专利名称：一种磁场封釉工艺及其磁性釉剂的制作方法
技术领域：
本发明属于金属材料表面处理领域，具体涉及一种磁场封釉工艺及其磁性釉剂。
背景技术：
目前封釉工艺广泛应用于汽车美容领域，主要技术是利用振抛机将涂抹在汽车表面的釉剂反复打压进汽车间隙纹理中。但是该种方法对封釉技术人员要求很高，没有经过培训的技师根本无法做出封釉的最佳效果，而且所需要的工时也较长(约4飞个小时)。在中国，伴随着汽车工业的蓬勃发展，高档轿车保有量飞速增长，对汽车封釉的需求也越来越大，传统的汽车封釉技术已不能满足这种情况。开发出一种高效、快捷、方便的封釉处理方法是汽车封釉产业发展的关键。汽车封釉作为一项汽车表面处理的技术，可参照德国汽车超级工厂表面防锈处理的静电涂装，输送机将整个车身浸入槽中，槽内部含有大量的静电涂料，电流通过涂料后，让涂料带正电， 与触地的输送机相连的车身带负电。结果静电涂料因为磁力紧紧吸附在车上每个部分，整个过程只需要4飞分钟。但是，槽内所需要的静电涂料为45万公斤左右，在通电时，电流需 400安培左右，耗能极大。因此有必要开发出一种类似的节能封釉方法运用在汽车封釉上。
发明内容
本发明的目的在于提供一种操作简便、快捷、节能、封釉效果好的封釉工艺及其釉剂。为了实现上述目的，本发明在普通釉剂中加入磁性成分，制成磁性釉剂，在磁场的作用下磁性釉剂对封釉对象具有更强的渗透能力，具体技术方案如下
一种磁场封釉工艺，其特征在于，包括以下步骤
首先，利用传统表面处理技术，去除封釉对象表面的尘垢及污渍；接着，将磁性釉剂均勻涂抹至封釉对象的表面；然后，在所述封釉对象的反侧添加磁场，用磁场处理一段时间， 擦去表面残留釉剂；最后，将封釉对象放在干燥阴凉处8小时晾干。优选地，所述磁场强度高于0. 1T。优选地，所述磁场处理时间高于5分钟。一种磁性釉剂，其特征在于，所述釉剂中含有磁性成分。优选地，所述磁性釉剂中的磁性成分为四氧化三铁。优选地，所述磁性釉剂中四氧化三铁质量分数为109Γ20%。由于采用了上述技术方案，本发明具有如下的优点
(1)操作简单，降低了对技术人员的要求；
(2)大大缩短了操作的时间，降低了封釉工作的强度；
(3)封釉效果好，封釉对象具有很强的防锈、抗腐蚀能力。
图1显示的是不同封釉条件下铁片抗蚀能力的比较。
具体实施例方式以下实施例旨在说明本发明而不是对本发明的进一步限定。实施例1
取一片1.9X7. Icm的铁片，物理抛光处理表面，称量1. 5g磁性釉剂，其中四氧化三铁的质量分数为10%，均勻涂抹至铁片表面，在涂抹面背侧添加0. IT的磁场强度，持续时间5 分钟。撤去磁场，用擦镜纸擦去表面釉剂。将铁片放于干燥处8小时。用滴管滴3滴5%NaCl水溶液于铁片表面，15小时后测量锈斑大小，平均直径 1. 0cm，刮去表面锈斑，1. Ocm白斑内仍分散有少量锈迹。实施例2:
取一片1.9X7. Icm的铁片，物理抛光处理表面，称量1. 5g磁性釉剂，其中四氧化三铁的质量分数为15%，均勻涂抹至铁片表面，在涂抹面背侧添加0. 2T的磁场强度，持续时间10 分钟。撤去磁场，用擦镜纸擦去表面釉剂。将铁片放于干燥处8小时。用滴管滴3滴5%NaCl水溶液于铁片表面，15小时后测量锈斑大小，平均直径 0. 8cm，刮去表面锈斑，0. 8cm白斑中心及边缘有极少量锈迹。实施例3 取一片1. 9X7. Icm的铁片，物理抛光处理表面，称量1. 5g磁性釉剂，其中四氧化三铁的质量分数为20%，均勻涂抹至铁片表面，在涂抹面背侧添加0. 3T的磁场强度，持续时间15分钟。撤去磁场，用擦镜纸擦去表面釉剂。将铁片放于干燥处8小时。用滴管滴3滴5%NaCl水溶液于铁片表面，15小时后测量锈斑大小，平均直径 0. 6cm，刮去表面锈斑，0. 6cm白斑内只有中心部分有极少量锈迹。上述实施例只是众多实施例中的一部分，总结实施例及同时进行的对比实验发现，随着磁场的增强和磁场处理时间的增加，磁场封釉的效果增强，见表1。
权利要求
1.一种磁场封釉工艺，其特征在于，包括以下步骤首先，利用传统表面处理技术，去除封釉对象表面的尘垢及污渍；接着，将磁性釉剂均勻涂抹至封釉对象的表面；然后，在所述封釉对象的反侧添加磁场，用磁场处理一段时间，擦去表面残留釉剂；最后，将封釉对象放在干燥阴凉处8小时晾干。
2.如权利要求1所述的一种磁场封釉工艺，其特征在于，所述磁场强度高于0.1T。
3.如权利要求1所述的一种磁场封釉工艺，其特征在于，所述磁场处理时间高于5分钟。
4.如权利要求1所述的一种磁场封釉工艺，其特征在于，所述磁性釉剂中含有磁性成分。
5.如权利要求4所述的一种磁场封釉工艺，其特征在于，所述磁性釉剂中磁性成分为四氧化三铁。
6.如权利要求5所述的一种磁场封釉工艺，其特征在于，所述磁性釉剂中四氧化三铁的质量分数为10% 20%。
7.如权利要求1所述的磁场封釉工艺所用的一种磁性釉剂，其特征在于，磁性釉剂中含有磁性成分。
8.如权利要求7所述的一种磁性釉剂，其特征在于，磁性釉剂中磁性成分为四氧化三铁。
9.如权利要求8所述的一种磁性釉剂，其特征在于，磁性釉剂中四氧化三铁的质量分数为10% 20%。
全文摘要
本发明公开了一种磁场封釉工艺及其磁性釉剂。该磁场封釉工艺的特征在于，包括以下步骤首先，利用传统表面处理技术，去除封釉对象表面的尘垢及污渍；接着，将磁性釉剂均匀涂抹至封釉对象的表面；然后，在所述封釉对象的反侧添加磁场，用磁场处理一段时间，擦去表面残留釉剂；最后，将封釉对象放在干燥阴凉处8小时晾干。该磁性釉剂的特征在于，磁性釉剂中含有磁性成分。本发明提供了一种操作简便、快捷、节能、封釉效果好的磁场封釉工艺及其磁性釉剂。
文档编号B05D7/24GK102441522SQ20111028460
公开日2012年5月9日 申请日期2011年9月23日 优先权日2011年9月23日
发明者余云丹, 卫国英, 葛洪良, 金震 申请人:中国计量学院