腈溶剂的制作方法

腈溶剂
1.交叉引用
2.本技术涉及并要求2020年9月25日提交的美国临时专利申请no.63/083,390的优先权，其经此引用并入本文。
3.领域
4.本公开大体上涉及腈化合物作为溶剂的用途。本公开特别涉及腈，如己烷三腈(tricyanohexane)作为例如工业流体中的杂质的溶剂(例如溶解添加剂)的用途。
5.背景
6.硫化氢(h2s)和其它有机硫化物化合物通常与各种油气作业相关联。例如，硫化氢作为杂质少量存在于原油中，天然气可能包含多达30％的硫化氢。广义地说，硫化氢和其它有机硫化物化合物可存在于与各种工业过程，如油气作业有关的各种流体中。由于硫化氢和其它有机硫化物化合物是高度腐蚀性和毒性的，希望从工业流体中减少或除去硫化物化合物。例如，在油气作业中，用于从这些流体中减少或除去硫化物化合物的各种方法通常被称为“脱硫”方法。
7.减少或除去硫化物组分的常用方法使用化学清除剂，通常被称为“硫化氢清除剂”或“h2s清除剂”。例如，三嗪化合物常用作硫化氢清除剂。这些和其它硫化氢清除剂可直接注入油气作业中的各种流体料流中，包括在井口注入水饱和料流中，或在处理设施处注入气液接触器中。硫化氢清除剂优先与硫化氢反应以形成挥发性较低和/或不挥发的产物。常规硫化氢清除剂在除去硫化氢方面非常有效，并且在北美每年使用数百万加仑这样的清除剂。
8.尽管如此，硫化氢清除剂的使用并非没有缺点。特别地，常规硫化氢清除剂产生不需要的产物。例如，三嗪化合物通常与硫化氢反应形成包含无定形二噻嗪的固体杂质，通常被称为二噻嗪固体。尽管这些固体杂质在某些温度和压力条件(例如井下条件)下充分可溶，但固体杂质在典型条件下是不溶的。因此在许多油气加工系统中观察到大量这些固体杂质的沉淀。例如，固体杂质可能在输送和下游分配管线和设施中沉淀。在一些情况下，固体杂质的沉淀量可能足以在加工设备，如管道、容器、储存和运输罐，和甚至井中形成堵塞。与固体杂质沉淀相关的问题是有据可查的，并且是本领域技术人员已知的。当沉淀的固体积聚在油气设备和/或其组件的内表面上时，需要专门的清理程序以确保正常运行。在一些情况下，积聚可能如此严重以致组件的更换不可避免。
9.常规的清理操作可能是昂贵、耗时和具有挑战性的。典型的方法使用过氧化氢和/或过乙酸溶解固体杂质，通常在升高的温度下。但是，这些化学品是高度腐蚀性的，并且经常损坏它们意图清洁的设备。
10.因此，需要用于减轻固体杂质的沉淀和/或用于清洁沉淀的固体杂质的新型方法和化学品。
11.概述
12.在一些方面，本公开提供一种从表面除去固体杂质，例如任选作为含硫杂质组合物的一部分存在的含硫化合物的方法，所述方法包含用腈化合物溶解固体杂质以优选形成
处理过的含硫杂质组合物，其包含基于处理过的含硫杂质组合物的总重量计小于99.5重量％的含硫化合物，并且任选其中处理过的二噻嗪组合物进一步包含1ppm至90重量％的聚合含硫化合物。在一些情况下，腈化合物具有化学式c
xh2x-1
(cn)3，其中x为4至10。在一些情况下，腈化合物包含己烷三腈。在一些情况下，腈化合物具有化学式c
xh2x
(cn)2，其中x为1至6。在一些情况下，腈化合物具有化学式c
xh2x+1
cn，其中x为1至6。在一些情况下，腈化合物具有化学结构：
[0013][0014]
其中a、b和c独立地为0至4。在一些情况下，固体杂质包含二噻嗪化合物。在一些情况下，腈化合物表现出在70℉下0.01kg/l至20kg/l的二噻嗪溶解度。在一些情况下，腈化合物表现出在125℉下0.5kg/l至50kg/l的二噻嗪溶解度。
[0015]
在一些方面，本公开提供一种溶解器溶液，其包含：腈化合物；和硫化氢清除剂。在一些情况下，溶解器溶液包含0.1体积％至85体积％的量的腈化合物。在一些情况下，腈化合物具有化学式c
