技术特征：
1.一种抗反射涂层组合物，包括：90-99.8wt％的水溶性聚合物和0.2-10wt％的水溶性染料。2.根据权利要求1所述的抗反射涂层组合物，其特征在于：所述水溶性聚合物为聚乙烯醇、聚丙烯酸、聚乙烯比咯烷酮中的一种或两种以上的组合。3.根据权利要求1所述的抗反射涂层组合物，其特征在于：所述水溶性聚合物为分子量为1000-20000g/mol的聚乙烯醇。4.根据权利要求1-3任意一项所述的抗反射涂层组合物，其特征在于：所述水溶性染料为yellow系列的水溶性染料ay36、ay3、ay23，red系列的水溶性染料ar131、1r、av54，violet系列的水溶性染料av17、av43、av76，orange系列的水溶性染料例如ao10、ao7、ao8中的一种，或者以上染料的两种以上的组合。5.一种图形化方法，包括：在待图形化层上涂布有正光刻胶层；在所述正光刻胶层上涂布水溶抗反射涂层；在所述水溶抗反射涂层上涂布负光刻胶层；通过光刻以图形化所述负光刻胶层；去除所述水溶性抗反射涂层；通过光刻以图形化所述正光刻胶层。6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于：所述水溶性抗反射涂层包括90-99.8wt％的水溶性聚合物和0.2-10wt％的水溶性染料。7.根据权利要求5-6任意一项所述的图形化方法，其特征在于：所述去除所述水溶性抗反射涂层采用显影处理，显影剂为水或乙醇。8.根据权利要求5-6任意一项所述的图形化方法，其特征在于：在涂布所述正光刻胶层之前，先在所述待图形化层上涂布掩模层，然后再涂布底层抗反射涂层。9.根据权利要求8所述的图形化方法，其特征在于：进一步包括，图形化所述掩模层；图形化所述待图形化层。
技术总结
本申请涉及一种图形化用水溶性抗反射涂层，以及使用该水溶性抗反射涂层进行图形化的方法，由于在正、负光刻胶层之间涂布了该水溶性抗反射涂层，避免了直接在正光刻胶层上涂布负光刻胶层引起的二者的反应而导致的不良等问题，从而能够很好的一并进行正光刻胶层和负光刻胶层的双光刻胶层涂布，极大地简化了工艺流程，节约了工艺时间和成本。节约了工艺时间和成本。节约了工艺时间和成本。
技术研发人员：李祥华 李大烨 贺晓彬 刘强 丁明正 杨涛
受保护的技术使用者：真芯（北京）半导体有限责任公司
技术研发日：2020.12.28
技术公布日：2022/6/30