一种可钢化的金色单银low-e玻璃的制作方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种可钢化的金色单银L0W-E玻璃。
【【背景技术】】
[0002]镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的单重功效。而金色玻璃作为镀膜玻璃的一个非常规品种，深受人们喜爱。随着节能指标要求越来越高，在很多城市现有的金色单银L0W-E玻璃都已无法满足客户需求，再加上金色玻璃产品深受人们的热宠，即可钢化金色单银L0W-E玻璃的市场需求宠大，但由于金色L0W-E玻璃本身材料特性，无法进行钢化，一直以来未出现可钢化金色单银L0W-E玻璃。
【【实用新型内容】】
[0003]本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种可钢化，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，并且可承受800°C以上的高温，从而实现金色单银L0W-E玻璃可钢化。
[0004]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0005]—种可钢化的金色单银L0W-E玻璃，包括有玻璃基片30，其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层1，第二层为SSTZrOjl 2，第三层为ΑΖ0层3，第四层为Si层4，第五层为ΑΖ0层5，第六层为Ag层6，第七层为CrNx0y层7，第八层为SnOjg 8，第九层为Si 3N4层9，最外层为C层10。
[0006]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第一膜层Si3N4层1的厚度为20nm，第九层Si3N4层9的厚度为50nmo
[0007]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第二层SSTZrOjl 2的厚度为30?40nm。
[0008]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第三层ΑΖ0层3的厚度为10nm，第五层ΑΖ0层5的厚度为10?20nmo
[0009]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第四层Si层4的厚度为3?5nm。
[0010]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第六层Ag层6的厚度为 10 ?15nm。
[0011]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第七层CrNx0y层7的厚度为3nm。
[0012]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述第八层SnOjl 8的厚度为60nm。
[0013]如上所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃，其特征在于所述最外层C层10的厚度为 100nmo
[0014]与现有技术相比，本实用新型有如下优点:
[0015]1、本实用新型特殊膜系的金色单银L0W-E玻璃，采用新型膜系架构，提高了膜层硬度及致密性。
[0016]2、色泽鲜艳，而且透光率高，达到75%以上。
[0017]3、本实用新型采用最外层C层作为中转保护层，防止转运中被擦伤，从而实现可异地加工。
【【附图说明】】
[0018]图1是本实用新型结构示意图。
【【具体实施方式】】
[0019]—种可钢化的金色单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片30，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层1，第二层为SSTZrOJl 2，第三层为AZO层3，第四层为Si层4，第五层为AZO层5，第六层为Ag层6，第七层为CrNxOy层7，第八层为SnO 2层8，第九层为Si 3N4层9，最外层为C层10。
[0020]所述第一膜层为Si3N4层1，即氮化硅层；Si 3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料S1: Al = 92:8，密度96%，提高膜层的物理性能和抗氧化性能。Si3N4层的厚度为 20nm。Im = 10 9nm。
[0021]所述第二层SSTZrOJl即掺锆氧化不锈钢层，通过在不锈钢内掺锆，在反应溅射时提高膜层的折射率，达到2.0左右，从而提升复合膜系的透过率。作调节金色颜色层，可得到较黄的金色效果。SSTZrOJl 2的厚度为30?40nm，优选35nm。
[0022]所述第三层AZO层3，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，平滑Si层，为S1、Ag层作铺垫，降低辐射率。AZO层的厚度为10nm。
[0023]所述第四层Si层4，即硅层，为功能层，用来作为金色提供层。Si层的厚度为3?5nm，优选 4nm。
[0024]所述第五层AZO层5，即铝掺杂的氧化锌层，平整层，由于Si溅射后成簇状结构，通过用AZO层平滑Si层，为下层镀Ag起打底作用，为Ag层作铺垫，降低辐射率。AZO层的厚度为10?20nm，优选15nm。
[0025]所述第六层Ag层6，即金属银层，为功能层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。Ag层的厚度为10?15nm，优选12nm。
[0026]所述第七层CrNxOy层7，即氮氧化铬层，提高膜层耐磨性、提可钢化、提高钢化时抗高温氧化性。CrNxOy层7的厚度为3nm。
[0027]所述第八层SnOJl 8，即氧化锌层，为中间介质层，保护层。SnOjl 8的厚度为60nmo
[0028]所述第九层为Si3N4层9，即氮化硅层；Si 3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，设置在次外层作为保护整个膜层的第二道壁皇。用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料S1:Al =92:8，密度96%，提高膜层的物理性能和抗氧化性能。Si3N4层的厚度为50nm。
[0029]所述最外层C层10，即石墨层；顶层介质层，C是一种具有耐高温性、抗热震性且具有润滑性的材料，用来作为可钢化金色单银LOW-E玻璃的转运过程中的保护层，防止在转运过程中被擦伤，设置在最外层作为保护整个膜层的第一道壁皇。该层在钢化过程中会燃烧挥发，不贡献膜层的颜色及性能。c层的厚度为95?105nm，优选lOOnm。
[0030]Low-E玻璃也叫做低辐射镀膜玻璃。
[0031 ] 制备所述的可钢化的金色单银L0W-E玻璃的方法，包括如下步骤:
[0032](1)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶，硅铝质量百分比92:8，氩氮比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氮比决定了成膜的质量。磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比S1: A1=92:8 ;此处得到的是Si3N4，而金属A1是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属A1并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属A1混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层；
[0033](2)磁控溅射SSTZrOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射掺锆的不锈钢靶Fe:Zr = 80:20，氩氧比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量；
[0034](3)磁控溅射氧ΑΖ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn勒，即ΑΖ0勒，用氩气作为溅射气体，掺入少量氧气，氩氧比为:400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，为S1、Ag层作铺垫；
[0035](4)磁控溅射Si层，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500?550SCCM ；
[0036](5)磁控溅射ΑΖ0层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn勒，即ΑΖ0勒，用氩气作为溅射气体，掺入少量氧气，氩氧比为400SCCM?420SCCM:20?40SCCM，为Ag层作铺垫；
[0037](6)磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用氩气作为工艺气体，体流量500?550SCCM ;
[0038](7)磁控溅射CrNx0y层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，渗少量氧气；
[0039](8)磁控溅射SnOjl，用交流中频电源、氧气作反应气体溅射Sn靶，氩氧比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氧比决定了成膜的质量；
[0040](9)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射硅铝靶，硅铝质量百分比92:8，氩氮比为400SCCM?420SCCM:450SCCM?500SCCM，本步骤中氩氮比决定了成膜的质量。磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比S1: A1=92:8 ;此处得到的是Si3N4，而金属A1是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属A1并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属A1混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层；
[0041](10)磁控溅射C层，用直流电源，氩气作为反应气体溅射掺铝石墨靶，铝石墨质量百分比95:5，用氮气做反应气体，渗少量氧气。
【主权项】
1.一种可钢化的金色单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(30)，其特征在于:在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层(1)，第二层为SSTZrOJl (2)，第三层为AZO层(3)，第四层为Si层(4)，第五层为AZO层(5)，第六层为Ag层(6)，第七层为CrNxOy层(7)，第八层为SnO 2层⑶，第九层为Si 3N4层(9)，最外层为C层(10)。2.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层Si3NjlI⑴的厚度为20nm，第九层Si 3N4层(9)的厚度为50nmo3.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第二膜层SSTZrOx层(2)的厚度为30?40nm。4.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层AZO层⑶的厚度为10nm，第五层AZO层(5)的厚度10?20nmo5.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层Si层(4)的厚度为3?5nm06.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第六层Ag层(6)的厚度为10?Ιδηπ?ο7.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第七层CrNxOy层(7)的厚度为3nm。8.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述第八层SnO2层⑶的厚度为60nmo9.根据权利要求1所述的可钢化的金色单银LOW-E玻璃，其特征在于所述最外层C层(10)的厚度为95?105nm。
【专利摘要】本实用新型公开了一种可钢化的金色单银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有十个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层，第二层为SSTZrOX层，第三层为AZO层，第四层为Si层，第五层为AZO层，第六层为Ag层，第七层为CrNxOy层，第八层为SnO2层，第九层为Si3N4层，最外层为C层；本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供一种可钢化，色泽鲜艳，辐射率低，节能效果显著，并且可承受800℃以上的高温，从而实现金色单银LOW-E玻璃可钢化。
【IPC分类】C03C17/36
【公开号】CN205115292
【申请号】CN201520840227
【发明人】林改, 魏佳坤, 王宏志, 张青红, 何波, 侯成义
【申请人】揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年10月24日