xh2x-1
(cn)3，其中x为4至10。在一些情况下，腈化合物具有化学结构：
[0016][0017]
其中a、b和c独立地为0至4。在一些情况下，腈化合物包含己烷三腈。在一些情况下，硫化氢清除剂包含三嗪化合物。在一些情况下，硫化氢清除剂包含六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪。
[0018]
在一些方面，本公开提供一种溶解二噻嗪的方法，所述方法包含将前述实施方案任一项的溶解器溶液添加到含二噻嗪的系统中。
[0019]
在一些实施方案中，本公开涉及一种处理包含含硫化合物的固体含硫杂质组合物的方法，所述方法包含使含硫杂质组合物中的含硫化合物与腈化合物接触以形成处理过的含硫杂质组合物，其包含小于99.5重量％含硫化合物和任选1ppm至90重量％三噻烷。
[0020]
在一些实施方案中，本公开涉及一种抑制在包含含硫化合物的含硫杂质组合物中形成聚合含硫化合物的方法，所述方法包含将腈化合物添加到含硫杂质组合物中，其中将含硫杂质组合物中的至少一些单体含硫化合物溶解，以形成处理过的含硫杂质组合物，其包含减少量的单体含硫化合物；其中处理过的含硫杂质组合物包含小于90重量％的聚合含硫化合物，例如三噻烷。减少量的单体含硫化合物任选比含硫杂质组合物中存在的含硫化合物的初始量小至少10％。
[0021]
详述
[0022]
引言
[0023]
如上所述，已经确认的是，常规硫化氢清除剂由于与硫化氢反应而产生杂质。例
如，当使用常用的硫化氢清除剂六氢-1,3,5,-三(羟乙基)二噻嗪时产生5-(2-羟乙基)二噻嗪。参见例如jan m.bakke等人,hydrolysis of 1,3,5,-tris(2-hydroxyethyl)hexahydrodithiazine and its reaction with h2s,40ind.eng.chem.res.6051(2001)；grahame n.taylor&ron matherly,gas chromatographic-mass spectroscopic analysis of chemically derivatized hexahydrotriazine-based hydrogen sulfide scavengers:part ii,49ind.eng.chem.res.6267(2010)。当形成时，杂质可能短暂地为致密液层的形式。但是，通常，杂质作为无定形固体(例如无定形(单体)二噻嗪)从溶液中沉淀，其在常规石油和/或天然气作业的条件下高度不溶。已经发现，在一些但不一定所有情况下，单体形式的二噻嗪可能有害地聚合形成另外的杂质，例如三噻烷，这增加了总固体杂质脱除的难度和复杂性。结果，固体杂质可能积聚在机械的内表面上，以造成各种组件的堵塞、阻塞、损坏和最终发生故障。
[0024]
此外，常规硫化氢清除剂经常用于油气作业以外的工业。例如，除了它们在油气作业中清除硫化氢或其它有机硫化物化合物的用途外，三嗪化合物还可用于诸如采矿、纸和纸浆加工、水力发电厂、燃煤发电厂和市政供水设施之类的领域。要理解的是，本技术中使用的术语“硫化氢清除剂”既不限于油气作业也不限于该化合物的预期功能。也就是说，本公开的硫化氢清除剂在其没有明确用于与硫化氢反应或以其它方式螯合硫化氢的目的时仍然如此。
[0025]
本公开提供用于减少或减轻这些固体杂质的形成和/或积聚的组合物和方法。固体杂质可能是例如含硫杂质，例如含硫化合物。在一些情况下，固体杂质是固体含硫杂质组合物的一部分。含硫杂质组合物包含可能是含硫化合物的固体杂质。
[0026]
