一种可调孔结构PAN基电磁屏蔽炭膜的制备方法及搅拌装置

本发明涉及搅拌，特别是一种可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法及搅拌装置。

背景技术：

1、新型电磁屏蔽材料是一种抗静电材料，主要用在导电高分子材料的填充物，其中银是最早开发的导电填料。现有电磁屏蔽炭材料通常通过引入石墨烯，cnts通过模板法，沉积法等得到炭多孔材料，面临耗时较长，孔结构调整比较困难等现象。

2、而在电磁屏蔽材料的制备中，需要用到一种可将不同的液体和可溶解的固体颗粒进行搅拌，达到原料混合作用的搅拌装置。

3、搅拌叶片通常位于搅拌轴上，用于将搅拌能量传递给物料，使其均匀混合。提高搅拌效果，搅拌叶片多为扭曲形状，扭曲形状支撑的搅拌叶片可增加搅拌的剪切力和湍流效应。但因其扭曲形状，其自身强度也会受到一定影响，如若不在其外部设置环状护套，搅拌叶片有可能会产生形变而影响到搅拌效果。

4、不仅如此，现有的搅拌桶体，在搅拌过程中，很容易出现沉淀的情况，并且固体颗粒放入后容易沉淀在桶体底部，沉淀后的固体溶解速度大大降低，很容易导致搅拌不均匀的情况，影响搅拌的正常进行。

技术实现思路

1、鉴于现有技术中所存在的问题，提出了本发明。

2、为解决上述技术问题，本发明提供如下技术方案：一种可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法，包括，将pan溶液和致孔剂加入到溶剂，并一同加入至搅拌装置内，并在60-100℃下搅拌12h，得到均一pan溶液；均一pan溶液静置12h或者放入真空烘箱中，将烘箱真空度抽至-0.08mpa,静置10-30min直至溶液中的气泡完全脱出；在温度20-28℃，湿度45-70％下，使用涂膜机以0.5-5m/min速度将均一pan溶液均匀的刮涂在玻璃板上，在玻璃板上停留0.5-20min后进入非溶剂凝固浴中进行非溶剂诱导相分离，形成多孔结构pan膜；将制得的pan膜干燥后，加pan膜放入氧化炉中，以1℃/min-10℃/min的升温速率升温至180-280℃，停留60-150min后自然冷却，得到预氧化pan膜；将预氧化后的pan膜放入气氛炉中，在惰性气体保护下以3℃/min-10℃/min的速率升温至1000-2000℃，停留60-180min后惰性气体保护自然冷却，即得不同多孔结构的高电磁屏蔽效率炭薄膜。

3、作为本发明所述可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法的一种优选方案，其中：其中，pan溶液为10-25wt％，而致孔剂为2-15wt％，并且致孔剂为pvp、吐温或peg。

4、本发明的有益效果：本发明制备的不同结构的多孔炭膜电磁屏蔽效率可达到50-70db，电导率达到3s/mm-12s/mm。由于炭膜特殊孔结构，该炭膜的屏蔽机理主要以电磁波吸收为主，其吸收强度可高达45-60db,电磁波反射效率低至12db以下。

5、为解决上述技术问题，本发明还提供如下技术方案：一种搅拌装置，包括有，装载组件，包括搅拌桶体，其端部为开口设计；以及，搅拌组件，包括有可与所述搅拌桶体可拆卸连接的盖板、转动设于所述盖板端部的搅拌杆、圆周阵列于所述搅拌杆外壁的搅拌叶，以及分别套设于所述搅拌叶两侧的底护环和顶护环。

6、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：还包括有底推组件，且所述底推组件包括有活动设置于所述搅拌桶体内的传动环、设于所述传动环内的连接板和活动设置于所述搅拌桶体内端面的若干个推板。

7、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述底护环的端面开设有传动端，且所述传动端呈倾斜状，所述传动环的内壁转动设置有可与所述传动端发生活动配合的传动轮。

8、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述传动环的内壁阵列螺接有若干个固定柱，且各个所述固定柱的一端均与所述连接板连接。

9、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述连接板的端面贯穿开设有若干个容纳槽，且每个所述容纳槽内均设置有转杆，各个所述转杆的一端与各个所述推板的外壁铰接。

