专利名称：用于形成耐磨的SiO的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于在基质，优选玻璃，上形成耐磨的多孔氧化硅抗反射层的稳定的含有[SiOx(OH)y]n颗粒的溶胶，以及一种制备该溶液的方法。该多孔SiO2抗反射层可提高整个太日光谱范围内光的透射。涂覆有多孔氧化硅抗反射层的玻璃因此特别适合于太阳能收集器以及光电池的外罩。
对于直射光，空气/玻璃界面上的反射损失约为4％。对于用于太阳能系统，如，例如，光电池或太阳能收集器外罩的玻璃来说，这一损失降低了该系统的效率。
现有多种方法用于涂覆玻璃，目的在于提高光的透射。常见的是使用多个干涉层。此时，两个或多个高和低折射率的材料层一个在另一个之上交替地施加。于是反射光在某个波长范围中消失。其实例是得自Schott Glaswerke的建筑玻璃上的抗反射层，其通过溶胶-凝胶工艺生成并通过浸涂涂覆。但是，这些抗反射涂层的频带宽度在物理上受限于一个倍频程并且只适用于可见光区，而不适于宽波段太日光谱的抗反射涂层。
除常规的多层涂覆之外，还可利用单一涂覆产生抗反射效果。此时，玻璃涂有所谓的λ/4层，即光学厚度为λ/4(λ＝所需最低反射的波长)的涂层，其中涂层折射率的理想值应当为[nD(玻璃)·nD(空气)]1/2。此时，波长为λ的反射波的波幅消失。使用传统的nD＝1.5的低铁玻璃时，所得抗反射层的最佳折射率为1.22。此时，波长为λ的电磁辐射的反射为零。
最常用的此类抗反射单层为λ/4层的MgF2，其折射率为1.38，通过蒸汽沉积涂覆。此时在达到最低反射时的残余反射为1.2％。由稳定、质密的层无法得到更低的折射率。
多孔涂层可进一步降低单层的折射率。有三种方法是关于这一目的的玻璃蚀刻，涂覆多孔层，和多孔层与蚀刻方法的结合。
适于进行蚀刻的玻璃是钠钙玻璃(US2,490,662)和在母体中具有相分离的那些，这样就可以提供可用蚀刻剂溶解的可溶相。US4,019,884描述了用于硼硅玻璃上的抗反射层，其在0.4-2.0mm波长范围内的反射低于2％，其形成是通过将硼硅玻璃在630-660℃下加热1-10小时以通过相分离形成稳定的表面，然后在630-660℃用氢氟酸处理1-4小时。该工艺的缺点在于使用氢氟酸且蚀刻层的同质性差。
US4,535,026还描述了一种对之前已经具备了多孔SiO2层的玻璃进行进一步蚀刻的工艺。用于该目的的涂覆溶液是由硅醇与水和催化剂在醇中的反应得到。加热干胶层以除去有机成份并使该层产生充分的耐磨稳定性。得到了多孔SiO2层，但需要后继的蚀刻步骤以扩大孔。最终，该工艺可得到残存反射仅为0.1％的抗反射层。
迄今为止还没有文献描述过这样一种涂覆溶液的制备该溶液可形成耐磨的多孔SiO2抗反射层，而且不需要进行后续的蚀刻。相反，制备多孔抗反射层时通常可接受的过程是仅将SiO2胶层暴露在高至500℃的温度下以得到层的多孔性并防止层烧结在一起，这会降低孔容。这样可以提高层的折射率并会削弱抗反射层的作用(SolGel Science，C.J.Brinker，G.W.Scherer，Academic Press 1990，pp.583，631；Sol-Gel Technology for Thin Films，Noyes Publications，1998，ed.Lisa C.Klein，p.70)。但是，需要在可能的最高温度下加热凝胶层以通过层内原硅酸网络的交联而使层具有好的耐磨性能。Cathro等在Solar Energy 32，1984，p.573的描述认为足够耐揩的玻璃上的SiO2抗反射层只能通过加热到至少500℃得到。Moulton等在US2,601,123中甚至认为凝胶层热处理时的温度应在玻璃的软化范围内。甚至需要更高的温度来制备安全玻璃。此处，玻璃在通过骤冷工艺硬化前必须在至少600℃，通常甚至在700℃下软化。
