专利名称：生产涂渍的合成物体的方法
技术领域：
本发明涉及涂布合成的底物以生产涂渍的物体，涉及实施这种方法的装置并涉及它们的应用。
本发明涉及任何类型和形状的物体。特别是考虑被给予弯曲的物体或稍为弯曲的物体，例如柔性焦距透镜组。也考虑平的或近似平直的物体诸如显示屏前的防护玻璃，例如用在移动式无线电通信单元、固定的电话局等场所。提及的塑料有，例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)及其衍生物，或基本上与之相同的塑料。PMMA已经杰出地在各种应用领域中证实其本身价值，并且成本上也是有实效的。
这种涂布是一种多重涂布。各别涂层是光学功能性层诸如，例如，一层抗反射层或由许多各别层组成的抗反射层体系；但也包括具有特定机械性质的层诸如，例如，憎水性的复盖层、可容易地被机械清洗的清洗层，或抗刻痕层。一种所谓增进粘合层，这里很普遍地被称为“中间层”，一般被施敷在功能性层和底物之间。所说的中间层对于整个产品的使用性能具有决定性的重要性。具体地说，它担负着把底物上的整个层状组件粘合在一起的任务。这种中间层可以是单一的均匀层。它也可以是多重层。在后一种情况下，从直接跟随着底物的一层开始，各别的层形成一个梯度，并且作为有机化合物与所说的底物基本上相同或相似的，直到接近下一层后继的功能性层的一层，后者作为无机化合物基本上和这后继的功能性层相同或相似。
由有机聚合物制造的涂渍的光学组件，正愈来愈多地替代玻璃制造的组件用于各种用途中，因为它们能提供一系列的优点。聚合物可在一次操作中被制造并因而无需昂贵的二次加工，而且具有高的表面性能。这样，就使大批量生产费用较低。此外，聚合物为成型和小型化以及表面的微结构化提供更好的可能性。对于一些特定的用途，聚合物较轻的重量也是有益的。
用于光学应用的带有干涉涂层的聚合物组件部分，目前是通过离子协助的蒸气沉积法来涂布的。例如在这种情况下，这些聚合物可以用带有抗反射性层的体系涂渍。通过与已确立的对玻璃底物的涂渍工艺进行比较，当涂渍聚合物时需要观察一些特别的特色。因为聚合物在热学性能及机械性能方面与以玻璃作为底物材料及普通的介电层材料诸如TiO2和SiO2两者相比有本质上的差别，高的应用——专一需求被放在底物/层粘合以及层体系的长期稳定性上。从材料选择、经底物生产直到实际的涂布方法的整个工艺都必须按照这些需求来设计。高的热负荷改变，诸如，例如在具有很高发光功率或能量密度的光学体系中，常常会甚至超过为层粘合设计的负载极限以及涂渍的光学聚合物的寿命。此外，聚合物对温度是敏感的，因此在涂布过程中仅能暴露于低的热负荷条件下。
已知有许多方法用于生产所说类型的对象、就是说其上置有许多层的合成底物。
WO01/07678A1涉及纯的无机物层的沉积，特别是在无机底物上。在这一文献中没有检验无机物层在塑料上，即有机底物上的粘合问题，也没有对这一公开内容的解决方案。
DE 19740806A1描述了由塑料制造的微量滴定板，为了增加它对于有机溶剂的化学耐受性，提供了一层由SiOxCyHz和/或TiOxCyHz制成的层。然而这一文献中没有涉及在合成底物上的光学层或抗刻痕层。
US 5,900,285涉及具体是在聚碳酸酯上的防渗涂层。但是没有提及光学涂层，特别是没有在PMMA上的涂层。
EP 0752483A1和DE 19523444A1涉及借助PACVD方法(PACVD方法即等离子体协助的CVD方法)来涂布金属及合成材料表面。然而应用的涂布条件比较激烈，从而发生对底物的损害，特别是给出需要一小时的涂布时间，并且具体地是在PMMA上。
