一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜的制作方法

文档序号:19983282发布日期:2020-02-21 20:10阅读:491来源:国知局
一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜的制作方法

本实用新型属于镭射皮革转移膜技术领域,具体涉及一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜。



背景技术:

随着镭射皮革转移膜的广泛应用,镭射膜也越来越多的被应用到皮革产品上,然而现有的镭射膜在使用后一段时间内会出现褪色和磨损的问题,大大影响的产品的美观性和品质,不利于提高消费者对产品的消费欲望,同时一些镭射膜在揭掉基层膜时,会对另一层造成损坏,进而形成膜的损坏,不利于保障产品的完整性和节约成本。



技术实现要素:

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜,具有防褪色、性能强和实用性强的特点。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜,包括抗氧化层,所述抗氧化层的顶部设置有耐磨层,所述耐磨层的顶部设有镭射层,所述镭射层的顶部设置有增亮层,所述增亮层的顶部设置有弹性层,所述弹性层的顶部设置有胶层。

优选的,所述胶层包括透明的热熔胶层。

优选的,所述抗氧化层包括石墨坩埚层。

优选的,所述耐磨层包括高分子碳化硅陶瓷涂层。

优选的,所述增亮层的表面设置有精细的微棱镜结构。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型,通过设置石墨坩埚层,采用石墨坩埚抗氧化涂料在高温下具有抗氧化性能,能够有效阻止高温下对膜造成氧化褪色的情况,碳化硅陶瓷涂层采用高分子陶瓷聚合物制成,具有高硬度、耐磨损、抗高温等特性,能够极大程度的防止膜的磨损和破坏,防水耐磨,保障膜的美观性,该皮革转移膜采用抗氧化层、耐磨层和增亮层,防止了膜的褪色,加强了膜的性能,同时保障了膜的使用寿命和图案的美观性,通过设置弹性层,达到了保障其他功能层的完整性的目的,该皮革转移膜结构合理,性能强,实用性强。

2、本实用新型,通过设置弹性层所具备的弹性一定程度上能够防止其他功能层出现断裂的情况,对其他功能起到保护作用,增亮层的微棱镜结构能够通过折射、全反射、光积累等光学现象,使光源原本向各个方向散射的光线向正面集中,增加镭射层的亮度,使镭射层图案更加清晰。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1为本实用新型材料构成的结构示意图;

图中:1、抗氧化层;2、耐磨层;3、镭射层;4、增亮层;5、弹性层;6、胶层。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

实施例

请参阅图1,本实用新型提供以下技术方案:一种防褪色性能强的镭射皮革转移膜,包括抗氧化层1,所述抗氧化层1的顶部设置有耐磨层2,所述耐磨层2的顶部设有镭射层3,所述镭射层3的顶部设置有增亮层4,所述增亮层4的顶部设置有弹性层5,弹性层5所具备的弹性一定程度上能够防止其他功能层出现断裂的情况,对其他功能起到保护作用,所述弹性层5的顶部设置有胶层6,该皮革转移膜采用抗氧化层1、耐磨层2和增亮层4,防止了膜的褪色,加强了膜的性能,同时保障了膜的使用寿命和图案的美观性,通过设置弹性层5,达到了保障其他功能层的完整性的目的,该皮革转移膜结构合理,性能强,实用性强。

具体的,所述胶层6包括透明的热熔胶层6,胶层6便于将膜固定在皮革上。

具体的,所述抗氧化层1包括石墨坩埚层,石墨坩埚层采用石墨坩埚抗氧化涂料在高温下具有抗氧化性能,能够有效阻止高温下对膜造成氧化褪色的情况。

具体的,所述耐磨层2包括高分子碳化硅陶瓷涂层,碳化硅陶瓷涂层采用高分子陶瓷聚合物制成,具有高硬度、耐磨损、抗高温等特性,能够极大程度的防止膜的磨损和破坏,防水耐磨,保障膜的美观性。

具体的,所述增亮层4的表面设置有精细的微棱镜结构,微棱镜结构能够通过折射、全反射、光积累等光学现象,使光源原本向各个方向散射的光线向正面集中,增加镭射层3的亮度,使镭射层3图案更加清晰。

本实用新型的工作原理及使用流程:本实用新型,使用时,通过胶层6将膜贴至皮革上,通过抗氧化层1能够防止产品褪色,通过耐磨层2保障产品表面的光滑度,通过增亮层4上的微棱镜结构对镭射层3起到增亮作用,保障图案的亮度和清晰度即可。

最后应说明的是:以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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