一种酸性玻璃化抛工艺及其化抛设备的制作方法

[0001]
本发明涉及玻璃加工领域，具体是一种酸性玻璃化抛工艺及其化抛设备。


背景技术：

[0002]
酸性玻璃ag蚀刻也称为玻璃蒙砂，防眩玻璃(ag玻璃)。是通过对玻璃表面进行化学特殊处理后，使得玻璃表面微观粒子结构变化成不均匀粒子，从而人为的将玻璃的镜面反射转换为漫反射。同时通过增强透光率的化学工艺处理，将玻璃表面粗燥的颗粒变圆滑的颗粒，可大大提高防眩玻璃的透光率，可使透光率≥90％。达到清新透明的防眩效果，让观赏者体验更佳舒适的视觉享受。
[0003]
ag玻璃顾名思义，就是抵抗反射，从而增加透光率的玻璃。该项技术已经由德国一家研究所开发成功，虽然它的价格不菲，但在国外市场仍很受欢迎。这种新型玻璃的透光率高达99.5％，为了增大玻璃的透光率，玻璃表面涂覆了一层具有防止光线反射的涂膜层，形成抗反射功能的新型玻璃将在新世纪里的玻璃加工业中占有重要地位。该玻璃在建筑材料、太阳能利用、光学仪器制造等诸多的领域中有着广阔的市场及发展前景。