在一些实施方案中，本公开涉及腈化合物在溶解由常规硫化氢清除剂，如三嗪化合物与硫化氢的反应产生的固体杂质(含硫杂质组合物)中的用途。本发明人已经发现，本文所述的腈化合物对常规油气作业中可能形成的固体杂质表现出高溶解度。换言之，固体杂质容易溶解(或保持溶解而不沉淀)在本文所述的腈化合物(包含本文所述的腈化合物的溶液)中。
[0027]
本公开还涉及一种处理包含含硫化合物的(固体)含硫杂质组合物的方法。该方法包含使含硫杂质组合物中的含硫化合物与腈化合物接触以形成处理过的含硫杂质组合物，其因此包含减少量的含硫化合物和任选三噻烷，优选为少量。
[0028]
在一些方面，本公开提供包含腈化合物和硫化氢清除剂的溶解器溶液。当(例如在油气作业中)使用这些溶解器溶液时，硫化氢清除剂优先与硫化氢反应并产生固体杂质，腈化合物有利地溶解固体杂质(例如通过再溶解沉淀的固体杂质和/或通过使固体杂质保持溶解在溶液中而不沉淀)。在另一些方面，本公开还提供使用本文所述的溶解器溶液和/或腈化合物的方法，例如用于减少和/或除去硫化氢，用于溶解二噻嗪，和/或用于除去固体杂质。
[0029]
在一些情况下，本公开涉及一种抑制在包含含硫化合物的含硫杂质组合物中形成聚合含硫化合物，例如三噻烷的方法。该方法将腈化合物添加到含硫杂质组合物中以形成处理过的含硫杂质组合物，其中将含硫杂质组合物中的至少一些含硫化合物溶解。处理过的含硫杂质组合物包含减少量的单体含硫化合物，且处理过的含硫杂质组合物包含小于50重量％的聚合含硫化合物，例如三噻烷。
[0030]
在一些方面，腈化合物可用于(例如独自存在)溶解固体杂质。一些腈化合物是已知的并可购得。但是，已经出乎意料地发现所公开的腈化合物对本文所述的用途和方法有效。常规教导尚未指出所公开的腈化合物用于这些目的。
[0031]
腈化合物
[0032]
本文描述了许多腈化合物，本发明人已经发现它们有利地溶解可能不溶于(例如难溶于)常规溶剂的固体杂质。因此，腈化合物可用于溶解(例如再溶解或保持溶解)本文所述的固体杂质。此外，腈化合物可用于包含腈化合物和硫化氢清除剂的溶解器溶液，硫化氢清除剂(例如与硫化氢)反应产生固体杂质。
[0033]
腈化合物可以是任何包含一个或多个氰基或腈官能团的有机化合物。本发明人已经发现，这些腈化合物的存在可有利地提供各种固体杂质的提高的溶解度。例如，腈化合物可优先溶解(例如再溶解或保持溶解)在油气作业的脱硫工艺的过程中沉淀的固体杂质。固体沉淀物的存在和/或积聚，例如在加工设备、管、容器、储存罐、运输罐或水处理井的内表面上，可能导致机械中的堵塞，然后需要清洁或更换。通过溶解固体杂质，腈化合物减轻或消除固体杂质在表面上的积累。此外，固体杂质在腈化合物中的溶解度允许在机械的清洁中使用腈化合物(例如包含腈化合物的溶液)。本公开设想了在许多这样的应用(其中一些在上面作为非限制性实例提及)中使用腈化合物溶解固体杂质。
[0034]
在一些实施方案中，腈化合物是三腈化合物，例如在饱和或不饱和碳原子链上具有三个氰基或腈官能团的有机化合物。例如，在一些实施方案中，腈化合物是三腈烷烃，例如具有化学式c
xh2x-1
(cn)3的有机化合物，其中x为4至10。示例性的三腈化合物包括丁烷三腈(例如三氰基丁烷)、戊烷三腈(例如三氰基戊烷)、己烷三腈(例如三氰基己烷)、庚烷三腈(例如三氰基庚烷)、辛烷三腈(例如三氰基辛烷)、壬烷三腈(例如三氰基壬烷)和癸烷三腈(例如三氰基癸烷)及其组合。在一些实施方案中，三腈化合物包含三氰基己烷，例如1,3,6-三氰基己烷和/或1,3,5-三氰基己烷。
[0035]
就化学结构而言，三腈化合物可具有结构
[0036][0037]
其中a、b和c独立地为0至4。在一些实施方案中，a、b和c的总和为3至10。
[0038]
