本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，是一种工业用的地坪涂装涂料，具有硬度高、抗划伤性好、附着力高和耐化学药品性能优异的特点。
技术背景
随着经济的不断发展，工业用地坪涂料的需求量也越来越大。传统的溶剂型环氧地坪涂料含有较多的有机溶剂，这些溶剂在涂料生产和施工阶段排入大气，存在火灾隐患，对环境造成污染，对人体造成危害。与传统的溶剂型环氧地坪涂料相比，水性环氧地坪涂料具有很大的优势：以水作为分散介质，不含有甲苯、二甲苯之类的挥发性有机溶剂，不会造成环境污染，也没有失火的隐患；可以再潮湿的环境中施工、固化；对大多数基材具有良好的附着力，即使是潮湿的基材表面同样也有良好的粘结性：固化后的漆膜关泽柔和，质感较好，具有较好的防腐性能和单向透气性。随着人们环保意识的不断提高，地坪涂料的水性化、无溶剂化、高固含已成发展的必然趋势。
技术实现要素：
本发明是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，是一种工业用的地坪涂装涂料，具有硬度高、抗划伤性好、附着力高和耐化学药品性能优异的特点。
为解决上述技术问题，本发明所涉及的一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，按其原材料的质量分数比配制而成：甲组份：水性环氧树脂80份，活性稀释剂20份；乙组份：水性环氧固化剂20-25份、去离子水22-33份、rs610润湿分散剂0.2-0.6份、df681f消泡剂0.3-0.5份、抗划伤助剂0.5-1份、a401碱溶胀增稠剂0.2-0.4份、钛白粉4-6份、bgs酞青蓝2-3份、801锶铬黄1-1.5份、轻质碳酸钙10-15份、沉淀硫酸钡20-25份、抗划伤剂2-3份、超微细滑石粉10-15份。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所述原材料助剂rs610润湿分散剂，具有防浮色、防闪锈、乳化、润湿的作用。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所使用的原材料助剂df681f消泡剂，具有零voc、无apeo的特点。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所使用的原材料钛白粉为纳米级金红石钛白粉。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所使用的原材料轻质碳酸钙，其目数达到2500目及以上。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所使用的原材料超微细滑石粉，其目数达到1250目及以上。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，所使用的原材料抗划伤剂为蜡乳液或蜡粉中的一种，或是二者的混合物，能提高漆膜的抗划伤性，并提高扛回粘性，有助于施工。
本发明所涉及的是一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺：将适量的去离子水与钛白粉、801锶铬黄、沉淀硫酸钡、超微细滑石粉、抗划伤剂、轻质碳酸钙，混合搅拌均匀后，加入润湿分散剂、消泡剂、抗划伤助剂，高速搅拌10min后研磨，待细度合格后，加入水性环氧固化剂，加入剩余的去离子水，用碱溶胀增稠剂调节粘度合格，过滤，出成品。甲组份与乙组份的使用配比，按其比例配制而成，甲组份：乙组份=（1.0-1.2）：1，水性环氧树脂适度过量，以提高漆膜的耐水性和耐腐蚀性。
本发明所涉及的一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，以水作为分散介质，节省了大量的资源，消除了施工时的火灾危险性，降低了对大气的污染，改善了作业环境条件，其涂层附着力强，对基材粘结性性也比较好。
本发明所涉及的一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺的技术指标：
具体实施方式
实施例1：本发明所涉及的一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，按其原材料的质量分数比配制而成：甲组份：水性环氧树脂80份，活性稀释剂20份；乙组份：水性环氧固化剂20份、去离子水27份、rs610润湿分散剂0.2份、df681f消泡剂0.3份、抗划伤助剂0.6份、a401碱溶胀增稠剂0.2份、钛白粉4份、bgs酞青蓝2份、801锶铬黄1份、轻质碳酸钙10份、沉淀硫酸钡20份、抗划伤剂3份、超微细滑石粉12份。
实施例2：本发明所涉及的一种水性环氧自流平抗划伤地坪涂料及其制备工艺，其特征在于，按其原材料的质量分数比配制而成：甲组份：水性环氧树脂80份，活性稀释剂20份；乙组份：水性环氧固化剂25份、去离子水22份、rs610润湿分散剂0.2份、df681f消泡剂0.3份、抗划伤助剂0.6份、a401碱溶胀增稠剂0.15份、钛白粉5份、bgs酞青蓝2.5份、801锶铬黄1.5份、轻质碳酸钙10份、沉淀硫酸钡20份、抗划伤剂3份、超微细滑石粉10份。
实施实例的检测结果
以上所述，仅是对本发明的较佳实施案例，并非对其限制，任何熟悉本专业的技术人员均可在上述揭示的技术内容加以变更或同等替换改变。凡是未脱离本发明内容的，依据本发明的技术实质对以上实例所做的任何修改、替换等，都应涵盖在本发明的保护范围之内。