按照EP 0285870，为了更好地涂布，要把底物加热到100℃或更高的温度。这样把底物暴露于加热条件下是不希望发生的，特别是对于PMMA，会导致底物表面的损伤。进一步，按照这一文献，粘合层不是用CVD方法涂敷的。
DE 19703538A1描述了一种修饰PMMA底物表面的方法。在这种情况下底物表面被提供了一层防护层。其目的为使随后要施敷的功能性层改进的粘附性容易达成。所说的防护层的应用组成了另外的方法步骤，因此它意味着额外的复杂性和费用开支。
往合成底物上施敷薄层的进一步方法，被描述于DE 3413019A1、EP 0422323A1、DE 4004116A1以及其它专利中。这也涉及，施敷到底物上的层的粘合性，特别是借助于CVD或PECVD方法。DE 10010766展示并描述了一种涂布底物的方法和装置，具体地是对弯曲的底物，例如柔性焦距透镜组。
前面应用的这些方法尚未证实是满意的。在这种情况下特别是必需的粘合性没有达成。更确切地说，以这种方式生产目标产品的情况下，上述中间层，以及因此涉及整个层型组件所具有的风险，被放松了。这可能导致目标产品实际上不能使用。
这样，本发明的一个目的是指定一种方法和装置，借助于这种方法和/或装置，合成的底物，具体地是含有PMMA的底物，可以被一层中间层，即所谓的粘合增进层以及至少是功能性层，所涂敷。中间层打算被可靠地粘合到底物上，并且其余各别的层同样也相互粘合，从而使任何层间的分离得以排除。这种方法和装置在成本上是有实效的。其目的是使气候耐受性和/或紫外线耐受性产品的生产变得容易。还有，本发明也要指定一种合适的产物，它通过可靠地粘合在底物、中间层和功能性层之间而区别于其它产品，它可以成本上有效地被生产，并且如果合适，它可以是气候耐受性和紫外线耐受性的。
本发明进一步的目的包括提供一种透明的涂渍底物，它除了光学功能以外，能满足对于稳定性和层间粘合性方面的严格需要，并且提供一种经济的和对环境友好的方法来生产透明的涂渍底物。
这些目的可通过描述在权利要求中的本发明的实施方案来达成。
具体地说，本发明涉及一种涂布合成底物的方法，该底物涂布后将具有至少一层功能性层和至少一层位于功能性层和底物之间的中间层，这种方法包括以下方法步骤(1)借助于PECVD方法把中间层施敷到底物上，施敷过程是结合底物的最小能量负荷完成的；(2)施敷至少一层功能性层。
按照本发明，中间层和，优选地，至少还有一层功能性层是借助所谓PECVD方法来施敷的(PECVD意指“Plasma Enhanced ChemicalVapor Deposition”，即“等离子体强化的化学蒸汽沉积”)，也就是说，一种用等离子体协助的CVD方法。特别优选所有各层都用这同一种方法来施敷。
本发明人尤其认识到，在用以前应用的PECVD方法往底物上施敷涂层时，边界表面或施敷层与底物之间的界面会被与之相伴随的能量负荷所扰动，或者其结构被毁坏。这将伴随底物和界面层之间粘合力的降低。按此本发明人认识到与等离子体放电相伴的能量负荷必须降至最小以增强粘合力。这涉及使用能量的数值以及应用能量的方式两方面。为达到实用中满意的粘合力的目的而允许的能量负荷极限值可通过实验来决定。
应用这些发现的主要方式如下首先，能量负荷可以这样一种方式使之保持在一定限度以内，即以脉冲方式来使用等离子体，也就是说以周期性方式，例如，以总是保持同样时间间隔的方式，或者是间歇性地，即时间间隔不需要保持恒定。这种方法被本发明申请人引入并称其为“PICVD”方法(PICVD意指“等离子体脉冲化学蒸汽沉积”)。所提及的脉冲操作模式在这种情况下是必要的。底物的能量负荷将因此而降低。同时，伴随等离子体处理产生的结合效应得以保持。
