一种CVD法制备碳纳米管进气喷口的制作方法

一种cvd法制备碳纳米管进气喷口
技术领域
1.本技术涉及化学气相沉积炉技术领域，具体而言，涉及一种cvd法制备碳纳米管进气喷口。


背景技术：

2.cvd又称化学气相沉积，是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料，目前，基本均通过化学气相沉积炉进行化学气相沉积制备，在实际使用时，一般需要导入多种气体，例如：保护气体和碳源气体，但是，参考常规的化学气相沉积炉设计，多种气体进入炉体中时，混合并不够均匀，影响反应效果，同时，也影响整体制备的品质。


技术实现要素：

3.为了弥补以上不足，本技术提供了一种cvd法制备碳纳米管进气喷口，旨在改善化学气相沉积炉进气喷口无法对气体进行均匀混合的问题。
4.本技术实施例提供了一种cvd法制备碳纳米管进气喷口，包括炉体和混合件。
5.所述混合件包括抽气泵、混合箱、第一进气管和第二进气管，所述抽气泵出气端与所述炉体连通，所述第一进气管连通于所述混合箱底部，所述混合箱内分别开设有进气槽和出气槽，所述进气槽与所述第二进气管连通，所述混合箱内转动连接有混合辊，所述混合辊与所述进气槽出气口对应设置，所述混合箱内固定连接有混合球，所述混合球与所述第一进气管出气端对应设置，所述出气槽与所述混合箱之间均间隔分布有出气孔，且所述抽气泵进气端与所述出气槽连通。
6.在上述实现过程中，通过炉体进行加工，通过第一进气管和第二进气管与外部气源连通，通过第一进气管与第二进气管输送气体，输送过程中，通过第一进气管的气体被送入到混合球内，通过混合球分散排出，通过第二进气管输送的气体通过进气槽最终分散排出，通过混合辊与所述进气槽出气口对应设置的设计，最终驱动混合辊转动，使其对气体进行充分混合，当气体流量无法驱动混合辊转动时，通过进气槽分散和混合球分散同样加强气体之间的稀释混合，同时，通过出气孔间隔分布设置以及出气槽和出气管配合，最终便于进入到出气管内的气体充分混合，通过抽气泵送入到炉体内，通过本装置的设计，整体设计优化常规的炉体的设计，使其在实际使用时，可以对通入的气体进行充分的混合，降低影响反应的效果，同时，一定程度上避免对品质的影响。
7.在一种具体的实施方案中，所述抽气泵底部设置有支撑块，所述支撑块固定连接于所述炉体侧壁。
8.在上述实现过程中，通过支撑块固定连接于所述炉体侧壁设计，使其通过炉体对支撑块支撑，抽气泵放置于支撑块上表面。
9.在一种具体的实施方案中，所述混合箱侧壁设置有压力表，所述压力表一端贯穿
于所述混合箱且延伸至内部。
10.在上述实现过程中，通过压力表设置便于知晓混合箱内的气体压力情况。
11.在一种具体的实施方案中，所述混合箱底部四周均固定连接有支撑腿。
12.在上述实现过程中，通过支撑腿设计实现对混合箱的支撑，支撑腿设置为四个。
13.在一种具体的实施方案中，所述混合辊包括辊体和支撑叶，所述辊体转动连接于所述混合箱内，所述支撑叶等角度分布于所述辊体外壁。
14.在上述实现过程中，通过辊体转动带动支撑叶转动，实际使用时，通过混合辊与进气槽对应设置，通过第二进气管对混合箱内部冲入气体，通过气体和支撑叶配合带动辊体和支撑叶转动，使其混合。
15.在一种具体的实施方案中，所述混合球包括球体，所述球体固定连接于所述混合箱内，且所述球体外壁开设有通孔。
16.在上述实现过程中，通过球体和通孔设计，使其通过第一进气管的气体通过通孔分散排出，使其便于混合。
17.在一种具体的实施方案中，所述球体底部开设有缺口，所述缺口与所述通孔连通，且所述缺口与所述第一进气管出气端对应设置。
18.在上述实现过程中，通过所述缺口与所述第一进气管出气端对应设置的设计，使其通过第一进气管排出的气送入到缺口内，再通过通孔分散，使其与第二进气管排出的气体进行混合，实际使用时，当辊体和支撑叶未转动时，通过通孔分散的气体也可以与第二进气管排出的气进行混合。
19.在一种具体的实施方案中，所述进气槽底部间隔分布有排气孔，所述排气孔与所述混合箱连通。
20.在上述实现过程中，通过排气孔间隔分布开设，使其便于把气体进行分散，便于后续的混合，同时，排气孔与支撑叶对应设置。
21.在一种具体的实施方案中，所述出气槽侧壁连通有出气管，所述出气管与所述抽气泵进气端连通。
22.在上述实现过程中，通过出气管与所述抽气泵进气端连通设计，使其混合完成的气体通过出气管排出，同时，出气槽开设有两个，出气管与两个出气槽连通。
23.在一种具体的实施方案中，所述第一进气管外壁设置有第一止回阀，所述第二进气管外部设置有第二止回阀。
24.在上述实现过程中，通过第一止回阀和第二止回阀设计防止气体回流。
附图说明
25.为了更清楚地说明本技术实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
26.图1是本技术实施方式提供的主视结构示意图；
27.图2为本技术实施方式提供的混合箱主视剖视结构示意图；
28.图3为本技术实施方式提供的混合辊俯视结构示意图；
29.图4为本技术实施方式提供的混合球仰视结构示意图。
30.图中：100-炉体；200-混合件；210-抽气泵；211-支撑块；220-混合箱；221-压力表；222-支撑腿；223-混合辊；2231-辊体；2232-支撑叶；224-进气槽；2241-排气孔；225-混合球；2251-球体；2252-通孔；2253-缺口；226-出气槽；2261-出气孔；227-出气管；230-第一进气管；231-第一止回阀；240-第二进气管；241-第二止回阀。
具体实施方式
31.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行描述。
32.为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