在一些实施方案中，腈化合物是二腈化合物，例如在饱和或不饱和碳原子链上具有两个氰基或腈官能团的有机化合物。例如，在一些实施方案中，腈化合物是二腈烷烃，例如具有化学式c
xh2x
(cn)2的有机化合物，其中x为1至6。示例性的二腈化合物包括丙二腈(例如二氰基甲烷)、丁二腈(例如二氰基乙烷)、戊二腈(glutaronitrile)(例如二氰基丙烷)、己二腈(例如二氰基丁烷)、戊烷二腈(pentane dinitrile)(例如二氰基戊烷)和己烷二腈(例如二氰基己烷)。
[0039]
在一些实施方案中，腈化合物是单腈化合物，例如在饱和或不饱和碳原子链上具有一个氰基或腈官能团的有机化合物。例如，在一些实施方案中，腈化合物是腈烷烃，例如具有化学式c
xh2x+1
(cn)的有机化合物，其中x为1至6。示例性的腈化合物包括乙腈(例如氰基
甲烷)、丙腈(例如氰基乙烷)、丁腈(例如氰基丙烷)、戊腈(valeronitrile)(例如氰基丁烷)、戊腈(pentane nitrile)(例如氰基戊烷)和己腈(例如氰基己烷)。
[0040]
在一些实施方案中，腈化合物包含上述化合物的混合物。例如，可使用一种或多种三腈、二腈和/或单腈的组合。据设想，在一些情况下，腈化合物可在没有硫化氢清除剂的情况下使用(例如溶解器溶液可能仅包含腈化合物)，例如以在各种应用中溶解固体杂质，包括但不限于油气作业、采矿、纸和纸浆加工、水力发电厂、燃煤发电厂和市政供水设施。
[0041]
当并入溶解器溶液时，溶解器溶液中存在的腈化合物的含量不受特别限制并可广泛变化。在一个实施方案中，溶解器溶液包含0.1体积％至20体积％的腈化合物，例如0.1体积％至18.5体积％、0.1体积％至17体积％、0.1体积％至15.5体积％、0.1体积％至12体积％、0.2体积％至20体积％、0.2体积％至18.5体积％、0.2体积％至17体积％、0.2体积％至15.5体积％、0.2体积％至12体积％、0.5体积％至20体积％、0.5体积％至18.5体积％、0.5体积％至17体积％、0.5体积％至15.5体积％、0.5体积％至12体积％、0.8体积％至20体积％、0.8体积％至18.5体积％、0.8体积％至17体积％、0.8体积％至15.5体积％、或0.8体积％至12体积％。就下限而言，溶解器溶液可包含大于0.1体积％的腈化合物，例如大于0.2体积％、大于0.5体积％或大于0.8体积％。就上限而言，溶解器溶液可包含小于20体积％的腈化合物，例如小于18.5体积％、小于17体积％、小于15.5体积％或小于12体积％。
[0042]
在一些情况下，溶解器溶液中存在的腈化合物的含量可相对较高。在一个实施方案中，例如，溶解器溶液包含15体积％至85体积％的腈化合物，例如15体积％至80体积％、15体积％至75体积％、15体积％至70体积％、15体积％至65体积％、20体积％至85体积％、20体积％至80体积％、20体积％至75体积％、20体积％至70体积％、20体积％至65体积％、25体积％至85体积％、25体积％至80体积％、25体积％至75体积％、25体积％至70体积％、25体积％至65体积％、30体积％至85体积％、30体积％至80体积％、30体积％至75体积％、30体积％至70体积％、或30体积％至65体积％。就下限而言，溶解器溶液可包含大于15体积％的腈化合物，例如大于20体积％、大于25体积％或大于30体积％。就上限而言，溶解器溶液可包含小于85体积％的腈化合物，例如小于80体积％、小于75体积％、小于70体积％或小于65体积％。
[0043]
硫化氢清除剂
[0044]
本文所述的溶解器溶液除腈化合物外还包含硫化氢清除剂。硫化氢清除剂可广泛变化并且许多硫化氢清除剂是已知的。
[0045]