在这样的PICVD方法中，等离子体作用的总持续时间应至少是没有等离子体作用的两个脉冲之间的间隔时间的1/1000，并且最多等于所说的间隔时间。按照本发明方法的这种实施方案，进一步优选应用等离子体作用脉冲的时间持续在0.1和10毫秒之间，更优选在0.5和5毫秒之间。
其次，可能贯彻本发明所说的基本概念，也就是说减小底物和施敷层之间的能量负荷，特别是在PECVD方法步骤中以高的涂布速率实施涂敷时。这意味着这时涂层可能很快地增长或变厚，从而在最短的可能的时间间隔内有尽可能多的成层物质被施敷。最好是，每单位时间内施敷的层的厚度，也就是涂布速率，在等离子体作用期间为大于10纳米/分，更优选大于100纳米/分。特别是在底物涂渍的开始阶段应当选择这样的高涂布速率。
把两种提到的方式结合起来也是可能的。这样，操作的脉冲模式可以和高的涂布速率相结合，用这种措施可达到特别类型的反应条件。
按照本发明，合成底物可被涂渍，而塑料应被理解为一种有机聚合化合物。给予考虑的是这样高性能的塑料，即它在高达100℃或更高温度时仍然尽可能是稳定的。本发明的方法即使对于那些比较热敏感的塑料也具有有利的效果，因为底物的温度在涂渍操作期间保持着低温，优选在室温或最多40℃。
优选涂渍透明的塑料。可以提及作为实例的这类塑料有诸如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚醚-亚酰胺、环烯聚合物(COP)、环烯共聚物(COC)或者它们的混合物或掺合物。
在这种情况下可以用以下市售聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(Plexiglas)、聚碳酸酯(Makrolon)、环烯共聚物(Topas或Zeonex)、聚醚亚酰胺(Ultem)或聚醚砜(Ulrrason)。
特别是，可能第一次借助本发明在PMMA上涂渍一种层型组件，后者是难于涂渍的；并可以对PMMA的衍生物或与它基本相同的塑料进行这种涂渍，例如丙烯酸和甲基丙烯酸的聚合物和共聚物以及它们的衍生物，包括聚丙烯腈或基本与其相同的塑料，这种涂渍产生很高的粘合可靠性。这样，对于很薄的高级涂层就可能以微米或亚微米量级范围可靠地粘合到底物上。
本发明的一种优选的改进是透明涂渍的底物。借助于CVD把至少一层含有至少一种金属氧化物的层施敷到底物上。金属氧化物优选金属Si、Ti、Ta或Nb的氧化物。虽然Si一般被指定为半金属，但按照本发明它被归属为金属一组，因为在本发明方法中它表现得像一种金属化合物。特别优选这种金属氧化物是SiO2、TiO2、Ta2O5或Nb2O5。把这些金属氧化物用于层的粘合会获得很好的结果。
作为一条规则，总要施敷至少一层含硅的层。适宜于用作含硅层的有机硅化合物的前体化合物包括硅烷类、硅氧烷类和硅氮烷类，并且是，例如，下列化合物之一甲基甲硅烷、二甲基甲硅烷、三甲基甲硅烷、二乙基甲硅烷、丙基甲硅烷、苯基甲硅烷、六甲基乙硅烷、1，1，2，2-四甲基乙硅烷、双(三甲基甲硅烷基)甲烷、双(二甲基甲硅烷基)甲烷、六甲基乙硅氧烷、乙烯基三甲氧基甲硅烷、乙烯基三乙氧基甲硅烷、乙基甲氧基甲硅烷、乙基三甲氧基甲硅烷、二乙烯基四甲基乙硅氧烷、二乙烯基六甲基丙硅氧烷和三乙烯基五甲基丙硅氧烷、1，1，2，2-四甲基乙硅氧烷、六甲基乙硅氧烷、乙烯基三甲基甲硅烷、甲基三甲氧基甲硅烷、乙烯基三甲氧基甲硅烷和六甲基乙硅氮烷。