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源、以氩气作为溅射气体，氩气流量为800sccm~1200sccm，第一nicr膜层5用于进一步阻挡氧离子和钠离子对银层的破坏，同时也作为功能层ag层的打底材料；

ag膜层6为功能层；其厚度为3nm—12nm，优选8nm，以降低辐射率，提高玻璃的热学性能和光学性能。第一ag膜层6采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源、以氩气作为溅射气体溅射，氩气流量为800sccm~1200sccm；

第二nicr膜层7为阻挡层，其厚度为2nm—50nm，优选30nm，以进一步阻挡氧离子和钠离子对银层的破坏，同时也作为功能层ag层的打底材料。第二nicr膜层7用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源电源、以氩气作为溅射气体，氩气流量为800sccm~1200sccm。

第二azo膜层8为介质层和阻挡层，其厚度为5nm—30nm，优选15nm，第二azo膜层8用于进一步降低玻璃的辐射率。同时由于结构致密，也能起到阻挡空气中的大分子对ag层的破坏，第二azo膜层8用交流中频电源溅射陶瓷靶。以氩、氧气作为溅射气体溅射陶瓷钛靶，氩、氧气体比为500sccm~800sccm：10sccm~50sccm。

第二si3n4膜层9为介质层，其厚度为10nm-150nm，优选100nm，第二si3n4膜层9用交流中频电源、以氩气作为溅射气体，氮气作反应气体溅射半导体材料硅铝靶（硅铝靶，硅铝比为si:al﹦90:10)制备而成，以提高膜层的物理性能和抗氧化性能。也是主要调试绿色的介质层材料，该膜层的厚度是调试绿色颜色的关键因素，氩、氮气体比为600sccm~1000sccm：500sccm~800sccm。

本实用新型采用普通白色原片玻璃为玻璃基材1；生产出的绿色系单银low-e玻璃光热比lsg在1.19，辐射率为0.09，热学性能达到了单银low-e的水平标准。同时具有结构件的特点，由于采用白色原片玻璃为玻璃基材大大降低了采用绿色原片来镀制相关膜层的生产成本，节约能源，能够大面积在门窗幕墙玻璃上应用。