10、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述推板的外壁一体成型有破流板，所述搅拌桶体的内壁开设有可与所述推板发生滑动配合的连接滑槽。

11、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述搅拌桶体的内壁开设有可供所述传动环发生位移的活动槽，且所述活动槽内壁与所述传动环之间设置有弹性件。

12、作为本发明所述搅拌装置的一种优选方案，其中：所述盖板内设置有电机，且所述电机的输出端与所述搅拌杆连接，所述盖板的外壁开设有扣手槽，所述搅拌叶的外壁贯穿开设有通孔。

13、本发明的有益效果：本发明所提供的搅拌装置，在搅拌叶的首尾两端均设置有护套，在提高搅拌叶片的结构强度的同时，还能作为底推组件的动力源，带动底推组件进入运动状态，从而避免桶体底部搅拌不均匀现象，有效解决现有技术中所存在的问题。

技术特征：

1.一种可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法，其特征在于：包括，

2.如权利要求1所述的可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法，其特征在于：其中，pan溶液为10-25wt％，而致孔剂为2-15wt％，并且致孔剂为pvp、吐温或peg。

3.一种搅拌装置，其特征在于：包括权利要求1～2任一所述的可调孔结构pan基电磁屏蔽炭膜的制备方法，包括有，

4.如权利要求3所述的搅拌装置，其特征在于：还包括有底推组件(300)，且所述底推组件(300)包括有活动设置于所述搅拌桶体(101)内的传动环(301)、设于所述传动环(301)内的连接板(302)和活动设置于所述搅拌桶体(101)内端面的若干个推板(303)。

5.如权利要求4所述的搅拌装置，其特征在于：所述底护环(203)的端面开设有传动端(203b)，且所述传动端(203b)呈倾斜状，所述传动环(301)的内壁转动设置有可与所述传动端(203b)发生活动配合的传动轮(301a)。

6.如权利要求4所述的搅拌装置，其特征在于：所述传动环(301)的内壁阵列螺接有若干个固定柱(301b)，且各个所述固定柱(301b)的一端均与所述连接板(302)连接。

7.如权利要求4所述的搅拌装置，其特征在于：所述连接板(302)的端面贯穿开设有若干个容纳槽(302a)，且每个所述容纳槽(302a)内均设置有转杆(302a-1)，各个所述转杆(302a-1)的一端与各个所述推板(303)的外壁铰接。

8.如权利要求7所述的搅拌装置，其特征在于：所述推板(303)的外壁一体成型有破流板(303a)，所述搅拌桶体(101)的内壁开设有可与所述推板(303)发生滑动配合的连接滑槽(102)。

9.如权利要求6所述的搅拌装置，其特征在于：所述搅拌桶体(101)的内壁开设有可供所述传动环(301)发生位移的活动槽(101a)，且所述活动槽(101a)内壁与所述传动环(301)之间设置有弹性件(301c)。

10.如权利要求1所述的搅拌装置，其特征在于：所述盖板(201)内设置有电机，且所述电机的输出端与所述搅拌杆(201a)连接，所述盖板(201)的外壁开设有扣手槽(201b)，所述搅拌叶(202)的外壁贯穿开设有通孔(202a)。

技术总结
本发明涉及搅拌技术领域，特别是一种可调孔结构PAN基电磁屏蔽炭膜的制备方法及搅拌装置，包括有，装载组件，包括搅拌桶体，其端部为开口设计；以及，搅拌组件，包括有可与所述搅拌桶体可拆卸连接的盖板、转动设于所述盖板端部的搅拌杆、圆周阵列于所述搅拌杆外壁的搅拌叶，以及分别套设于所述搅拌叶两侧的底护环和顶护环，本发明所提供的搅拌装置，在搅拌叶的首尾两端均设置有护套，再提高搅拌叶片的结构强度的同时，还能作为底推组件的动力源，带动底推组件进入运动状态，从而避免桶体底部搅拌不均匀现象，有效解决现有技术中所存在的问题。

技术研发人员：刘珊,秦舒浩,廖龙凤
受保护的技术使用者：贵州理工学院
技术研发日：
技术公布日：2024/4/22