优选的硅化合物有四甲基乙硅氧烷、六甲基乙硅氧烷(HMDSO)、六甲基乙硅氮烷、四甲基甲硅氮烷、二甲氧基二甲基甲硅烷、甲基三甲氧基甲硅烷、四甲氧基甲硅烷、甲基三乙氧基甲硅烷、二乙氧基二甲基甲硅烷、甲基三乙氧基甲硅烷、三乙氧基乙烯基甲硅烷、四乙氧基甲硅烷、二甲氧基甲基苯基甲硅烷、苯基三甲氧基甲硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基甲硅烷、二乙氧基甲基苯基甲硅烷、三(2-甲氧基乙氧基)乙烯基甲硅烷、苯基三乙氧基甲硅烷和二甲氧基二苯基甲硅烷。
按照本发明，用来作为粘合增进层的所谓“中间层”首先被施敷到底物上。所说的粘合增进层对于整个产品的实用性具有很决定性的重要性，因为是它保证使整个层型体系粘合在底物上。这种中间层可以是单一的均匀层。它也可以是多重的层。在这样一种多重层的情况下，各别的层从直接跟随底物的一层开始直到第一个功能性层所跟随的一层为止可以形成一个梯度，开始的一层作为有机化合物与底物基本上相同或类似，而紧接功能性层的那一层作为无机化合物与第一个功能性层基本上相同或类似。术语“有机化合物”在这种情况下应理解为基本上是有机化合物，也就是说它富含碳和/或烃类，诸如例如，一种有机聚合化合物。与之形成对照，“无机化合物”是一种无机的、低含碳量的化合物诸如，例如金属氧化物。中间层优选厚度至少为10纳米、更优选至少200纳米或1,000纳米。这种层可生产成任何所需的厚度，但超过2,000纳米的厚度将不再是经济的，因为它们的生产时间将太长。
按照本发明，除中间层以外底物上还要涂布至少一层功能性层。优选施敷至少两层功能性层从而得到多层体系。
所述功能性层可被施敷用来作为，例如，所谓光学层，也就是说具有特定光学性质的层，诸如具有特别的透明性、特别的折光率、特定的颜色等。又例如由许多各别的层所组成的抗反射层或抗反射层体系。
进一步，所述功能性层也可以是具有特定机械性质的层，诸如，例如抗刻痕层。还有憎水性的复盖层及所谓清洗层，它能容易地进行机械清洗，也可以施敷。此外，这类功能性层还能为底物提供防渗性质、对化学、紫外线或气候的耐受性质等。
这类功能性层每层具有，例如，0.1微米至5微米的层厚度。不过依赖于使用情况，也可能施敷厚度为纳米范围内的层。
实施这种方法和有关的装置在成本上是很有实效的，因为整个涂布过程可优选地借助一台并且是同样一台装置来施敷，也就是说所有各层可在一次操作中施敷。实际的试验已显示这些涂层能经受住按照DIN 58196第6部分的方法用粘合胶带进行的粘合性试验。
进一步的重要优点是对气候的耐受性和对紫外线的耐受性。这些可在原则上达成。这样，这些涂层能经受住按照ISO 9022-2的方法进行的气候耐受试验并随后用粘合胶带进行的如上所述的试验。
本发明可用任何类型的涂料来施敷。涂层的性质可通过所用的原料以及系统的操作参数来控制。涂层的性质可在宽广的限度内变化。中间层最好是由许多层组成的所谓梯度层，在这种情况下最靠近底物的一层基本上和底物相同，而离底物最远的一层则基本上和功能性层相同。
本发明也可以在使用所谓远距离PECVD方法或远距离PICVD方法的情况下施敷。在这种情况下已知等离子体空间和涂布空间是彼此分离的。激发的和/或解离的物种由等离子体空间被导入涂布空间。
本发明将更详尽地借助于附图来阐明，图中有以下的详尽说明
图1描绘了本发明的物体的透视剖面图解，图2显示了涂布底物的装置的图解说明，图3是本发明优选的实施方案的图解说明，图4显示按本发明方法涂渍的底物的抗刻痕性试验，图5显示按本发明方法涂渍的底物的抗反射性质。