通过DE 19642419中描述的工艺施加于玻璃表面的抗反射层表现出不足的耐磨性能。在DIN EN 1096-2磨损试验中，层在100划后被完全除去。仅10划后层便表现出破损。
DE 19828231描述了一个在玻璃、陶瓷或金属上沉积金属氧化物多孔光学层的工艺，该工艺是将加入了表面活性剂的水溶胶或溶胶混合物涂覆到待涂覆基质上并对后者在100至550℃下进行热处理。所得层的耐磨性优于DE 196 42 419中所述的层。但是，在DIN EN1096-2磨损试验中，该层在100划后表现出破损。
DE 10051725，其在本发明优先权日之前尚未公开，描述了用于在玻璃上沉积多孔抗反射层的含有SiO2颗粒的涂覆水溶液，所述玻璃在滚式炉中于高至700℃的温度下进行热处理。这一透光层具有高的耐磨性。在DIN EN 1096-2磨损试验中，该层甚至在100划后也无刮痕。
但是，该二氧化硅层具有一个缺点，这个缺点是一个系统性质，即，其有斑纹的结构会对其美学外观产生负面影响，尽管层内反射能力的变化是不可测的。
结构化玻璃的另一个缺点是可涂覆性差，这导致涂覆的结构化玻璃具有低的日光透射性。
另外，在滚式炉中进行硬化自然也会造成层厚的不均匀性。
本发明的目的是提供一种用于制备抗反射层的涂覆溶液，该抗反射层的折射率接近1.22这一最优折射率，且具有高的耐磨性和均匀的外观，而且适于涂覆结构化的玻璃。本发明的另一个主题是避免滚式炉造成的层不均匀性。
根据本发明，这一目的是通过混杂型溶胶实现的，该溶胶包括[SiOx(OH)y]n颗粒、水和溶剂，在[SiOx(OH)y]n颗粒中，0＜y＜4且0＜x＜2，所述颗粒由颗粒尺寸为4-15纳米的第一部分颗粒和平均颗粒尺寸为20-60纳米的第二部分颗粒的混合物组成；可由四烷氧基硅烷在水性、含溶剂的介质中水解缩聚获得，缩聚得到颗粒尺寸主要分布在4-15纳米范围内的氧化硅氢氧化物颗粒，缩聚时加入平均颗粒尺寸(数均)为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物。
具体实施方案示于以下权利要求中。
这一目的进一步通过制备混杂型溶胶的工艺得以实现，该工艺是使四烷氧基硅烷在水性、含溶剂的介质中的水解缩聚，产生含有平均颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒的水解混合物，缩聚时加入平均颗粒尺寸(数均)为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物，该物料的添加时间是在四烷氧基硅烷加入到水性、含溶剂的介质中后至少5分钟。
本发明进一步涉及在玻璃上的耐磨的、透光的二氧化硅层，该层的折射率介于1.20与1.40之间且因此接近1.22的最佳折射率。此类玻璃上的二氧化硅层可具有降低反射的性质。
本发明的混杂型溶胶包括大和小氧化硅氢氧化物颗粒的混合物。小颗粒部分由颗粒尺寸基本处于4-15纳米范围内的氧化硅氢氧化物颗粒组成，大颗粒部分由平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散球形颗粒组成。
混杂型溶胶中小颗粒部分与大颗粒部分的重量比为从25∶1到1∶5，优选从10∶1到2∶1，且特别优选从3∶1到2∶1。
混杂型溶胶中氧化硅氢氧化物颗粒的浓度介于0.3和4wt％之间。其优选设定为1.0-2.0wt％。
本发明混杂型溶胶的制备需加入溶剂。所用溶剂为低级脂族醇，如乙醇或异丙醇，但也可使用酮，优选低级二烷基酮，如丙酮或甲基异丁基酮，醚，优选低级二烷基醚，如乙醚或丁醚，四氢呋喃，酰胺，酯，特别是乙酸乙酯，二甲基甲酰胺，胺，特别是三乙胺，及其混合物。其中优选以醇作为溶剂，特别是乙醇，甲醇，异丙醇，正丙醇且特别优选乙醇。
