耐磨反射膜的制作方法

本发明涉及反射膜的，尤其涉及一种耐磨反射膜。

背景技术：

1、近年来，为了保护越来越精密的电子显示屏避免在测试过程中造成的摩擦和灰尘污染，需要在应用中提供保护膜。而这种保护膜应该具有高透过率、高耐摩擦、抗反射的特性。

2、目前抗反射膜主要用于显示器，当显示器暴露于各种照明及自然光等的外光情况下，会因外部光等的入射光在显示器表面等发生正反射，由其导致的反射图像与显示图像混合，从而降低屏幕显示品质，造成肉眼无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼。

3、抗反射膜的出现，就是借以贴附在显示器表面来降低外光反射作用，赋予显示器表面等抗反射的功能，并对抗反射功能的高性能化、抗反射功能以外的功能的复合化提出了要求，解决肉眼在光反射作用下无法看清显示器内部所形成的图像，还会引发眼睛疲劳或头疼等问题。目前作为防反射层的形成方法，利用可大面积化、连续生产且低成本化的涂液的湿式成膜法来生产抗反射膜受到人们的关注，且已经在使用。

4、各种电子显示屏，比如手机、电脑、大屏触控、车载显示等，表面绝大部分有功能性保护贴，但是该功能性保护贴较多的是高耐磨、抗眩等功能，高端显示屏有抗反射的功能，目前抗反射功能的保护贴存在一定的问题，比如耐磨差、使用寿命短等问题。

5、经检索，中国专利申请号为cn202022619019.8的专利，公开了一种柔性屏幕保护膜，包括无色聚酰亚胺膜的主膜体和半粘层，所述半粘层设置在主膜体的内侧面。上述专利中的保护膜存在以下不足：抗反射能力差、耐磨差、使用寿命短，还有待改进。

技术实现思路

1、本发明要解决的技术问题是提供一种耐磨反射膜，该耐磨反射膜在提高了抗反射能力的同时，增加了硬化层与低折层之间的结合力，提高耐磨性。

2、为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种耐磨反射膜，包括基材、硬化涂层、低折射率涂层；

3、其中，所述基材包括pet；

4、其中，所述硬化涂层的折射率为1.53，厚度为3～5微米；

5、其中，所述低折射率涂层的厚度为90～110纳米；

6、其中，所述耐磨反射膜的制备方法包括如下步骤：

7、步骤一、硬化胶水通过狭缝或微凹辊涂布在基材上，然后经过热干燥、uv固化形成硬化膜；

8、步骤二、在硬化膜的基础上继续涂布低折胶水，然后经过热干燥、uv固化形成抗反射膜；

9、所述硬化胶水中的引发剂为184引发剂和tpo引发剂的复合引发剂，184引发剂：tpo引发剂的比例为3~5：1。

10、上述技术方案中进一步改进的技术方案如下：

11、1、上述方案中，所述低折射率涂层的折射率为1.4或1.44。

12、2、上述方案中，所述s2步骤中，热干燥的温度为100～120℃，干燥时间为1～3分钟。

13、3、上述方案中，所述s2步骤中，uv固化的能量为500～800mj，uv照射的紫外线波段为365纳米，硬化胶水的固化率控制在40～60%。

14、4、上述方案中，所述s2步骤中，uv固化的能量为600～1000mj，uv照射的紫外线波段为365纳米，硬化胶水的固化率控制在90%以上。

15、5、上述方案中，所述基材的厚度为50微米。

16、6、上述方案中，所述基材的厚度为75微米。

17、7、上述方案中，所述基材的厚度为100微米。

18、8、上述方案中，所述基材的厚度为125微米。

19、由于上述技术方案的运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：

20、本发明耐磨反射膜，其通过狭缝式或微凹辊涂布的方式，通过设计硬化胶水中的引发剂的种类以及含量控制硬化胶水的固化率，且先使用了365波段的led灯照射，进而引发tpo引发剂促使硬化胶水中的丙烯酸树脂中的碳碳双键的交联反应，但是通过tpo的比例含量以及照射的能量，控制了硬化胶水的固化率为40-60%，未参与反应的碳碳双键与低折涂层中的碳碳双键在uv固化时能够继续交联反应，极大的增加了硬化层与低折层之间的结合力，提高耐磨性。

技术特征：

1.一种耐磨反射膜，其特征在于：包括基材、硬化涂层、低折射率涂层；

2.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述低折射率涂层的折射率为1.4或1.44。

3.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述s2步骤中，热干燥的温度为100～120℃，干燥时间为1～3分钟。

4.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述s2步骤中，uv固化的能量为500～800mj，uv照射的紫外线波段为365纳米，硬化胶水的固化率控制在40～60%。

5.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述s2步骤中，uv固化的能量为600～1000mj，uv照射的紫外线波段为365纳米，硬化胶水的固化率控制在90%以上。

6.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述基材的厚度为50微米。

7.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述基材的厚度为75微米。

8.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述基材的厚度为100微米。

9.根据权利要求1所述的耐磨反射膜，其特征在于：所述基材的厚度为125微米。

技术总结
本发明公开了一种耐磨反射膜，包括基材、硬化涂层、低折射率涂层；其中，所述基材包括PET；其中，所述硬化涂层的折射率为1.53，厚度为3~5微米；其中，所述低折射率涂层的厚度为90~110纳米；其中，所述耐磨反射膜的制备方法包括如下步骤：S1：硬化胶水通过狭缝或微凹辊涂布在基材上，然后经过热干燥、UV固化形成硬化膜；S2：在硬化膜的基础上继续涂布低折胶水，然后经过热干燥、UV固化形成抗反射膜；所述硬化胶水中的引发剂为184引发剂和TPO引发剂的复合引发剂，184引发剂：TPO引发剂的比例为3~5：1。本发明耐磨反射膜在提高了抗反射能力的同时，增加了硬化层与低折层之间的结合力，提高耐磨性。

技术研发人员：金闯,耿龙飞,苏强强,金文祥
受保护的技术使用者：太仓斯迪克新材料科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14