进一步，本发明还涉及这样的涂渍物体，它包含合成底物，中间层和至少一层、优选多于一层的功能性层，中间层被安排在底物和功能性层之间，并且对涂渍物体而言它可以用本发明的方法来生产。
在这种情况下可包含任何所需型式和形状的物体。具体给予考虑的是弯曲的物体或稍为弯曲的物体，例如柔性焦距透镜组。平的或近似平的物体诸如显示器荧屏前的防护玻璃，例如在移动通信单元、固定式电话局等处所用的那些，也在考虑之内。
按照本发明，物体优选包含有前面所列举的塑料中的一种塑料，具体优选聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)以及它的衍生物，或基本上与之相同的那些塑料。
图1显示按照本发明方法涂渍的底物的一个实例。在图1中可看到底物1，施敷到底物1上的是中间层2，后者具有粘合增进剂的功能。它被可靠地固定在底物上，因为按照本发明它是以最小的能量负荷这种方式被施敷到底物上的。中间层2可以是所谓梯度层，它是由许多具有不同组成的各别的层所构成的。其中最靠近底物1的一层基本上与底物1相同，而远离底物的较上部的层则基本上与后续的层相同。后续的层为功能性层3，后者，例如，覆行一种光学功能。复盖层4形成终端。
显示在图2中的装置具有下列组件可以看到涂布反应器21负载着底物1，微波窗口23，微波波导管24，气体入口25和底物支架26。
图3显示的是本发明优选的实施方案的剖面视图。具有粘合增进剂功能的中间层32被施敷在底物31上。接着是作为第一功能性层的抗刻痕层33。安排在后者上面的是抗反射层35，按照这一实施方案它是由总共、例如，六层交替的SiO2/TiO2层所组成的。清洗层最后被安排作为复盖层。
在图3中底物表面是以平面的方式来说明的。然而，借助于实例，移动电话显示器大都具有稍为弯曲或更强烈弯曲的表面。借助于本发明的方法，即使在这种具有弯曲表面的情况下，也可以在底物的一面或两面达成均匀的涂布。
像显示在图3中那样的层型结构，特别对于显示器的盖面是合适的，诸如移动电话显示器。在这一实例中用作底物的是PMMA类。所有各层相继地在单一操作中用同一台PICVD装置借助PICVD方法来施敷。在室内使等离子体点火的能量是以频率典型地为2.45GHz的微波形式被引入的。由不同的方法条件和/或进料到小室内的前体化合物来产生不同的层，如果合适可结合氧气和/或进一步的载气或反应气体。例如，粘合增进剂层仍然富含碳并且基本上与有机PMMA底物相同。这一层由于它的聚合性质是柔韧的。令人惊奇地，已经发现，借助于本发明的方法粘合增进层也能未曾预料到地很好粘合到PMMA底物上，否则它是很难涂布的，并且同时在这种情况下对底物的表面没有发生任何损害。施敷在它上面的抗刻痕层33是具有较低含碳量的涂层，它以较大的硬度而区别于其它层。同样的有机硅原料化合物诸如，例如六甲基乙硅氧烷(HMDSO)可被用来产生层32和层33，氧气被引入系统中以产生一种无机涂层。依赖于方法的条件，通过完全氧化HMDSO中的烃组份使之形成二氧化碳和水，可以产生出纯无机的石英涂层，或者也可以通过不完全的氧化来形成富含碳的有机聚合化合物。在这种情况下，从这样一层中间层过渡到抗刻痕层也可以通过逐渐改变方法条件以构造成梯度层来完成。一种前体化合物诸如TiCl4与氧气一道被引入体系中以便产生TiO2层。室内所含气体在等离子体放电以后最好是在每个脉冲之后改变，以使得在等离子体本身中没有梯度产生。通过这种方法可能达成很均匀的涂布。