所用乙醇的量取决于用作初始原料的硅化合物的量。混杂型溶胶中溶剂的浓度介于2至97wt％之间，优选15-30％。
混杂型溶胶可通过加入碱性催化剂制得。这种催化剂的加入将水解混合物的pH提高到7。碱性催化剂使水解缩聚加速并促进了颗粒生长。使用，例如，氨或碱性聚合物，如聚乙烯亚胺作为催化剂。优选使用氨。
另外，根据本发明，随后还可向混杂型溶胶中加入稳定剂。可使用的稳定剂包括，例如，乙二醇醚或其他醇的醚。稳定剂在混杂型溶胶中的浓度可高到90wt％，优选为10-80wt％，且特别优选为40-70wt％。特别适合的稳定剂被证明是1，2-丙二醇单甲醚。
除水解(部分)缩合的硅化合物外，本发明混杂型溶胶中还可包括一种或多种以胶体状分散形式溶解的有机聚合物。这些聚合物含有OH和/或NH基团，平均分子量介于200与10000之间，聚合物与四烷氧基硅烷的摩尔比为从0.001mol/mol硅烷到0.5mol/mol硅烷。这些聚合物可在将混杂型溶胶涂覆至待涂覆的基质上后通过升温并干燥所得层来除去，从而可以进一步提高涂层的孔容。
另外，混杂型溶胶还包括水，其量为2-80wt％，优选2-50wt％，特别优选10-35wt％。
在一个优选的实施方案中，混杂型溶胶包括1-2wt％的[SiOx(OH)y]n颗粒，其中0＜y＜4且0＜x＜2，40-70wt％的稳定剂，15-30wt％的溶剂，和10-35wt％的水，其中小颗粒部分与大颗粒部分之间的重量比为10∶1至2∶1。
本发明混杂型溶胶的制备如下首先，四烷氧基硅烷加入到水性、含溶剂的介质中，其间发生水解缩聚。该过程基本根据DE 19642419且在搅拌下进行。如果需要，也可能以向该混合物中添加用于水解缩聚的碱性催化剂，这可缩短反应时间。优选使用氨。
存在于水解混合物中的溶剂可选自上文已提及的溶剂。优选使用乙醇，甲醇，异丙醇，正丙醇且特别优选乙醇。
水解进行的温度为5至90℃，优选10至30℃。
其间，所用四烷氧基硅烷产生颗粒尺寸为4-15纳米的小颗粒氧化硅氢氧化物颗粒。
加入四烷氧基硅烷后，水解混合物，如通过搅拌而剧烈混合，时间至少为5分钟。
然后向上述水解混合物中加入含有平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物颗粒的溶胶。
向水解混合物中添加含单分散颗粒的氧化硅氢氧化物溶胶之前的时间取决于用于硅化合物水解缩聚的缩聚催化剂的使用。
在四烷氧基硅烷加入到水性、含溶剂的水解混合物后至少5分钟后，可将单分散氧化硅氢氧化物溶胶加入该混合物中。这一添加时间可延迟到多至四烷氧基硅烷添加到水解混合物之后48小时。这一时间优选为开始形成颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒之后5分钟至24小时。反应开始后20至180分钟是特别优选的。
如果添加时间延迟到多于反应开始之后48小时，与在48小时之内完成添加的情况相比，未观察到混杂型溶胶的性质有何区别。
向水解混合物中添加含有单分散颗粒的氧化硅氢氧化物溶胶的时间是决定本发明混杂型溶胶性质的关键因素。由此，可得到单分散颗粒在氧化硅氢氧化物小颗粒中的随机分布并可避免单分散颗粒以“岛状”积聚的发生，后者可导致差的耐磨性。
单分散氧化硅氢氧化物溶胶优选一次性加入到水解混合物中。
