一种热反射型自清洁玻璃的制作方法

1.本实用新型涉及一种热反射型自清洁玻璃，属于新型玻璃技术领域。


背景技术：

2.玻璃是非晶无机非金属材料，一般是用多种无机矿物为主要原料，另外加入少量辅助原料制成的，广泛应用于建筑物，用来隔风透光，属于混合物。随着科学技术的不断进步，人们开始对室内的遮阳效果提出较高要求，来增加舒适度。而且随着楼体建筑不断增高。清洁一次整个楼体的玻璃幕墙价格非常昂贵，而且对施工的人身安全有好很大隐患。于是人们发明了自清洁玻璃。传统的溶胶一凝胶工艺、真空沉积工艺虽然能够达到较好的自洁效果，但不能满足目前玻璃幕墙的遮阳效果，因此需要一种遮阳性强的自清洁玻璃。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是提供一种热反射型自清洁玻璃。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
5.一种热反射型自清洁玻璃，包括依次堆叠的五层；第一层为玻璃板；第二层为内介质层；第三层为反射层；第四层为外介质层；第五层为自洁层；自洁层位于最外层；第二层的介质层为sinx；反射层为nbn、第四层的介质层为sinx；自洁层为tio2。
6.本实用新型进一步的改进为：第一层为3-19mm的膜面平板玻璃。
7.由于采用了上述技术方案，本实用新型取得的技术效果有：
8.本实用新型不仅解决了玻璃的自洁功能，更增强了遮阳效果，来提高舒适性。
9.本实用新型能够大面积生产加工，大大提高了效率和质量的稳定性，降低了成本，其膜层的牢固度、以及抗酸碱性都非常强，颜色稳定。
附图说明
10.图1是本实用新型结构示意图；
11.其中，1、第一层，2、第二层，3、第三层，4、第四层，5、第五层。
具体实施方式
12.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。
13.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
14.本实用新型克服了传统的溶胶——凝胶工艺、真空沉积工艺不能满足目前玻璃幕
墙既要达到自洁效果还要提高遮阳效果的要求，提供了一种用大面积玻璃镀膜生产线利用真空磁控溅射镀膜工艺，在真空环境下利用9个阴极靶位准确控制各功能层的厚度，来制成一种热反射自清洁玻璃膜层。
15.本实用新型是一种热反射型自清洁玻璃，包括依次堆叠的五层；第一层1为玻璃板；第二层2为内介质层；第三层3为反射层；第四层4为外介质层；第五层5为自洁层；自洁层位于最外层；第一层1为平板玻璃；第二层2的介质层为sinx；反射层为nbn、第四层4的介质层为sinx；自洁层tio2。在玻璃表面形成亲水性薄膜，达到自洁效果。
16.在具体的实施中，第一层为3-19mm的膜面平板玻璃。
17.本实用新型主要是通过玻璃表面的自结层形成亲水性薄膜，达到自洁效果的。
18.本实用新型用大面积玻璃镀膜生产线且利用真空磁控溅射镀膜工艺，在真空环境下利用9个阴极靶位准确控制各功能层的厚度，来制成可钢化热反射自清洁玻璃膜层。
19.本实用新型的玻璃，其遮阳系数可以达到(》0.27)并能达到自清洁效果。
20.本实用新型利用真空磁控溅射镀膜工艺，在2.0*10-3-4.5*10-3mbar的真空溅射环境，使用包括5个双管旋转交流阴极，4个单管旋转直流阴极，共9个靶位进行生产采用以下工艺参数。
21.[0022][0023]
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。


技术特征：
1.一种热反射型自清洁玻璃，其特征在于：包括依次堆叠的五层；第一层（1）为玻璃板；第二层（2）内为介质层；第三层（3）为反射层；第四层（4）为外介质层；第五层（5）为自洁层；自洁层位于最外层；第二层（2）的介质层为sinx；反射层为nbn、第四层（4）的介质层为sinx；自洁层为能够在玻璃表面形成亲水性薄膜的tio2层。2.根据权利要求1所述的一种热反射型自清洁玻璃，其特征在于：第一层（1）为3-19mm的膜面平板玻璃。

技术总结
本实用新型涉及一种热反射型自清洁玻璃，属于新型玻璃技术领域。包括依次堆叠的五层；第一层为玻璃板；第二层为介质层；第三层为反射层；第四层为介质层；第五层为自洁层；自洁层位于最外层；第二层的介质层为SiNx；反射层为NbN、第四层的介质层为SiNx；自洁层为TiO


技术研发人员：杨宏斌 张振兴 李忠祥 齐丽婧 李玉忠 冷庆吉
受保护的技术使用者：河北物华天宝镀膜科技有限公司
技术研发日：2022.01.18
技术公布日：2022/6/3