这样获得的多层体系是具有气候耐受性的，并且像前面描述过的那样能经受住粘合性试验的考验。
因为使用脉冲方法，可以在很低的温度、甚至是室温下进行操作，从而对底物表面或底物和中间层之间的界面不会造成损害。进一步，也可能达成封闭性的和很均匀的涂层。
图4显示的PMMA底物的照片(右手边影像)，它是按照本发明方法涂布的，与之相比较的是未涂布的PMMA底物(左手一边的影像)。底物被置于刻痕试验，表面按照DIN 58196，第5部分的方法用一块所谓粗滤布以450克的承压力磨擦100次。在未涂布的底物上可以清楚地看到擦痕，而按照本发明方法涂渍过的底物则仍然保持未受损伤的表面。
图5显示抗反射层的反射减少性质，该层像前面的实施例那样被包含在PMMA表面上。虽然未经涂布的PMMA具有大约7％的基线反射，但是按本发明方法涂布过的底物在可见光区域内却使反射大为降低。
本发明也涉及透明的涂布底物，它包含有机聚合物底物，以及至少在底物的一面，含有至少一层借助CVD方法施敷的介电层。
聚合物底物优选借助于脉冲的、等离子体协助的CVD方法(PICVD)来涂布。在这种情况下等离子体是通过用微波照射而产生的。这种方法提供下列优点(i)聚合物底物在涂布期间可受轻微加热得到高的涂布品质；并且沉积层的粘合可通过合适的选择脉冲周期以及插入等离子体中的脉冲功率来实施。
(ii)除等离子体脉冲的参数以外，这种方法还提供一定范围的进一步加工的自由度，借助于它可以专一性地影响逐次施敷的各层的性质，并优化有关于对稳定性方面的需要。
本发明的一种优选的改进是，透明的涂渍底物，这种有机聚合物底物包括至少一种聚合物诸如聚碳酸酯、聚醚亚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、环状烯烃类或烯烃的共聚物或它们的混合物和掺合物，或至少一种热塑性无定形树脂。
在这种情况下可使用以下市售聚合物聚碳酸酯(Makrolon)、环烯烃共聚物(Topas或Zeonex)、聚醚亚酰胺(Ultem)、或聚醚砜(Ultrason)。
本发明进一步优选的改进是，一种透明的涂渍底物，它借助于CVD方法把至少一层含有至少一种金属氧化物的层施敷到底物上。金属氧化物优选金属Si、Ti、Ta或Nb的氧化物。特别优选金属氧化物是SiO2、TiO2、Ta2O5或Nb2O5。在层粘合的情况下用这些金属氧化物可获得很好的结果。
本发明进一步优选的改进是，一种透明的涂渍底物，在底物上的层供选择地包括一层中间层，其上是一层抗反射层，供选择地在抗反射层上是一层复盖层，并且中间层、抗反射层和复盖层各自包括至少一层。所有这些层最好以一种方法施敷。
本发明进一步优选的改进是，一种透明的涂渍底物，其中的中间层厚度可达10微米，抗反射层的厚度为50纳米至1微米并且复盖层的厚度为0至1微米。在层粘合的情况下用这些层厚度可获得很好的结果。
按照本发明的这种透明的涂渍底物，可具有平面的、平凸的、双面凸的、平凹的、双面凹的、凹凸的或者任何需要的非球面的形状。
按照本发明，提供了一种生产透明地涂渍底物的方法，它借助于CVD方法，优选借助PSCVD或PECVD方法，供选择地把一层中间层和在它上面的一层抗反射层，以及在抗反射层上面供选择地一层复盖层施敷到透明的底物上。
按照本发明，提供了把透明的涂渍底物用作光学透镜的方法。进一步，按照本发明还提供了使用这种透明的涂渍底物作为照明或成像光学系统中的组件。按照本发明这种光学系统具有很好的光学性质并能满足对于混浊度和层粘合性方面的要求。
本发明的这一实施方案在下面要借助于进一步的实例来更详尽地阐明。