在一个特定实施方案中，含有单分散颗粒的氧化硅氢氧化物溶胶根据US 4,775,520所述方法制备。为此，将四烷氧基硅烷加入水性-醇性-氨性水解混合物中并剧烈搅拌，产生初级氧化硅氢氧化物颗粒。适合的四烷氧基硅烷是所有的可毫无问题地水解的脂族醇的原硅酸酯。主要适于本文的是含1-5个碳原子的脂族醇的酯，如，例如，甲醇，乙醇，正或异丙醇及异构的丁醇和戊醇。它们可单独使用，也可以是混合物的形式。优选为C1-C3醇的原硅酸酯，特别是四乙氧基硅烷。适合的醇组份为脂肪族C1-C5醇，优选C1-C3醇，如甲醇，乙醇，正或异丙醇。它们可单独使用，也可以是彼此的混合物形式。四烷氧基硅烷优选一次性加入到混合物中，其中反应物可以是纯物质的形式或者可以是在所述一种醇中的溶液形式。为制备初级氧化硅氢氧化物颗粒，反应混合物中四烷氧基硅烷的浓度应介于约0.01和约1摩尔/升之间。反应物混合后，反应立即或在几分钟后开始，表现在反应混合物由于颗粒的形成而立即变成乳白色。另外的四烷氧基硅烷随后连续地加入到含有初级氧化硅氢氧化物颗粒的水解混合物中，添加的方式应基本不生成新的氧化硅氢氧化物颗粒。相反，已存在的初级氧化硅氢氧化物颗粒生长并形成更大的单分散的颗粒。
根据反应混合物中所选择的反应物及其浓度，可得到平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的颗粒。
已证明在升高的温度下进行用于制备这些颗粒的反应是有利的。优选的温度介于35-80℃，优选介于40-70℃。已发现在高温下颗粒尺寸的分散性降低，平均颗粒尺寸亦然。在更低的温度下，如室温附近，在其他条件均相同时得到更大的颗粒及更大的尺寸分散性。
为提高单分散氧化硅氢氧化物溶胶的稳定性，可能需要从溶胶中除去醇和/或氨。这可通过先有技术中已知的方法完成，如通过升温除去挥发性的氨。
所谓“单分散”此处指最大标准偏差为20％，特别是15％且特别优选12％，且主要以离散颗粒形式存在的颗粒。
含有单分散颗粒的氧化硅氢氧化物溶胶在剧烈混合，优选通过搅拌剧烈混合条件下加入到水解混合物中。温度为10至40℃，混合持续1分钟至48小时，优选10分钟至5小时。
在制备混杂型溶胶工艺的后续步骤中，可向混杂型溶胶中加入稳定剂。所用稳定剂为，例如，乙二醇醚或其他醇的醚。优选使用1，2-丙二醇1-单甲醚。随后稳定的溶胶混合物剧烈混合1分钟到24小时，优选5分钟到1小时。
如果需要，所得混杂型溶胶可随后进行过滤。此时，用普通过滤器过滤，优选过滤器孔宽为1-5微米，从而得到所需溶胶，所得溶胶可用于进一步的用途。
本发明混杂型溶胶涂覆于其反射应被降低的表面之上并通过传统方法干燥。不用说，在这一过程中，取决于所需层的厚度，本发明涂覆溶液的粘度与涂覆过程的参数，如待涂覆基质浸入及从涂覆溶液中取出的速率必须相互匹配。
同样不言而喻的是，待涂覆的基质需用传统的清洁和/或表面预处理方法进行处理，这些方法在涂覆技术中通常在涂覆之前进行。此处的预处理类型可对涂覆效果产生非常积极的作用。但是，针对此目的的全部方法对于本领域技术人员来说是充分已知的。
适合的将混杂型溶胶涂覆到其反射将被降低的表面上的工艺有，例如，浸渍工艺，喷涂工艺或旋涂工艺。浸渍工艺中常用的拉动速率为0.5至70cm/min。
用本发明混杂型溶胶涂覆的玻璃片可在高于700℃的温度进行处理而不会使层在处理时烧结及使孔隙率明显损失，而且，与此相关，不会观察到透光率的损失。硬化过程用与生产安全玻璃相同的方式进行。这意味着涂覆的玻璃被加热到软化点然后进行骤冷。已知的溶胶-凝胶体系会从约550℃的温度起发生烧结(Sol Gel Science，C.F.Brinker，G.W.Scherer，Academic Press 1990，pp.583，631；Sol-Gel Technology for Thin Films，Noyes Publications，1988，ed.Lisa C.Klein，p.70)。
