本发明涉及高介电材料,具体涉及一种高介电陶瓷及其制备方法。
背景技术:
1、介电陶瓷材料因其优异的介电性能而得到广泛应用,如在微电子领域中电容器件要求材料具有高介电常数,微带天线中介质基板也是十分重要的组成部分。其中,钛酸锶是一种具有钙钛矿结构的中心对称的顺电态介质材料,是一种用于广泛的电子功能陶瓷材料,具有介电常数高、介电损耗低的优点。
2、然而,这样的电体陶瓷材料,其结构脆性大,容易损毁并且不易加工,导致在使用的过程中会出现大量的产品损毁,进而加大成本支出。
技术实现思路
1、本发明实施例提供了一种高介电陶瓷及其制备方法,用于解决背景技术提出的问题。
2、鉴于上述问题,本发明提出的技术方案是:
3、一种高介电陶瓷,由以下原料组成:氧化镁50~60份、二氧化硅60~70份、氮化硅30~40份、烧结助剂10~20份、二氧化钛1~10份以及钛酸盐15~30份。
4、一种高介电陶瓷的制备方法,包括以下步骤:
5、s1、配比原料:首先,使用多个同一规格的容器分别称取氧化镁、二氧化硅与氮化硅,再将各个容器内部的原料集中到搅拌罐中,使其进行时长为1~2h的搅拌混合,期间,间断性添加造孔材料,在保障氧化镁、二氧化硅与氮化三种原料充分混合之后,再将其从搅拌罐转移到预备容器中;
6、s2、干燥研磨:将预备容器的混合原料加入去离子水和氧化锆球磨珠,并统一投放到研磨机中进行球磨,同时,并不间断添加聚乙烯醇,使其混合原料进行初步粘合,再将达到一定粘合程度的原料投放到干燥机中,经过时长为2~3h的干燥处理,再将干燥之后的粘合原料重新投放到预备容器;
7、s3、混料粘合:经过步骤s2的处理,再分别称取烧结助剂、二氧化钛与钛酸盐,使其投放到预备容器中,再将其密封,并投放到震荡机中进行混料混合,促使粘合原料进行二次高度粘合;
8、s4、模具塑形:从预备容器中称取适量的粘合原料,并投放到陶瓷模具中,再将其投放到压模机中进行塑形,从而获取陶瓷生胚;
9、s5、成品烧结:将陶瓷生胚放置到马弗炉内,使其进行时长为6~12h的烧结,再将完成烧结的成品从窑炉中转移出,使其进行自然冷却,从而获取高介电陶瓷成品。
10、为了更好的实现本发明技术方案,还采用了如下技术措施。
11、进一步的,在步骤s1中,所述造孔材料可以为碳粉、碳酸氢铵和高分子碳水化合物中的任意一种,并且所述氮化硅的粒径为0.5~1.5μm。
12、进一步的,在步骤s1中,所述搅拌罐采用滚筒式搅拌结构,且功率控制在50~70kw。
13、进一步的,在步骤s2中,称量离子水与氧化锆球磨珠质量比为1:2。
14、 6、根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s3中,所述钛酸盐可以为钛酸钙、钛酸钡与钛酸镁任意一种,所述二氧化钛与钛酸盐构成高介电组。
15、进一步的,在步骤s3中,所述烧结助剂的粒径<1.5μm,所述烧结助剂可以为氧化铝与稀土氧化物中的任意一种。
16、进一步的,在步骤s4中,所述陶瓷模具呈圆柱状,且所述陶瓷模具的内壁设有脱模剂。
17、进一步的,在步骤s5中,所述马弗炉的内部的锻烧温度控制600~800℃。
18、进一步的,在步骤s5中,自然冷却的时长控制在24~36h。
19、相对于现有技术而言,本发明的有益效果是:
20、本发明利用粘结剂进行造粒,因此可得到匀质坯体,烧结后,大量的造空材料碳化后留下气孔,使得整体的材料的介电性能优良,其次,通过氧化镁和石英反应生成硅酸镁晶体,从而使整体材料的强度增加,有效改良了现有陶瓷的脆性缺点,并且热学性能也得到改善。
21、上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本发明的具体实施方式。
1.一种高介电陶瓷,其特征在于,由以下原料组成:氧化镁50~60份、二氧化硅60~70份、氮化硅30~40份、烧结助剂10~20份、二氧化钛1~10份以及钛酸盐15~30份。
2.根据权利要求1所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
3.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s1中,所述造孔材料可以为碳粉、碳酸氢铵和高分子碳水化合物中的任意一种,并且所述氮化硅的粒径为0.5~1.5μm。
4. 根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s1中,所述搅拌罐采用滚筒式搅拌结构,且功率控制在50~70kw 。
5.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s2中,称量离子水与氧化锆球磨珠质量比为1:2。
6.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s3中,所述钛酸盐可以为钛酸钙、钛酸钡与钛酸镁任意一种,所述二氧化钛与钛酸盐构成高介电组。
7.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s3中,所述烧结助剂的粒径<1.5μm,所述烧结助剂可以为氧化铝与稀土氧化物中的任意一种。
8.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s4中,所述陶瓷模具呈圆柱状,且所述陶瓷模具的内壁设有脱模剂。
9.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s5中,所述马弗炉的内部的锻烧温度控制600~800℃。
10.根据权利要求2所述的一种高介电陶瓷的制备方法,其特征在于:在步骤s5中,自然冷却的时长控制在24~36h。