用特别的试样夹把Topas 6015材料做成的透镜引入涂布反应器中。在将压力抽空到1毫巴数量级之后，为了活化底物表面接着进行简单的等离子体预处理。随后，在透镜上沉积一层中间层，并在它上面沉积抗反应射层组件，后者由4层组成，用SiO2作为低析射率层材料，用TiO2作为高析射率层材料。在这种情况下，等离子体脉冲的脉冲占空系数(负载比)约为5％。在涂渍过程中底物的温度为30℃。除测量它们的光谱透射比以外，经过涂渍的透镜还要被置于以下试验中(i)胶带试验(粘合性胶带试验)，(ii)温度在20℃和85℃之间的缓慢变化，停留时间为2.5小时(5次循环)，(iii)恒定的气候，在55℃和100％相对湿度的条件下放置16小时，在胶带试验后，没有发生层组件的层离。同样，在温度变化试验和恒定气候试验之后，也没有看到层离现象。这种涂布的透镜呈现出一种恒定的涂料明度。涂布的欠缺特征，诸如，例如龟裂或混浊都没有被观察到。随后，在经过温度变化试验的恒定气候试验之后进行的光学学谱性质的测量也没有产生改变。
权利要求
1.一各涂布合成底物的方法，该底物具有至少一层功能性层和至少一层位于功能性层和底物之间的中间层，它包括以下方法步骤(1)借助于PECVD方法往底物上施敷中间层，这种施敷应结合底物的最小能量负荷来完成，并且(2)施敷至少一层功能性层。
2.权利要求1的方法，其中中间层和/或至少一层功能性层是借助PICVD方法来施敷的。
3.权利要求1或2的方法，其中至少有两层功能性层被施敷到中间层上。
4.权利要求2或3的方法，其中等离子体作用的总持续时间至少为两个等离子体脉冲之间的无作用的时间间隔的1/1000，并且最多等于所说的脉冲时间间隔。
5.权利要求2、3或4的方法，其中施加等离子体的作用脉冲时间持续在0.1和10毫秒之间。
6.在前面权利要求之一的方法，其中被涂布的合成底物包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)或它的衍生物，或一种基本上与之相同的塑料。
7.在前面权利要求之一的方法，其中在等离子体作用的情况下所用的涂布速率大于10纳米/分。
8.一种涂布合成底物的装置，该底物具有至少一层功能性层和位于底物和功能性层之间的一层中间层，该装置包括用来把中间层施敷到底物上的PECVD装置，施敷是结合底物表面的最小能量负荷完成的。
9.权利要求8的装置，其中包括结合底物表面的最小能量负荷把中间层施敷到底物上的PICVD装置。
10.一种包含合成底物、中间层和至少一层功能性层的涂渍体，该中间层被安排在底物和功能性层之间，该涂渍体可用权利要求1至7中之一的方法来产生。
11.权利要求10的涂渍体，其中的底物包括PMMA或它的衍生物，或基本上与之相同的塑料。
12.权利要求1至7中之一的方法在生产显示屏前的防护玻璃中的应用。
13.权利要求1至7中之一的方法在生产光学透镜中的应用。
14.权利要求13的应用，其用作照明或成像光学系统中的组份。
全文摘要
本发明涉及涂布合成的底物来产生涂渍体，涉及实施这一方法的装置，以及它们的应用。
文档编号B05D7/00GK1537034SQ02807605
公开日2004年10月13日 申请日期2002年3月28日 优先权日2001年3月29日
发明者M·库尔, D·沃尔夫, M·瓦尔特, S·贝勒, S·保尔, L·克利佩, C·默勒, L·贝维格, F·科佩, T·屈佩尔, W·马林, J·海恩茨, M 库尔, 宥 , 鞔 申请人:肖特玻璃制造厂