硫化氢清除剂可以是选择性地与流体料流中的硫化氢(或其它有机硫化物组分)反应或以其它方式螯合和/或除去流体料流中的硫化氢(或其它有机硫化物组分)的任何有机或无机化合物。优选地，硫化氢清除剂通过不可逆反应将硫化物组分转化成更惰性的形式。
[0046]
在一些实施方案中，硫化氢清除剂可包含无机化合物。例如，硫化氢清除剂可包含金属化合物，如含铜化合物(例如碳酸铜)、含铁化合物(例如氧化铁)或含锌化合物(例如碳酸锌或氧化锌)，它们可能反应形成不溶性硫化铜。作为另一实例，硫化氢清除剂可包含过氧化氢，其可能反应形成游离硫。
[0047]
在一些实施方案中，硫化氢清除剂可包含有机化合物。例如，硫化氢清除剂可包含含氮化合物，如含氮杂环。在一些实施方案中，硫化氢清除剂包含三嗪(例如三嗪衍生物)。
换言之，硫化氢清除剂可以是三嗪化合物。示例性三嗪化合物包括三嗪(例如s-三嗪)、六氢-三嗪(例如六氢-s-三嗪)、六氢-1,3,5-三(甲基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(乙基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(丙基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(丁基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(丁基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(羟甲基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(羟丙基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(羟丁基)-s-三嗪、六氢-1,3,5-三(羟戊基)-s-三嗪及其组合。
[0048]
就化学结构而言，硫化氢清除剂可具有结构：
[0049][0050]
其中r1、r2和r3独立地为氢、c
1-c5烷基、c
2-c5烯基或c
1-c5醇基团。在一些实施方案中，例如，r1、r2和r3各自是c
1-c5醇基团，如羟甲基、羟乙基、羟丙基、羟丁基和/或羟戊基。
[0051]
市售硫化氢清除剂包括来自foremark的puremark产品、来自nalco的gastreat产品、来自hexion的mea traizine产品和来自baker hughes的sulfix。
[0052]
溶解器溶液中存在的硫化氢清除剂的含量不受特别限制并可广泛变化。在一个实施方案中，溶解器溶液包含15体积％至85体积％的硫化氢清除剂，例如15体积％至80体积％、15体积％至75体积％、15体积％至70体积％、15体积％至65体积％、20体积％至85体积％、20体积％至80体积％、20体积％至75体积％、20体积％至70体积％、20体积％至65体积％、25体积％至85体积％、25体积％至80体积％、25体积％至75体积％、25体积％至70体积％、25体积％至65体积％、30体积％至85体积％、30体积％至80体积％、30体积％至75体积％、30体积％至70体积％、或30体积％至65体积％。就下限而言，溶解器溶液可包含大于15体积％的硫化氢清除剂，例如大于20体积％、大于25体积％或大于30体积％。就上限而言，溶解器溶液可包含小于85体积％的硫化氢清除剂，例如小于80体积％、小于75体积％、小于70体积％或小于65体积％。
[0053]
附加组分
[0054]
本文所述的溶解器溶液可包含除腈化合物和硫化氢清除剂外的其它(任选)组分。这些附加组分可为溶解器溶液提供进一步的功能。例如附加组分可稳定溶解器溶液或可促进其使用。
[0055]
