一种抗氧化的抛光液的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种抗氧化的抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质：山梨醇5-10份，聚丙烯2-8份，水杨酸钠2-6份，醋酸钠20-35份，多聚甲醛4-6份，硫酸镁1-3份，硫酸铜3-8份，硫酸1份，氯化钠5-10份，玻璃质1-9份，焦磷酸钠2-7份，氯化铝1-3份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。本发明的化学机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率，而对铜和二氧化硅的去除速率影响不大，同时可减少被抛光材料的表面污染物。
【专利说明】一种抗氧化的抛光液
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种抗氧化的抛光液。
【背景技术】
[0002]传统介电层材料由于具有较高的介电常数，会导致传导层之间电容增大，从而影响集成电路的速度，使效率降低，随着集成电路的复杂化和精细化，这种基底材料越发不能满足更先进制程的技术要求，在衬底中引入低介电材料是集成电路技术发展的必然趋势，随之产生了许多用于低介电材料的抛光衆液。但目前现有技术中的低介电材料抛光液都没有达到制造成本和技术表现的完美结合。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是提供一种抗氧化的抛光液。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是:
一种抗氧化的抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质:山梨醇5-10份，聚丙烯2-8份，水杨酸钠2-6份，醋酸钠20-35份，多聚甲醛4-6份，硫酸镁1-3份，硫酸铜3-8份，硫酸1份，氯化钠5-10份，玻璃质1-9份，焦磷酸钠2-7份，氯化铝1-3份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。
[0005]本发明的化学机械抛光液可抑制低介电材料的抛光速率，而对铜和二氧化娃的去除速率影响不大，同时可减少被抛光材料的表面污染物。
【具体实施方式】
[0006]实施例1
一种抗氧化的抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质:山梨醇5-10份，聚丙烯
2-8份，水杨酸钠2-6份，醋酸钠20-35份，多聚甲醛4-6份，硫酸镁1-3份，硫酸铜3-8份，硫酸1份，氯化钠5-10份，玻璃质1-9份，焦磷酸钠2-7份，氯化铝1-3份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。
【权利要求】
1.一种抗氧化的抛光液，其特征在于，包括下列重量份数的物质:山梨醇5-10份，聚丙烯2-8份，水杨酸钠 2-6份，醋酸钠20-35份，多聚甲醛4-6份，硫酸镁1-3份，硫酸铜3-8份，硫酸1份，氯化钠5-10份，玻璃质1-9份，焦磷酸钠2-7份，氯化铝1-3份，硼酸钠2-4份，片层结构的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。
【文档编号】C09G1/02GK104046269SQ201410292070
【公开日】2014年9月17日 申请日期:2014年6月26日 优先权日:2014年6月26日
【发明者】范向奎 申请人:青岛宝泰新能源科技有限公司