本申请涉及电子设备可折叠玻璃盖板的,具体是涉及一种电子设备、玻璃盖板及其制备方法。
背景技术:
1、折叠屏手机、可折叠眼镜等电子设备,其显示屏表面覆盖的玻璃盖板一般为等厚结构,该种结构主要存在以下问题,如果将厚度做的比较厚,则弯折区域容易发生碎裂,如果将厚度做的比较薄,则无法实现对显示屏的有效防护。
技术实现思路
1、本申请实施例第一方面提供了一种玻璃盖板的制备方法,所述制备方法包括:
2、提供一玻璃基板;
3、在所述玻璃基板的局部区域进行减薄处理;
4、对局部减薄处理后的玻璃基板进行离子强化处理。
5、第二方面,本申请实施例提供一种玻璃盖板,所述玻璃盖板采用上述实施例中所述的方法制备获得。
6、第三方面,本申请实施例提供一种电子设备,所述电子设备包括上述实施例中所述的玻璃盖板。
7、本申请实施例提供的玻璃盖板的制备方法,通过将玻璃盖板做成不等厚的结构,厚度较大区域可以实现对显示屏的可靠防护,而弯折区域为厚度较小区域,有利于弯折,防止弯折区发生碎裂,另外,通过对玻璃盖板进行离子强化处理,可以提高其整体强度,进而提高使用寿命。
1.一种玻璃盖板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述在所述玻璃基板的局部区域进行减薄处理的步骤包括:对所述玻璃基板的局部区域进行热锻处理。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述热锻处理包括:
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述将装载玻璃基板的模具加热至玻璃化转变区域的温度的步骤中,加热速度为小于50℃/秒;所述压合模具使加热软化的玻璃盖板不等厚成型的步骤中,压合压力为20-100kg,保压时间大于2秒。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述在所述玻璃基板的局部区域进行减薄处理的步骤包括:对所述玻璃基板的局部区域进行化学蚀刻减薄。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述化学蚀刻减薄的步骤包括:根据待减薄的位置以及厚度参数将所述玻璃基板沿竖直方向多次插入化学蚀刻液中。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述化学蚀刻减薄的步骤还包括:根据待减薄的位置以及厚度参数对所述玻璃基板进局部遮挡。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述化学蚀刻减薄的步骤还包括:根据减薄区与非减薄区的连接区形状控制所述玻璃基板插入或者移出所述化学蚀刻液内的速度。
9.根据权利要求1-8任一项所述的制备方法,其特征在于,所述对局部减薄处理后的玻璃基板进行离子强化处理的步骤包括:
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述将玻璃基板在等离子溶液中浸泡预设时间后并烘干的步骤中,所述等离子溶液的温度为40℃~100℃,浸泡预设时间为10~60min。
11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述将烘干后的玻璃基板置于烤箱中进行预加热的步骤中,预加热时间为5~30min,温度为280℃~400℃。
12.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述置于强化炉中进行离子交换的步骤中,所述强化炉中设有熔融混盐;处理时间为5min~20min,温度为350℃~400℃,k+浓度为70%~99%,na+浓度为0.5%~20%,li+浓度为0.1%~10%。
13.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述对局部减薄处理后的玻璃基板进行离子强化处理的步骤还包括:
14.根据权利要求13所述的制备方法,其特征在于,所述置于二次强化炉中进行离子交换的步骤中,处理时间为10s~200s,温度为350℃~400℃,k+浓度为>90%。
15.根据权利要求13所述的制备方法,其特征在于,所述对局部减薄处理后的玻璃基板进行离子强化处理的步骤还包括:对玻璃基板进行化抛。
16.根据权利要求1-8任一项所述的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括:对玻璃基板减薄一侧进行填胶,以使得表面平整。
17.根据权利要求16所述的制备方法,其特征在于,所述对玻璃基板减薄一侧进行填胶的步骤中,胶水涂布多次,且涂布胶水的模量依次增大。
18.一种玻璃盖板,其特征在于,所述玻璃盖板采用权利要求1-17任一项所述的方法制备获得。
19.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括权利要求18所述的玻璃盖板。