在一些实施方案中，将腈化合物和硫化氢清除剂分散(例如溶解)在溶剂中。在一些实施方案中，腈化合物在不存在硫化氢清除剂的情况下使用，但分散(例如溶解)在溶剂中。不受制于任何机制或理论，本文所述的溶解器溶液可包含任何溶剂。在一些情况下，溶剂是水性溶剂，如水。在一些情况下，溶剂是有机溶剂，如戊烷、己烷、甲醇、乙醇、丙醇(例如正丙醇或异丙醇)、丙酮、苯、甲苯、二甲苯。对溶解器溶液中存在的溶剂量没有特别限制。在一些情况下，溶剂构成溶解器溶液的剩余部分。例如，溶解器溶液可包含一定体积百分比的腈化合物和硫化氢化合物(和任何附加组分)，其余为溶剂。
[0056]
在一些实施方案中，溶解器溶液进一步包含附加组分，如酸、分散剂、增粘剂、润滑
剂、阻垢剂、减摩剂、交联剂、表面活性剂、ph调节剂、铁控制剂、破乳剂或其组合。在一些实施方案中，腈化合物在不存在硫化氢清除剂的情况下使用，但与这些附加组分的任一种混合。
[0057]
在一些实施方案中，溶解器溶液进一步包含表面活性剂。在一些实施方案中，腈化合物在不存在硫化氢清除剂的情况下使用，但与表面活性剂混合。表面活性剂降低整个组合物的表面张力并改进固体杂质的分散和溶解度。合适的表面活性剂的实例包括失水山梨糖醇脂肪酸酯乙氧基化物(例如tween 40)、烷基酚醇乙氧基化物(例如np-9、np-4)、非离子聚合物表面活性剂(例如croda hypermer a70)、阳离子表面活性剂(乙氧基化牛脂烷基乙基硫酸铵(ethoxylated tallow alkylmonium ethosulfate)，crodaquat tes)和失水山梨糖醇单油酸酯(例如span 80)。
[0058]
固体杂质
[0059]
如上所述，硫化氢清除剂，例如三嗪化合物与硫化氢的反应产生固体杂质。这些固体杂质在机械内表面上的积累可能导致油气作业中的各种组件的堵塞、阻塞、损坏和最终发生故障。在使用硫化氢清除剂的各种工艺中，例如在油气作业中可能形成各种固体杂质，并且已经有利地发现本文所述的腈化合物(单独和/或作为溶解器溶液的组分)溶解固体杂质。
[0060]
在一些实施方案中，固体杂质是硫化氢清除剂与硫化氢和/或其它硫化物组分的反应产物。在一些特定实施方案中，固体杂质是三嗪基化合物与硫化氢的产物。在一些情况下，固体杂质包含具有含三个氮和/或硫杂原子的六元环的有机化合物。例如，固体杂质可包含噻二嗪化合物、二噻嗪化合物或其组合。就化学结构而言，固体杂质可具有以下结构：
[0061][0062]
其中r是氢、c
1-c5烷基、c
2-c5烯基或c
1-c5醇基团。在一些实施方案中，例如，r是c
1-c5醇基团，如羟甲基、羟乙基、羟丙基、羟丁基和/或羟戊基。
[0063]
在一些实施方案中，硫化氢清除剂是具有先前论述的结构的叠氮基化合物，固体杂质具有上述结构，且r官能团等同于叠氮基化合物的r1、r2和/或r3官能团。例如，硫化氢清除剂可包含六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪，且固体杂质可包含5-羟乙基-1,3,5-二噻嗪。
[0064]
在一些情况下，固体杂质包含无定形二噻嗪。例如，固体杂质可包含由硫化氢清除剂与硫化氢和/或其它硫化物组分的反应产生的二噻嗪化合物的无定形产物和/或衍生物。无定形二噻嗪的化学结构以及它们的形成机理描述在grahame n.taylor&ron matherly,structural elucidation of the solid byproduct from the use of 1,3,5,-tris(2-hydroxyethyl)hexahydro-s-triazine based hydrogen sulfide scavengers 50ind.eng.chem.res.735(2011)中，其经此引用并入本文。