33.因此，以下对在附图中提供的本技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
34.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
35.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
36.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
37.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
38.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
39.请参阅图1，本技术提供一种cvd法制备碳纳米管进气喷口，包括炉体100和混合件200。
40.其中，通过炉体100加工，通过混合件200对气体进行混合再送入到炉体100内。
41.请参阅图1、图2、图3和图4，混合件200包括抽气泵210、混合箱220、第一进气管230和第二进气管240，抽气泵210出气端与炉体100连通，第一进气管230连通于混合箱220底部，抽气泵210底部设置有支撑块211，支撑块211固定连接于炉体100侧壁，通过支撑块211固定连接于炉体100侧壁设计，使其通过炉体100对支撑块211支撑，抽气泵210放置于支撑块211上表面，混合箱220侧壁设置有压力表221，压力表221一端贯穿于混合箱220且延伸至内部，通过压力表221设置便于知晓混合箱220内的气体压力情况，混合箱220底部四周均固定连接有支撑腿222，通过支撑腿222设计实现对混合箱220的支撑，支撑腿222设置为四个。
42.在本技术文件中，混合箱220内分别开设有进气槽224和出气槽226，进气槽224底部间隔分布有排气孔2241，排气孔2241与混合箱220连通，通过排气孔2241间隔分布开设，使其便于把气体进行分散，便于后续的混合，同时，排气孔2241与支撑叶2232对应设置，进气槽224与第二进气管240连通，混合箱220内转动连接有混合辊223，混合辊223与进气槽224出气口对应设置，混合辊223包括辊体2231和支撑叶2232，辊体2231转动连接于混合箱220内，支撑叶2232等角度分布于辊体2231外壁，通过辊体2231转动带动支撑叶2232转动，实际使用时，通过混合辊223与进气槽224对应设置，通过第二进气管240对混合箱220内部冲入气体，通过气体和支撑叶2232配合带动辊体2231和支撑叶2232转动，使其混合。
43.在本实施例中，混合箱220内固定连接有混合球225，混合球225与第一进气管230出气端对应设置，混合球225包括球体2251，球体2251固定连接于混合箱220内，且球体2251外壁开设有通孔2252，通过球体2251和通孔2252设计，使其通过第一进气管230的气体通过通孔2252分散排出，使其便于混合，球体2251底部开设有缺口2253，缺口2253与通孔2252连通，且缺口2253与第一进气管230出气端对应设置，通过缺口2253与第一进气管230出气端对应设置的设计，使其通过第一进气管230排出的气送入到缺口2253内，再通过通孔2252分散，使其与第二进气管240排出的气体进行混合。
44.在具体设置时，实际使用时，当辊体2231和支撑叶2232未转动时，通过通孔2252分散的气体也可以与第二进气管240排出的气进行混合，出气槽226与混合箱220之间均间隔分布有出气孔2261，且抽气泵210进气端与出气槽226连通，出气槽226侧壁连通有出气管227，出气管227与抽气泵210进气端连通，通过出气管227与抽气泵210进气端连通设计，使其混合完成的气体通过出气管227排出，同时，出气槽226开设有两个，出气管227与两个出气槽226连通，第一进气管230外壁设置有第一止回阀231，第二进气管240外部设置有第二止回阀241，通过第一止回阀231和第二止回阀241设计防止气体回流。
45.具体的，该cvd法制备碳纳米管进气喷口的工作原理：使用时，通过炉体100进行加工，通过第一进气管230和第二进气管240与外部气源连通，通过第一进气管230与第二进气管240输送气体，输送过程中，通过第一进气管230的气体被送入到缺口2253内，通过通孔2252分散排出，通过第二进气管240输送的气体通过进气槽224最终通过排气孔2241分散排出，最终驱动辊体2231和支撑叶2232转动，使其对气体进行充分混合，当气体流量无法驱动辊体2231和支撑叶2232转动时，通过排气孔2241分散和通孔2252分散同样加强气体之间的稀释混合，同时，通过出气孔2261间隔分布设置以及出气槽226和出气管227配合，最终便于
进入到出气管227内的气体充分混合，通过抽气泵210送入到炉体100内，通过本装置的设计，整体设计优化常规的炉体100的设计，使其在实际使用时，可以对通入的气体进行充分的混合，降低影响反应的效果，同时，一定程度上避免对品质的影响。
46.需要说明的是，炉体100具体的型号规格需根据该装置的实际规格等进行选型确定，具体选型计算方法采用本领域现有技术，故不再详细赘述。
47.炉体100的供电及其原理对本领域技术人员来说是清楚的，在此不予详细说明。
48.以上所述仅为本技术的实施例而已，并不用于限制本技术的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
49.以上所述，仅为本技术的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本技术的保护范围之内。因此，本技术的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。