令人吃惊的是，已经发现与700℃下硬化的层的耐磨性一致的层的硬化甚至可通过在室温下干燥几个小时获得。这种效应在此前从未有过描述。这与学院式的理论中溶胶-凝胶衍生的SiO2层的硬化必须经过高温处理正好相反。因此，Cathro等在Solar Energie 32(1984)，p.573中指出具有适当耐磨性的SiO2抗反射层只有通过至少500℃的硬化才能得到。Moulton等在US 2,601,123中甚至认为凝胶层在热处理时的温度应在玻璃的软化范围内。我们的发现使得我们可以通过以下方法得到安全玻璃上的耐磨的抗反射层首先在滚式炉中将未涂覆的玻璃硬化，然后进行涂覆。这样就可以避免炉法处理造成的层的不均匀问题。
本工艺自然不会排除通过对所得抗反射层进行另外的机械后处理(抛光，磨光等)以进一步改善其耐磨性的可能性。
用该混杂型溶胶制得的抗反射层具有优异的高耐磨性。耐磨性的测试依据DIN EN 1096-2进行。在这一测试中，用一片加载重物的毛毡在层上往复磨擦。测试重量为400克时，100划后未观察到层的破损。甚至在测试重量为1000克时，层仍保持无擦痕。因此由本发明混杂型溶胶制备的层的耐磨性极大地优于DE 19642419所述溶胶得到的抗反射层，因为后者仅在10划后即表现出显著的破损。
与DE 10051725所述溶胶相比，使用本发明混杂型溶胶得到的层具有相同的耐磨性但外观的均匀性更佳。层无条状结构。由此，先有技术中已知的两种溶胶的优点被结合在一起。
本发明混杂型溶胶的另一个优点在于结构化玻璃良好的可涂覆性。在其一侧具有棱镜结构，而在另一侧被略微粗糙化了的结构化的玻璃片，在用本发明混杂型溶胶涂覆后具有94.6％的日光透射率(AM1.5)，与之相比，用根据DE 10051725的水性溶胶涂覆后只具有93.1％的日光透射率(AM 1.5)。此处所谓AM 1.5指标准化计算的日光透射率，其中测量的透射值与权重参数AM相乘。此处名词AM指空气质量指数，而1.5来自欧洲中部的光照条件。
在SEM显微镜的帮助下，已经发现用本发明混杂型溶胶所得抗反射层具有以下结构平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的球形SiO2颗粒均匀地嵌入颗粒尺寸为4-15纳米的小SiO2颗粒的网络中。这导致得到高耐磨性同时还使层具有优异的美学外观。
这一类型的结构无法通过将DE 19642419所述溶胶与US4,775,520所述方法制备的球形SiO2颗粒简单地彼此混合得到。这类混合物不具有均匀结构。用这类混合物制备的层的耐磨性和美学外观及结构化玻璃的可涂覆性不足。
通过参考工作例对本发明进行更详尽的描述。
实施例1将29.4g 0.08N氢氧化铵水溶液与380g乙醇完全混合，并将50.7g四甲氧基硅烷在进一步搅拌下加入其中。搅拌150分钟后，加入400g含有5％平均颗粒尺寸为25纳米的氧化硅氢氧化物颗粒的单分散氧化硅氢氧化物溶胶，该混合物进一步搅拌60分钟，直至向其中加入970g 1，2-丙二醇单甲醚。而后此方法制得的混杂型溶胶用玻璃纤维预滤器过滤。
实施例2将25.4g平均分子量为200g/mol的聚乙二醇溶解于29.4g 0.08N氢氧化铵水溶液和357g乙醇的混合物中。将50.8g四甲氧基硅烷在搅拌下加入此溶液中。搅拌125分钟后，加入400g含有5％平均颗粒尺寸为25纳米的氧化硅氢氧化物颗粒的单分散氧化硅氢氧化物溶胶，该混合物进一步搅拌30分钟，直至向其中加入1300g 1，2-丙二醇单甲醚。而后，此方法制得的混杂型溶胶用玻璃纤维预滤器过滤。
权利要求
1.混杂型溶胶，其包括-[SiOx(OH)y]n颗粒，其中0＜y＜4且0＜x＜2，其由颗粒尺寸为4-15纳米的第一部分颗粒和平均颗粒尺寸为20-60纳米的第二部分颗粒的混合物组成，-水和溶剂，所述溶胶可由以下方法得到使四烷氧基硅烷在水性、含溶剂的介质中水解缩聚，得到颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒，同时加入平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物溶胶。