技术实现要素：

[0004]
本发明的目的在于提供一种酸性玻璃化抛工艺及其化抛设备，通过酸洗、ag蚀刻、化抛、脱油墨、物理及化学清洗等工序，再结合水洗配合，各工艺交叉循环配合，ag蚀刻前产品冰水浸泡，有效的保护产品，避免蚀刻过度，单面化抛与双面化抛结合，降低产品表面雾度和粗糙度，提高透光度，透光效果好，酸性化抛水循环利用，提高化抛液的利用率，降低企业生产成本，废水无害化处理，避免环境污染。
[0005]
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
[0006]
一种酸性玻璃化抛工艺，化抛工艺目的是减少玻璃产品的光线反射，提高产品的透光率，所述化抛工艺包括酸洗、ag蚀刻、化抛、脱油墨、物理及化学清洗等工序，再结合水洗配合，各工艺交叉循环配合，化抛工艺如下：
[0007]
s1、投料：将初步检测合格的不同型号玻璃产品投入纯水中；
[0008]
s2、水洗：用纯水对玻璃产品进行冲洗，初步去除表面杂质，冲洗的清水为流动水；
[0009]
s3、酸洗：将初步除杂的玻璃产品依次放置在生产线传送线上，
[0010]
s4、水洗：将酸洗后的玻璃产品，放入纯水中冲洗，去除残留于表面的酸性废水，清洗的纯水为流动水；
[0011]
s5、ag蚀刻：ag蚀刻包括冰水浸泡、蚀刻液冲刷及水刀冲洗，
[0012]
s6、水洗：将步骤s5中产生的污染物用纯水清洗，清洗的纯水为流动水；
[0013]
s7、单面化抛；
[0014]
s8、水洗：将单面化抛后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0015]
s9、脱油墨；
[0016]
s10、水洗：将脱油墨后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水：
[0017]
s11、双面化抛；
[0018]
s12、水洗：化抛后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0019]
s13、物理化学清洗；
[0020]
s14、水洗：将药液浸泡后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0021]
s15、烘干：烘干产品，烘干温度75℃-85℃；
[0022]
s16、检验包装：对产品进行合格性检测，并对合格产品包装。
[0023]
进一步地，所述步骤s2、s4、s6、s8、s10、s12和s14中清洗纯水均为流动水。
[0024]
进一步地，所述步骤s3酸洗选用低浓度的氢氟酸清洗玻璃表面的各种杂质和脏污，保证表面洁净，槽液每15d更换一次，产生的酸性废水主要成分为氢氟酸、氟硅酸盐，无害处理后排放。
[0025]
进一步地，所述步骤s5中蚀刻方法：
[0026]
s51、冰水浸泡：将水洗后的玻璃产品在冰水中浸泡5-10s，使表面覆盖一层冰水膜，冰水温度不能超过15℃；
[0027]
s52、蚀刻液冲刷：将冰水处理后的玻璃产品经传输线送入蚀刻线内，蚀刻线内的摇摆喷管，将蚀刻液均匀喷洒、补充在产品表面，槽液按产量补加更换，10d一次；
[0028]
s53、水刀冲洗：玻璃产品通过蚀刻后立即经过水刀，将产品表面的蚀刻液冲洗干净，该工序产生的废物主要为更换的废弃蚀刻液以及清洗废水，主要污染物为ph、cod、氟硅酸盐、ss等。
[0029]
进一步地，所述步骤s7通过化抛降低ag蚀刻后产品表面雾度、粗糙度，单面化抛采用氢氟酸减薄，产品的一面涂保护油墨，氢氟酸只作用在无保护油墨的一面，化抛槽采用多联循环，化抛槽液流向步骤s3的酸洗槽内，产品在线上运行时持续补充化抛液，化抛槽液每15d补加一次氢氟酸。
[0030]
进一步地，所述步骤s9为产品进入双面化抛工序前进行表面保护油墨清除，脱油墨采用碱性药水浸泡，主要成份为naoh，定期补加补水，温度90℃，该工序产生的主要污染物为碱性洗废水和固态油墨。
[0031]
进一步地，所述步骤s11双面化抛原理和目的与单面化抛相同，区别在于双面化抛采用浸泡式，玻璃产品完全沉浸于化抛液中，槽液按照双面化抛效率定期补加氢氟酸，废弃槽液回流入酸洗工序，产生废物主要为酸性清洗废水。
[0032]
进一步地，所述步骤s13中清洗方法是通过将产品置于清洗线上，清洗线采用药液浸泡加超声波同时作用清洗，槽液按照清洗效果定期更换，3d更换一次，工序产生的清洗废水主要污染物为ph、cod、石油类、ss等。
[0033]
一种酸性玻璃化抛工艺的化抛设备，所述化抛设备优选降低生产能源消耗、降低产品成本的设备，提高企业的经济效益、增加产品的竞争能力，化抛设备包括酸洗生产线、ag玻璃蚀刻线、单面化抛生产线、脱油墨槽、双面化抛生产线、清洗烤干一体线、空压机和真空包装机。
[0034]
所述蚀刻全工艺生产线设备槽体尺寸与用水排水如下：
[0035]
[0036][0037]
本发明的有益效果：
[0038]
1、本发明化抛工艺ag蚀刻前产品冰水浸泡，有效的保护产品，避免蚀刻过度，单面化抛与双面化抛结合，降低产品表面雾度和粗糙度，提高透光度，透光效果好；
[0039]
本发明化抛工艺酸性化抛水循环利用，提高化抛液的利用率，降低企业生产成本，废水无害化处理，避免环境污染。
附图说明
[0040]
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
[0041]
图1是本发明ag蚀刻生产工艺及产污环节图。
具体实施方式
[0042]
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完
整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
[0043]
一种酸性玻璃化抛工艺，化抛工艺经过酸洗、ag蚀刻、化抛、脱油墨、物理及化学清洗等工序，再结合水洗配合，减少产品的光线反射，提高产品的透光率，各工艺交叉循环配合，如图1所示，具体工艺如下：
[0044]
s1、投料：将初步检测合格的不同型号玻璃产品投入纯水中；
[0045]
s2、水洗：用纯水对玻璃产品进行冲洗，初步去除表面杂质，冲洗的清水为流动水；
[0046]
s3、酸洗：将初步除杂的玻璃产品依次放置在生产线传送线上，用低浓度的氢氟酸清洗玻璃表面的各种杂质和脏污，保证表面洁净，槽液每15d更换一次，产生的酸性废水主要成分为氢氟酸、氟硅酸盐，无害处理后排放；
[0047]
s4、水洗：将酸洗后的玻璃产品，放入纯水中冲洗，去除残留于表面的酸性废水，清洗的纯水为流动水；
[0048]
s5、ag蚀刻：ag蚀刻包括冰水浸泡、蚀刻液冲刷及水刀冲洗，具体方法：
[0049]
s51、冰水浸泡：将水洗后的玻璃产品在冰水中浸泡5-10s，使表面覆盖一层冰水膜，冰水温度不能超过15℃；
[0050]
s52、蚀刻液冲刷：将冰水处理后的玻璃产品经传输线送入蚀刻线内，蚀刻线内的摇摆喷管，将蚀刻液均匀喷洒、补充在产品表面，槽液按产量补加更换，10d一次；
[0051]
s53、水刀冲洗：玻璃产品通过蚀刻后立即经过水刀，将产品表面的蚀刻液冲洗干净，该工序产生的废物主要为更换的废弃蚀刻液以及清洗废水，主要污染物为ph、cod、氟硅酸盐、ss等；
[0052]
s6、水洗：将步骤s5中产生的污染物用纯水清洗，清洗的纯水为流动水；
[0053]
s7、单面化抛：蚀刻后产品表面雾度、粗糙度较高，需通过化抛来降低这两个数值，单面化抛采用氢氟酸减薄，产品的一面涂保护油墨，氢氟酸只作用在无保护油墨的一面，化抛槽采用多联循环，化抛槽液流向步骤s3的酸洗槽内，产品在线上运行时持续补充化抛液，化抛槽液每15d补加一次氢氟酸；
[0054]
s8、水洗：将单面化抛后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0055]
s9、脱油墨：进入双面化抛前需将产品表面保护油墨清除，脱油墨采用碱性药水浸泡，主要成份为naoh，定期补加补水，温度90℃，该工序产生的主要污染物为碱性洗废水和固态油墨；
[0056]
s10、水洗：将脱油墨后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水：
[0057]
s11、双面化抛：双面化抛原理和目的与单面化抛相同，区别在于双面化抛采用浸泡式，玻璃产品完全沉浸于化抛液中，槽液按照双面化抛效率定期补加氢氟酸，废弃槽液可以回用于酸洗工序。产生废物主要为酸性清洗废水；
[0058]
s12、水洗：化抛后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0059]
s13、物理化学清洗：产品置于清洗线上，清洗线采用药液浸泡加超声波同时作用，槽液按照清洗效果定期更换，3d更换一次，工序产生的清洗废水主要污染物为ph、cod、石油类、ss等；
[0060]
s14、水洗：将药液浸泡后的产品置于纯水槽内清洗，清洗的纯水为流动水；
[0061]
s15、烘干：烘干产品，烘干温度75℃-85℃；
[0062]
s16、检验包装：对产品进行合格性检测，并对合格产品包装。
[0063]
一种酸性玻璃化抛工艺的化抛设备，化抛设备优选降低生产能源消耗、降低产品成本的设备，提高企业的经济效益、增加产品的竞争能力，化抛设备包括酸洗生产线、ag玻璃蚀刻线、单面化抛生产线、脱油墨槽、双面化抛生产线、清洗烤干一体线、空压机和真空包装机。
[0064]
刻线生产线各槽体用水排水如下：
[0065]
[0066][0067]
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
[0068]
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。