一种高折射率光学玻璃及其制备装置的制作方法

1.本发明属于玻璃制备装置技术领域，具体地说，涉及一种高折射率光学玻璃及其制备装置。


背景技术：

2.在光学玻璃的制造过程中一般流程为：将原料进行融化后的到粗制的玻璃渣，将粗制玻璃渣进行二次融化的到可以直接制作玻璃的玻璃液，在二次融化的过程中添加一定量的助溶剂和还原剂以改变玻璃的性质。
3.中国专利公开的一种光学玻璃及其制备方法(cn105502934b)中在得到玻璃渣后对其进行直接融化，由于玻璃渣的体积大小不一，这会导致玻璃渣的融化速度不均匀，容易造成玻璃渣不能彻底融化的缺点。


技术实现要素：

4.针对现有的光学玻璃制备时直接对玻璃渣进行融化容易造成融化不彻底同时增加融化时长的问题，本发明提供一种高折射率光学玻璃及其制备装置，通过在二次融化玻璃的工序中增加一道研磨装置，利用研磨装置将玻璃渣进行粉碎从而缩小玻璃渣融化的时长，同时添加氧化铅增加玻璃液密度，提高玻璃成品的折射率。
5.为解决上述问题，本发明采用如下的技术方案。
6.一种高折射率光学玻璃，包括玻璃主体，所述玻璃主体包括上层玻璃片以及下层玻璃片，且上层玻璃片和下层玻璃片之间夹杂有氧化铅层。
7.一种高折射率光学玻璃制备装置，包括处理箱所述处理箱的顶部安装有研磨箱，且在研磨箱的底部中心处开设有供玻璃粉通过的出料孔，对应的在所述的处理箱的内部上端设有承接玻璃原料的聚料板，且在聚料板的下方设有粉二次研磨机构，所述处理箱内壁并位于粉二次研磨机构的下方设有斜板，且斜板的下方设有输送带。
8.优选地，所述研磨箱的侧面安装有绞龙，且在绞龙的顶部设有进料口，所述研磨箱内开设有研磨槽，且研磨槽内放置有研磨头。
9.优选地，所述粉二次研磨机构包括安装架，且安装架的上表面一端固定设有固定板，所述安装架的上表面另一端滑动连接有活动板所述安装架一侧设有螺杆，且螺杆穿过活动板，所述螺杆另一端套接有手轮，且手轮贯穿处理箱的侧面。
10.优选地，所述固定板和活动板的上表面前后均对称设有连接片，且固定板通过连接片活动连接有第一摩擦辊，所述活动板通过连接片活动连接有第二摩擦辊。
11.优选地，所述安装架为框架结构，且固定板和活动板相对的一侧均开设有缺口，所述固定板和活动板的缺口长度和第一摩擦辊的长度相等。
12.优选地，所述第一摩擦辊的前表面连接有第一从动锥齿轮，且第二摩擦辊的前表面连接有第二从动锥齿轮，所述安装架前侧设有转轴，且转轴上套接有第一锥齿轮和第二锥齿轮，所述第一锥齿轮和第一从动锥齿轮啮合，且第二锥齿轮和第二从动锥齿轮啮合。
13.优选地，所述转轴一端连接有电机，且转轴上并位于第二锥齿轮的套接处设有限位条，且活动板侧面设有用于抵触第二锥齿轮的挡块。
14.有益效果
15.相比于现有技术，本发明的有益效果为：
16.(1)本发明中，通过在光学玻璃的原料内添加氧化铅，进一步在对原料融化时使氧化铅和玻璃液进行混合，从而提高玻璃的密度，当玻璃的密度提高时则玻璃的折射率也随之提高，铅是重金属元素，核外电子层次多，离子半径大，电子云容易变形，这些都决定了铅玻璃电阻大，介电损耗小，折射率和色散高，以及吸收高能辐射等一系列特性，氧化铅在玻璃中作为助熔剂辅助玻璃原料融化促进玻璃提高密度。