2.根据权利要求1的混杂型溶胶，其中水解缩聚在碱性催化剂存在下进行。
3.根据权利要求1或2的混杂型溶胶，其中随后加入稳定剂。
4.根据权利要求1至3中一项或多项的混杂型溶胶，其中单分散氧化硅氢氧化物溶胶得自以下操作将四烷氧基硅烷加入水性-醇性-氨性水解混合物中，形成初级氧化硅氢氧化物颗粒，并连续地进一步向该混合物中加入四烷氧基硅烷，添加方式应使得基本不再形成另外的颗粒。
5.根据权利要求4的混杂型溶胶，其中单分散氧化硅氢氧化物溶胶在35-80℃的温度下得到。
6.根据权利要求4或5的混杂型溶胶，其中醇和氨在加入到水性、含溶剂及含四烷氧基硅烷的水解混合物中之前从单分散氧化硅氢氧化物溶胶中除去。
7.根据权利要求1至6中一项或多项的混杂型溶胶，其中第一颗粒部分与第二颗粒部分之间的重量比为25∶1至1∶5。
8.根据权利要求1至7中一项或多项的混杂型溶胶，其中[SiOx(OH)y]n颗粒的浓度为0.3-4wt％。
9.根据权利要求1至8中一项或多项的混杂型溶胶，其中溶剂为低级脂族醇。
10.根据权利要求9的混杂型溶胶，其中低级脂族醇为甲醇，乙醇，异丙醇或正丙醇。
11.根据权利要求3至10中一项或多项的混杂型溶胶，其中稳定剂为乙二醇醚或其他醇的醚或这些醚的混合物。
12.根据权利要求1至11中一项或多项的混杂型溶胶，含有0.3-4wt％的[SiOx(OH)y]n颗粒，2-50wt％的水和2-97wt％的溶剂。
13.根据权利要求1至11中一项或多项的混杂型溶胶，含有1-2wt％的[SiOx(OH)y]n颗粒，10-35wt％的水，15-30wt％的溶剂和40-70wt％的稳定剂。
14.根据权利要求1的混杂型溶胶的制备方法，其为在水性、含溶剂的介质中水解缩聚四烷氧基硅烷，得到含有颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒的水解混合物，并在将四烷氧基硅烷加入到水性、含溶剂的介质中至少5分钟之后，加入平均颗粒尺寸为20-60纳米且最大标准偏差为20％的单分散氧化硅氢氧化物溶胶。
15.根据权利要求14的方法，其中水解缩聚的温度为5至90℃。
16.根据权利要求14或15的方法，其中混杂型溶胶在加入单分散氧化硅氢氧化物溶胶后于10-40℃强烈搅拌1分钟至48小时。
17.根据权利要求14至16中一项或多项的方法，其中含有颗粒尺寸为4-15纳米的氧化硅氢氧化物颗粒的水解混合物通过加入碱性催化剂制备，并且其pH 7。
18.根据权利要求14至17中一项或多项的方法，其中随后加入稳定剂。
19.根据权利要求18的方法，其中稳定剂是乙二醇醚或其他醇的醚或这些醚的混合物。
20.根据权利要求14至19中一项或多项的方法，其中单分散氧化硅氢氧化物溶胶向水解混合物中添加的时间是在四烷氧基硅烷加入到水性、含溶剂的介质中之后至少5分钟到至多48小时。
21.根据权利要求20的方法，其中添加在20-180分钟之后进行。
22.根据权利要求1-13中一项或多项的混杂型溶胶的用途，其用于在玻璃上沉积耐磨的，透光的，折射率为1.20至1.40的多孔SiO2层。
23.具有折射率为1.20至1.40的多孔二氧化硅抗反射层的玻璃，所述层是由权利要求1-13的混杂型溶胶沉积得到的。
全文摘要
混杂型溶胶及其制备与用途，所述混杂型溶胶包括[SiO
文档编号C09D183/02GK1556774SQ02818342
公开日2004年12月22日 申请日期2002年9月19日 优先权日2001年9月21日
发明者W·格劳比特, M·柯萨维, A·戈姆博特, T·霍夫曼, W 格劳比特, 凡┨, 蚵 申请人:默克专利股份有限公司