本发明涉及化工领域，尤其涉及一种用于转印光学图案的uv胶。
背景技术：
目前，人们对消费电子产品，装饰品，工艺品等外观的光学视觉效果要求越来越高。比如，在手机等消费电子产品的3d玻璃后盖，为了追求更炫丽的视觉效果，在3d玻璃后盖用oca胶水粘接光学pet，pet置于模板下，印刷一层uv胶，经过紫外线固化后形成光学图案，同时与模板剥离，然后在光学图案上涂上光学油墨，就能呈现各种各样的光学效果。这个uv胶我们称为uv转印胶，需要对pet和油墨良好的附着力及耐候性，同时具有良好的可剥离性。
然而，相关技术中uv胶在附着力和可剥离性之间难以兼顾，在拥有良好附着力时使得可剥离性较差，在拥有良好可剥离性时也会使得附着力较差，导致附着力和可剥离性的综合效果不佳。
因此，有必要提供一种新的uv胶来解决上述问题。
技术实现要素：
本发明要解决的技术问题是提供一种即拥有良好附着力同时也具备良好的可剥离性的uv胶。
为解决上述技术问题，本发明提供了一种uv胶，用于转印光学图案，所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：35～75份预聚体、35～75份单体、0.1～10份引发剂，其中，所述预聚体预聚体为丙烯酸改性的树脂，所述单体中的可聚合基团为碳碳双键或碳碳三键。
优选的，所述丙烯酸改性的树脂包括聚氨酯丙烯酸、聚酯丙烯酸、聚醚丙烯酸酯及环氧丙烯酸酯，且所述聚氨酯丙烯酸、所述聚酯丙烯酸、所述聚醚丙烯酸酯及所述环氧丙烯酸酯的官能度均大于或等于2。
优选的，所述单体中的可聚合基团为(甲基)丙烯酸酯碳碳双键或甲基(甲基)丙烯酸酯碳碳双键。
优选的，所述引发剂为2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙基-1-酮、三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、1-羟基环己基二苯甲酮、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-二甲基硫代丙基-1-酮的一种或多种的混合物。
优选的，所述uv胶还包括0.05～10质量份促进剂、0.01～1质量份稳定剂、0.1～10质量份填料和0.1～10质量份增滑剂。
优选的，所述促进剂为含硅偶联剂、含磷促进剂、钛酸酯偶联剂的一种。
优选的，所述稳定剂为受阻酚类抗氧化剂、二芳基仲胺类抗氧化剂、受阻胺类抗氧化剂、苯并三唑类抗氧化剂、亚磷酸酯类抗氧化剂的一种。
优选的，所述填料为纳米级无机盐或无机氧化物。
优选的，所述增滑剂为硅改性高分子或氟改性高分子。
与相关技术相比，本发明提供的uv胶在具有良好的附着力的同时也具备良好的可剥离性，从而使得所述uv胶附着力和可剥离性的综合效果好。
【具体实施方式】
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种用于转印光学图案的uv胶，所述uv胶的固化方式为光固化，采用的光为可见光与紫外光。
所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：35～75份预聚体、35～75份单体、0.1～10份引发剂。具体的，所述引发剂为光引发剂。
优选的，所述uv胶还可包括如下组份：0.05～10质量份促进剂、0.01～1质量份稳定剂、0.1～10质量份填料、0.1～10质量份增滑剂。其中，所述促进剂为附着力促进剂，所述稳定剂为储存稳定剂。
更优的，所述uv胶还包括消泡剂及流平剂，所述消泡剂与所述流平剂的组份可按实际需求进行选用。
所述预聚体为丙烯酸改性的树脂，所述丙烯酸改性的树脂包括聚氨酯丙烯酸、聚酯丙烯酸、聚醚丙烯酸酯及环氧丙烯酸酯，所述聚氨酯丙烯酸、所述聚酯丙烯酸、所述聚醚丙烯酸酯及所述环氧丙烯酸酯的官能度均≥2。优选的，所述聚氨酯丙烯酸为脂肪族聚氨酯丙烯酸，所述聚酯丙烯酸为脂肪族聚酯丙烯酸，所述聚醚丙烯酸酯为脂肪族聚醚丙烯酸酯。
所述单体中的可聚合基团为碳碳双键或碳碳三键。优选的，所述单体中的可聚合基团为碳碳双键。更优的，所述单体中的可聚合基团为(甲基)丙烯酸酯碳碳双键或甲基(甲基)丙烯酸酯碳碳双键。如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯，乙氧基化三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，聚烯烃(甲基)丙烯酸酯，邻/间/对苯二甲酸聚乙二醇二丙烯酸酯，邻/间/对苯二甲酸聚乙二醇二丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸异冰片酯，(甲基)丙烯酸羟基烷基酯等。
所述引发剂选自业内常见的光引发剂单独或组合即可。如所述引发剂选自如下一种或多种的结合：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙基-1-酮、三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、1-羟基环己基二苯甲酮、2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-二甲基硫代丙基-1-酮。优选的，所述光引发剂为在不短于350nm的波长范围中具有强吸收的光引发剂。如2-苯甲基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮)、2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(4-吗啉基)-1-丙酮、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-膦氧化物、tpo(二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物等。