17.(2)本发明中，通过设置的研磨箱可以将注水冷却后的玻璃渣进行粉碎，从而有利于后期融化，同时也能够使原料和氧化铅充分混合，进而在二次融化时提高玻璃粉的融化速度以及增加玻璃液的密度，相比较于破碎装置，本技术中的研磨机构能够更好的对玻璃渣进行细化，使玻璃粉的颗粒更小，更加便于融化。
18.(3)本发明中，通过设置的粉二次研磨机构可以针对遗漏的玻璃渣进行进一步的粉碎，利用两个摩擦辊之间的相互摩擦从而的到细化的玻璃粉，在摩擦过程中还能够对氧化铅和玻璃粉起到一定的混合作用，从而得到均匀的混合料，其中两个摩擦辊之间可以进行间距的调节吗，使得更够的到尺寸不同的玻璃粉，以便用于不同的行业。
附图说明
19.图1为本发明中光学玻璃及其制备装置结构示意图；
20.图2为本发明中光学玻璃及其制备装置中研磨剖视结构示意图；
21.图3为本发明中光学玻璃及其制备装置中处理箱内部结构示意图；
22.图4为本发明中光学玻璃及其制备装置中粉二次研磨机构结构示意图；
23.图5为本发明中光学玻璃及其制备装置中粉二次研磨机构调节结构示意图
24.图6为本发明中一种高折射率光学玻璃结构示意图。
25.图中各附图标注与部件名称之间的对应关系如下：1、研磨箱；2、进料口；3、处理箱；4、输送带；5、电机；6、手轮；7、绞龙；8、研磨头；9、研磨槽；10、出料孔；11、聚料板；12、粉二次研磨机构；13、斜板；14、第一摩擦辊；15、固定板；16、安装架；17、转轴；18、第一锥齿轮；19、第二锥齿轮；20、限位条；21、螺杆；22、活动板；23、第二从动锥齿轮；24、第一从动锥齿轮；25、第二摩擦辊；26、连接片；27、玻璃主体；271、上层玻璃片；272、氧化铅层；273、下层玻璃片。
具体实施方式
26.下面结合具体发明对本发明进一步进行描述。
27.在示图1、2、4和5中提供了一种光学玻璃制备装置，包括研磨箱1，研磨箱1的侧面安装有绞龙7，在绞龙7的顶部设有进料口2，在研磨箱1内开设有研磨槽9，磨箱1内部底端开设有出料孔10，研磨槽9内放置有研磨头8，且研磨箱1的下方设有粉二次研磨机构12，粉二次研磨机构12包括安装架16，且安装架16的上表面一端固定设有固定板15，在安装架16的上表面另一端滑动连接有活动板22，且固定板15和活动板22的上表面前后对称设有连接片
26，固定板15通过连接片26活动连接有第一摩擦辊14，活动板22通过连接片26活动连接有第二摩擦辊25，且第一摩擦辊14的前表面通过连轴固定套接有第一从动锥齿轮24，且在第二摩擦辊25的前表面通过连轴固定套接有第二从动锥齿轮23，同时在安装架16的前侧设有转轴17，在转轴17上套接有第一锥齿轮18和第二锥齿轮19，且在转轴17上位于第二锥齿轮19的套接触设有限位条20，在转轴17的端部连接有电机5，同时安装架16一侧设有手轮6，手轮5的侧面连接有螺杆15，且螺杆15贯穿活动板22，当玻璃渣通过进料口2进入绞龙7时，通过绞龙7将玻璃渣送入到研磨箱1内的研磨槽9内，此时研磨头8开始工作对玻璃渣进行研磨，利用研磨头8下表面设置的金刚石颗粒摩擦玻璃渣得到粗制玻璃粉，粗制玻璃粉通过出料孔10落到第一摩擦辊14和第二摩擦辊25之间进行精细粉碎得到更加细腻的玻璃粉在此过程中还能够将氧化铅和玻璃粉进一步进行混合，其中第二摩擦辊25可以根据需求进行调节使第二摩擦辊25和第一摩擦辊14的间距不同从而得到不同尺寸的玻璃粉，其调节过程为：通过手轮6带