一种镭雕ABS及其制备方法、镭雕方法与流程

文档序号:37344143发布日期:2024-03-18 18:17阅读:10来源:国知局
一种镭雕ABS及其制备方法、镭雕方法与流程

本发明涉及激光镭雕领域,特别涉及一种镭雕abs及其制备方法、镭雕方法。


背景技术:

1、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(简称abs)具良好的耐化学药品性、高的光泽度、优异的尺寸稳定性、良好的加工流动性、优异的着色性、优异的电镀性等被广泛地应用于各领域。一般通过在abs料中加入镭雕剂,使得abs料可采用激光镭雕方式加工,在abs表面设计文字图案。

2、常用的abs加入镭雕剂后,容易出现烧焦烧黑现象,为了改善镭雕效果和保证abs的力学性能,一般需要添加多种其他添加剂,这又增加了工艺的复杂性、降低了产品的可控性和增加了生产成本。

3、mabs是甲基丙烯酸甲酯单体(mma)、丙烯腈、丁二烯、苯乙烯四元组分组成的共聚物,这三种单体在共聚过程中,通过化学键相互连接形成聚合物链。


技术实现思路

1、为了克服现有技术的上述缺点与不足,本发明的目的在于提供一种镭雕abs的制备方法,制备得到的镭雕abs不需要添加镭雕剂即可实现很好的镭雕效果,镭雕标志白度高,清晰度好。

2、本发明的另一目的在于提供一种镭雕abs,同时具有良好的镭雕性能和耐冲击性能。

3、本发明的再一目的在于提供上述镭雕abs的镭雕方法。

4、本发明的目的通过以下技术方案实现:

5、一种镭雕abs的制备方法,包括以下步骤:

6、按重量份数计,将68~72份透明mabs、28~32份透明亚力克pmma、0.0003~0.0005份炭黑混合均匀后加到螺杆挤出机中,经螺杆挤出机挤出、造粒,得到镭雕abs;

7、其中,所述螺杆挤出机从加料口到机头的温度分别设定为:

8、一区温度为190~200℃;二区温度为210~220℃;三区温度为210~220℃;四区温度为210~220℃;五区温度为200~210℃;六区温度为200~210℃;七区温度为200~210℃;八区温度为210~220℃;九区温度为210~220℃;机头温度为220~230℃。

9、优选的,所述螺杆挤出机从加料口到机头的温度分别设定为:

10、一区温度为195℃;二区温度为215℃;三区温度为215℃;四区温度为215℃;五区温度为205℃;六区温度为205℃;七区温度为205℃;八区温度为215℃;九区温度为215℃;机头温度为225℃。

11、优选的,所述螺杆挤出机为双螺杆挤出机,主机转速为250~350rpm;主喂料转速为25~30rpm;切粒转速为450~550rpm。

12、优选的,所述炭黑为卡博特660或hs2808。

13、一种镭雕abs,按重量份计,包括透明mabs 68~72份、透明亚力克pmma28~32份、炭黑0.0003~0.0005份。

14、优选的,所述透明mabs的型号为chimei mabs pa-758或者lg mabs tr558ai。

15、优选的,所述透明亚力克pmma由重量百分数为10~20%的chimeiacryrexpmmacm-211和重量百分数为80~90%的acrypet pmmaird70-001组成。

16、优选的,所述透明亚力克pmma由重量百分数为15%的chimeiacryrex pmmacm-211和重量百分数为85%的acrypet pmmaird70-001组成。

17、镭雕abs的镭雕方法,包括以下步骤:

18、将镭雕abs置于激光镭雕机中进行镭雕,镭雕工艺参数为:

19、激光功率:5~8w;

20、扫描速度:2900~3100mm/s;

21、频率:23~26hz。

22、优选的,所述激光功率为6w;所述扫描速度为3000mm/s;所述频率为25hz。

23、与现有技术相比,本发明具有以下优点和有益效果:

24、(1)本发明的镭雕abs,通过调节透明mabs、透明亚力克pmma、炭黑之间的配比,不需要添加镭雕剂即可实现很好的镭雕效果,避免由于加入镭雕剂引起abs的力学性能下降,同时节省了生产成本。

25、(2)本发明的镭雕abs,通过透明亚力克pmma采用重量百分数为15%的chimeiacryrex pmmacm-211和重量百分数为85%的acrypet pmma ird70-001混合而成,进一步提高了镭雕abs的抗冲击性能。

26、(3)本发明的镭雕abs,通过将透明mabs、透明亚力克pmma的比例限定在(68~72):(28~32),减少了镭雕标志表面的气孔,增加了镭雕标志的白度、耐磨性及耐脏能力。

27、(4)本发明的镭雕abs,通过采用球磨后的炭黑,进一步提升了镭雕abs的抗冲击性能及抗老化性能。



技术特征:

1.一种镭雕abs的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的镭雕abs的制备方法,其特征在于,所述螺杆挤出机从加料口到机头的温度分别设定为:

3.根据权利要求2所述的镭雕abs的制备方法,其特征在于,所述螺杆挤出机为双螺杆挤出机,主机转速为250~350rpm;主喂料转速为25~30rpm;切粒转速为450~550rpm。

4.根据权利要求3所述的镭雕abs的制备方法,其特征在于,所述炭黑为卡博特660或hs2808。

5.一种镭雕abs,其特征在于,按重量份计,包括透明mabs 68~72份、透明亚力克pmma28~32份、炭黑0.0003~0.0005份。

6.根据权利要求5所述的镭雕abs,其特征在于,所述透明mabs的型号为chimei mabspa-758或者lg mabs tr558ai。

7.根据权利要求6所述的镭雕abs,其特征在于,所述透明亚力克pmma由重量百分数为10~20%的chimeiacryrex pmmacm-211和重量百分数为80~90%的acrypet pmmaird70-001组成。

8.根据权利要求6所述的镭雕abs,其特征在于,所述透明亚力克pmma由重量百分数为15%的chimei acryrex pmmacm-211和重量百分数为85%的acrypet pmmaird70-001组成。

9.权利要求5~8任一项所述的镭雕abs的镭雕方法,其特征在于,包括以下步骤:

10.根据权利要求9所述的镭雕方法,其特征在于,所述激光功率为6w;所述扫描速度为3000mm/s;所述频率为25hz。


技术总结
本发明公开了一种镭雕ABS的制备方法,包括以下步骤:按重量份数计,将68~72份透明MABS、28~32份透明亚力克PMMA、0.0003~0.0005份炭黑混合均匀后加到螺杆挤出机中,经螺杆挤出机挤出、造粒,得到镭雕ABS。本发明还公开了上述制备方法制备得到的镭雕ABS及其镭雕方法。本发明的镭雕ABS不需要添加镭雕剂即可实现很好的镭雕效果,镭雕标志白度高,清晰度好。

技术研发人员:陶宏建
受保护的技术使用者:广东致尚新材料科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/3/17
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