本发明属于高分子技术领域，特别是指一种tio2-g-pmma的制备方法。
背景技术：
纳米二氧化钛(tio2)是一种硬度很高的填料，将其加入至聚烯烃中，能很好地提高复合材料的硬度，增加其耐磨性能。纳米tio2粒子由于粒径小，比表面积大，分散性好，表面活性高，与聚烯烃改性时能产生很强的界面作用，使得聚合物在韧性、刚性、强度等物理性能上得到很好的改善。
聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)是一种常用的热塑性树脂，其物理性能优异，表面硬度也很高，由于其价格低廉且易加工成型，因此得以广泛应用。
能否用纳米二氧化钛和聚甲基丙烯酸甲酯来改善聚稀烃，以提高聚烯烃的硬度，增加其耐磨性，而且还能对聚烯烃起到增强增韧的效果。相关此类物质的文献未见报道。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种tio2-g-pmma的制备方法，以扩展聚烯烃材料的用途，提高聚烯烃的物理性能及耐磨性能。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种tio2-g-pmma的制备方法，包括如下步骤：
1)称取纳米tio2，加入偶联剂kh570，超声波混合处理后，再加入乙醇溶液中并滴加一定量的醋酸溶液调节ph到3-5之间；
再将混合溶液恒温搅拌，冷却后固液分离，然后在真空干燥箱里干燥得到处理后的纳米tio2；
2)称取处理后的纳米tio2，过硫酸钾及甲基丙烯酸甲酯单体加入辛烷基苯酚聚氧乙烯醚、水和十二烷基苯磺酸钠，调节ph至9-11之间；70-90℃反应5-7小时，然后冷却至室温，抽滤干燥既得产物tio2-g-pmma。
其特征在于，所述步聚1)中的纳米tio2的质量为5-10g，乙醇的体积为150-200ml，偶联剂kh570的质量为2-4g。
所述超声波处理时间为1-2小时，恒温搅拌时间为6-8小时，恒温搅拌的温度为60-80℃，真空干燥箱的温度为100-120℃。
所述步聚2)中称取的处理后的纳米tio2的质量为3-5g，辛烷基苯酚聚氧乙烯醚的体积为0.5-1.5ml，水的体积为80-100ml，十二烷基苯磺酸钠的质量为0.1-0.4g，过硫酸钾的质量为0.1-0.3g，甲基丙烯酸甲酯单体的体积为3-5ml。
本发明的有益效果是：
本技术方案的tio2-g-pmma材料不但能提高聚烯烃的硬度，增加其耐磨性，而且还能对聚烯烃起到增强增韧的效果，有利于制得韧性和强度均佳的聚烯烃复合材料。
具体实施方式
以下通过实施例来详细说明本发明的技术方案，以下的实施例仅是示例性的，仅能用来解释和说明本发明的技术方案，而不能解释为是对本发明技术方案的限制。
实施例1
1)称取5g纳米tio2，加入2g偶联剂kh570，超声波混合处理1小时后，加入到150ml的乙醇中，再滴加一定量的醋酸溶液调节ph到3-5之间。再将混合溶液移入到三口烧瓶中，恒温60℃搅拌6小时，冷却后固液分离，然后在100℃的真空干燥箱里干燥得到处理后的纳米tio2。
2)称取3g处理后的纳米tio2，0.1g过硫酸钾(kps)及3ml甲基丙烯酸甲酯(mma)单体放入三口烧瓶中，加入0.5ml辛烷基苯酚聚氧乙烯醚(op-10)、80ml水和0.1g十二烷基苯磺酸钠，调节ph至9-11之间；升温至70℃反应5h，然后冷却至室温，抽滤干燥既得产物tio2-g-pmma。
实施例2
1)称取10g纳米tio2，加入4g偶联剂kh570，超声波混合处理2h后，加入到200ml的乙醇中，再滴加一定量的醋酸溶液调节ph到3-5之间。再将混合溶液移入到三口烧瓶中，恒温80℃搅拌8h，冷却后固液分离，然后在120℃的真空干燥箱里干燥得到处理后的纳米tio2。
2)称取5g处理后的纳米tio2，0.3g过硫酸钾(kps)及5ml甲基丙烯酸甲酯(mma)单体放入三口烧瓶中，加入1.5ml辛烷基苯酚聚氧乙烯醚(op-10)、100ml水和0.4g十二烷基苯磺酸钠，调节ph至9-11之间，升温至90℃反应7h，然后冷却至室温，抽滤干燥既得产物tio2-g-pmma。
实施例3
1)称取7.5g纳米tio2，加入3g偶联剂kh570，超声波混合处理1.5h后，加入到175ml的乙醇中，再滴加一定量的醋酸溶液调节ph到3-5之间。再将混合溶液移入到三口烧瓶中，恒温70℃搅拌7h，冷却后固液分离，然后在110℃的真空干燥箱里干燥得到处理后的纳米tio2。
2)称取4g处理后的纳米tio2，0.2g过硫酸钾(kps)及4ml甲基丙烯酸甲酯(mma)单体放入三口烧瓶中，加入1ml辛烷基苯酚聚氧乙烯醚(op-10)、90ml水和0.25g十二烷基苯磺酸钠，调节ph至9-11之间，升温至80℃反应6h，然后冷却至室温，抽滤干燥既得产物tio2-g-pmma。
以上仅是本发明的优选实施方式的描述，应当指出，由于文字表达的有限性，而在客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。