动螺杆21进行转动，当螺杆21在转动的过程中带动活动板22进行水平运动，当活动板22进行水平运动的2过程中进一步带动由连接片26连接的第二摩擦辊25进行间距调节，同时第一摩擦辊14和第二摩擦辊25的滚动操作流程为：通过电机5带动转轴17进行转动，通过转轴17的转动带动第一锥齿轮18和第二锥齿轮19进行同步转动，进而通过第一锥齿轮18带动第一从动锥齿轮24转动进而使第一摩擦辊14滚动，通过第二锥齿轮19带动第二从动锥齿轮23转动，进一步带动第二摩擦辊25转动，通过第一摩擦辊14和第二摩擦辊25进一步对玻璃渣进行粉碎，在此过程中由于活动板22可以移动，因此安装在活动板22顶部的第二摩擦辊25随之运动，同时带动第二从动锥齿轮23运动，通过第二从动锥齿轮23推动第二锥齿轮19运动，因此第二锥齿轮19需要在转轴17能够自由活动，为了防止转轴17转动时能够带动二锥齿轮19转动，所以在转轴17上设有用于约束第二锥齿轮19的限位条20。
28.在图3中，在处理箱3内部并位于粉二次研磨机构12的上方设有聚料板11，且聚料板11呈倒置锥形结构，同时在处理箱3内部并位于粉二次研磨机构12的下方设有斜板13，且斜板13的下端设有输送带4。
29.在图6中，一种高折射率光学玻璃，包括玻璃主体27，所述玻璃主体27包括上层玻璃片271以及下层玻璃片273，且上层玻璃片271和下层玻璃片273之间夹杂有氧化铅层272，通过氧化铅层272增加括玻璃主体27密度提高折射率。
30.工作原理：在的到粗制玻璃之后将玻璃渣通过进料口2进入绞龙7时，通过绞龙7将玻璃渣送入到研磨箱1内的研磨槽9内，此时研磨头8开始工作对玻璃渣进行研磨，利用研磨头8下表面设置的金刚石颗粒摩擦玻璃渣得到粗制玻璃粉，粗制玻璃粉通过出料孔10落到第一摩擦辊14和第二摩擦辊25之间进行精细粉碎，通过电机5带动转轴17进行转动，通过转轴17的转动带动第一锥齿轮18和第二锥齿轮19进行同步转动，进而通过第一锥齿轮18带动第一从动锥齿轮24转动进而使第一摩擦辊14滚动，通过第二锥齿轮19带动第二从动锥齿轮23转动，进一步带动第二摩擦辊25转动，通过第一摩擦辊14和第二摩擦辊25进一步对玻璃渣进行粉碎，在研磨期间根据需求可以调节第一摩擦辊14和第二摩擦辊25之间的间距，从而的到颗粒不同的玻璃粉，通过手轮6带动螺杆21进行转动，当螺杆21在转动的过程中带动活动板22进行水平运动，当活动板22进行水平运动的2过程中进一步带动由连接片26连接的第二摩擦辊25进行间距调节，在此过程中由于活动板22可以移动，因此安装在活动板22顶部的第二摩擦辊25随之运动，同时带动第二从动锥齿轮23运动，通过第二从动锥齿轮23
推动第二锥齿轮19运动，因此第二锥齿轮19需要在转轴17能够自由活动，为了防止转轴17转动时能够带动二锥齿轮19转动，所以在转轴17上设有用于约束第二锥齿轮19的限位条20，同时为防止第二锥齿轮19不能复位在活动板22一侧设有挡块。
31.以上内容是结合具体实施方式对本发明作进一步详细说明，不能认定本发明具体实施只局限于这些说明，对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明的构思的前提下，还可以做出若干简单的推演或替换，都应当视为属于本发明所提交的权利要求书确定的保护范围。