亲水性共聚物和亲水性组合物的制作方法

本发明涉及亲水性共聚物和含有亲水性共聚物的亲水性组合物。

背景技术：

1、近年来，对于用塑料等有机材料、玻璃等无机材料形成的基材的起雾的改善要求不断高涨。

2、对于基材的起雾的改善一般通过在基材的表面上涂布亲水性被膜而实现。例如，在专利文献1中，作为能够对基材赋予亲水性的涂布剂，提出了添加了亲水性高的具有季铵盐结构的亲水性共聚物的涂布组合物。

3、但是，采用上述涂布组合物形成的涂膜的耐水性不充分，与水接触时，有时亲水性、防雾性等表面特性劣化，希望进一步的改善。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2018-162431号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、本发明鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供可形成亲水性、防雾性和耐水性优异的涂膜的亲水性共聚物和包含其的亲水性组合物。

3、用于解决课题的手段

4、本发明人为了实现上述目的，深入研究，结果发现：特定的亲水性共聚物可形成耐水性优异、能够对于用塑料等有机材料、玻璃等无机材料形成的基材赋予具有持续性的亲水性、防雾性的涂膜，完成了本发明。

5、即，本发明提供：

6、1.亲水性共聚物，其包含由下述式(1)表示的结构单元(a)和由下述式(2)表示的结构单元(b)，结构单元(a)的含有率为5～60质量％，并且结构单元(a)与结构单元(b)的合计含有率为30质量％以上，

7、[化1]

8、

9、(式(1)中，r1为氢原子或甲基，r2各自独立地为取代或未取代的碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～18的芳基，x1为-nh-或-o-，n为1～6的整数，y1-为任意的阴离子，

10、式(2)中，r3为氢原子或甲基，r4和r5各自独立地为碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，x2为-nh-或-o-，m为1～10的整数，e为1～10的整数，k为1～3的整数，

11、星号＊表示与邻接的结构单元的结合。)

12、2.根据1所述的亲水性共聚物，其还包含由下述式(6)表示的结构单元，

13、[化2]

14、

15、(式中，r13为氢原子或甲基，x3为-nh-或-o-，y2为选自氢原子、羟基、羧基、氨基、异氰酸酯基、环氧基、烷氧基和水解性甲硅烷基中的基团，f1为0～10的整数，(不过，f1为0时，y2为氢原子。)星号＊表示与上述相同的含义。)

16、3.根据1或2所述的亲水性共聚物，其还包含由下述式(7)表示的结构单元，

17、[化3]

18、

19、(式中，r14为氢原子或甲基，x4为-nh-或-o-，a’为碳原子数1～6的亚烷基，r15为碳原子数1～6的烷基，f2为1～10的整数，星号＊表示与上述相同的含义。)

20、4.亲水性组合物，其包含根据1～3中任一项所述的亲水性共聚物。

21、5.根据4所述的亲水性组合物，其还包含选自多异氰酸酯化合物、由下述式(3)表示的有机硅化合物、和由下述式(4)表示的有机硅化合物中的至少一种的化合物，

22、[化4]

23、

24、(式(3)中，r6和r7各自独立地为碳原子数1～10的烷基或碳原子数6～10的芳基，j为1～10的整数，i为1～3的整数，

25、式(4)中，r8、r9、r10和r11各自独立地为氢原子、或碳原子数1～6的有机基团，h为1～20的整数。)

26、6.涂布剂，其包含根据4或5所述的亲水性组合物。

27、7.亲水性被膜，其为使根据6所述的涂布剂固化而成的亲水性被膜。

28、发明的效果

29、本发明的亲水性共聚物能够给予可形成耐水性优异、对于玻璃等基材能够赋予具有持续性的亲水性、防雾性的涂膜的亲水性组合物。

技术特征：

1.亲水性共聚物，其包含由下述式(1)表示的结构单元(a)和由下述式(2)表示的结构单元(b)，结构单元(a)的含有率为5～60质量％，并且结构单元(a)与结构单元(b)的合计含有率为30质量％以上，

2.根据权利要求1所述的亲水性共聚物，其还包含由下述式(6)表示的结构单元，

3.根据权利要求1或2所述的亲水性共聚物，其还包含由下述式(7)表示的结构单元，

4.亲水性组合物，其包含根据权利要求1～3中任一项所述的亲水性共聚物。

5.根据权利要求4所述的亲水性组合物，其还包含选自多异氰酸酯化合物、由下述式(3)表示的有机硅化合物、和由下述式(4)表示的有机硅化合物中的至少一种的化合物，

6.涂布剂，其包含根据权利要求4或5所述的亲水性组合物。

7.亲水性被膜，其为使根据权利要求6所述的涂布剂固化而成的亲水性被膜。

技术总结
提供亲水性共聚物，其包含由下述式(1)表示的结构单元(a)和由下述式(2)表示的结构单元(b)，结构单元(a)的含有率为5～60质量％，并且结构单元(a)与(b)的合计含有率为30质量％以上。R1为氢原子或甲基，R2为烷基或芳基，X1为‑NH‑或‑O‑，n为1～6的整数，Y1‑为任意的阴离子，R3为氢原子或甲基，R4和R5为烷基或芳基，X2为‑NH‑或‑O‑，m为1～10的整数，e为1～10的整数，k为1～3的整数，星号＊表示与邻接的结构单元的结合。)

技术研发人员：高木一宪,广神宗直
受保护的技术使用者：信越化学工业株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/31