所述促进剂为含硅偶联剂，含磷促进剂，钛酸酯偶联剂等促进剂以及其他促进剂。优选的，所述促进剂为含硅偶联剂，如kh550、kh560、a151等产品。
所述稳定剂可为受阻酚类抗氧化剂、二芳基仲胺类抗氧化剂、受阻胺类抗氧化剂、苯并三唑类抗氧化剂和亚磷酸酯类抗氧化剂。具体的，可用于本发明的抗氧化剂包括但不限于以下抗氧化剂：
得自cibaspecialitychemicals的商品名为irganox1010，irganox245，irganox1076，irganox1135，irganox1098等或得自basfco.ltd.的tinuvin系列，包括tinuvin292，tinuvin756，tinuvin791，tinuvin783等。
所述填料为纳米级无机盐或无机氧化物。具体的，所述填料包括但不限于如下成分：二氧化硅、硅藻土、氧化铝、氧化锌、氧化铁、氧化镁、氧化锡、氧化钛、氢氧化镁、氢氧化铝、碳酸镁、硫酸钡、石膏、硅酸钙、滑石、玻璃珠、绢云母活化的白土、膨润土、氮化铝、和氮化硅等。
所述增滑剂为硅改性高分子或氟改性高分子。具体的，如环氧基封端的聚硅醚。
以下为各实施例中所述uv胶的的具体组份：
实施例一
本实施例中所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：60份聚乙二醇(15)二丙烯酸酯，30份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，6份丙烯酸酯封端环氧树脂(nipponsoda,9782r)，1份二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物，1份2-苯甲基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮)，1份硅烷偶联剂(kh560)，0.1份irganox1010，1份纳米二氧化硅，1份硅改性高分子(siloke3572)。其中，所述硅烷偶联剂(kh560)可提升所述uv胶的粘接强度，所述irganox1010可提升了所述uv胶的化学稳定性，所述纳米二氧化硅可改善所述uv胶的稳定性、触变性、耐候性及耐洗刷性，所述硅改性高分子(siloke3572)可提升所述uv胶反应速率。
本实施例中所述uv胶的配制过程如下：将液体原料按比例配制好，然后加入固体原料，之后在避光条件下超声8小时，最后灌装于避光容器中。
实施例二
本实施例中所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：40份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，30份乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，25份丙烯酸酯封端聚氨酯(nipponsoda,tea-1000)，0.6份二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物，1份2-苯甲基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮)，1份硅烷偶联剂(kh560)，0.1份irganox1010，2份纳米二氧化硅，2份硅改性高分子(siloke3572)。其中，所述硅烷偶联剂(kh560)可提升所述uv胶的粘接强度，所述irganox1010可提升了所述uv胶的化学稳定性，所述纳米二氧化硅可改善所述uv胶的稳定性、触变性、耐候性及耐洗刷性，所述硅改性高分子(siloke3572)可提升所述uv胶反应速率。
本实施例中所述uv胶的配制过程如下：将液体原料按比例配制好，然后加入固体原料，之后在避光条件下超声8小时，最后灌装于避光容器中。
实施例三
本实施例中所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：20份聚乙二醇(15)二丙烯酸酯，25份三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，50份乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，5份二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物，0.05份irganox1010。其中，所述irganox1010可提升了所述uv胶的化学稳定性。
本实施例中所述uv胶的配制过程如下：将液体原料按比例配制好，然后加入固体原料，之后在避光条件下超声8小时，最后灌装于避光容器中。
实施例四
本实施例中所述uv胶包括下列原料按照质量份数配比制成：35聚乙二醇(15)二丙烯酸酯，60份聚丁二烯二丙烯酸酯酯(nipponkayaku,ba-530)，2二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)膦氧化物，0.2份2-苯甲基-2-(二甲基氨基)-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮)，2份纳米二氧化硅。其中，所述纳米二氧化硅可改善所述uv胶的稳定性、触变性、耐候性及耐洗刷性。
本实施例中所述uv胶的配制过程如下：将液体原料按比例配制好，然后加入固体原料，之后在避光条件下超声8小时，最后灌装于避光容器中。
表1为上述各实施例中所提供的uv胶与相关技术中的uv胶的可剥离性、附着力及耐老化测试结果。
表1
由表1可知，本发明提供的uv胶在可剥离性、附着力及耐老化均具备良好的性能，优于相关技术中的uv胶。
与相关技术相比，本发明提供的uv胶在具有良好的附着力的同时也具备良好的可剥离性，从而使得所述uv胶附着力和可剥离性的综合效果好。
以上所述的仅是本发明的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本发明的保护范围。