[0065]
在一些实施方案中，固体杂质包含无机硫化合物。在一些情况下，例如，固体杂质包括金属硫化物，如硫化铁(例如黄铁矿)、硫化铅(例如方铅矿)、硫化锌(例如闪锌矿)、硫
化银(例如辉银矿)、硫化汞(例如朱砂)、硫化钼(例如辉钼矿)、硫化镍(例如镍黄铁矿)、硫化砷(例如雄黄)、硫化锑(例如辉锑矿)、铁铜硫化物(例如黄铜矿)或其组合。在一些情况下，固体杂质包含硫酸盐，如硫酸钙(例如石膏、半水合物、无水石膏)、硫酸锶(例如天青石)、硫酸铅(例如铅矾)、硫酸钡(例如重晶石)或其组合。
[0066]
在一些实施方案中，固体杂质包含元素硫。
[0067]
固体杂质，例如二噻嗪化合物通常不溶于油和气体流体。因此，固体杂质作为固体从溶液中沉淀，随后可能积聚在机械上。但是，本发明人已经发现，腈化合物(和包含腈化合物的溶解器溶液)对固体杂质表现出高溶解度。也就是说，腈化合物可以再溶解沉淀的固体杂质和/或使固体杂质保持为溶质(例如通过减少或消除沉淀)。固体杂质(例如二噻嗪化合物)溶解在腈化合物中的倾向可通过溶解率量化，其指示在给定温度下溶解在腈化合物中的固体杂质(例如二噻嗪化合物)的最大量。
[0068]
如上所述，上文提到的腈化合物具有出乎意料的溶解固体杂质的能力。换言之，固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度惊人地高。例如，在70℉下的溶解度可为0.01kg/l至20kg/l，例如0.01kg/l至18kg/l、0.01kg/l至16kg/l、0.01kg/l至14kg/l、0.01kg/l至12kg/l、0.02kg/l至20kg/l、0.02kg/l至18kg/l、0.02kg/l至16kg/l、0.02kg/l至14kg/l、0.02kg/l至12kg/l、0.04kg/l至20kg/l、0.04kg/l至18kg/l、0.04kg/l至16kg/l、0.04kg/l至14kg/l、0.04kg/l至12kg/l、0.06kg/l至20kg/l、0.06kg/l至18kg/l、0.06kg/l至16kg/l、0.06kg/l至14kg/l、0.06kg/l至12kg/l、0.08kg/l至20kg/l、0.08kg/l至18kg/l、0.08kg/l至16kg/l、0.08kg/l至14kg/l、或0.08kg/l至12kg/l。就下限而言，在70℉下固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度可为大于0.01kg/l，例如大于0.02kg/l、大于0.04kg/l、大于0.06kg/l或大于0.08kg/l。就上限而言，在70℉下固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度可为小于20kg/l，例如小于18kg/l、小于16kg/l、小于14kg/l或小于12kg/l。
[0069]
在一些实施方案中，在125℉下固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度为0.5kg/l至50kg/l，例如0.5kg/l至45kg/l、0.5kg/l至40kg/l、0.5kg/l至35kg/l、0.6kg/l至50kg/l、0.6kg/l至45kg/l、0.6kg/l至40kg/l、0.6kg/l至35kg/l、0.8kg/l至50kg/l、0.8kg/l至45kg/l、0.8kg/l至40kg/l、0.8kg/l至35kg/l、1kg/l至50kg/l、1kg/l至45kg/l、1kg/l至40kg/l、或1kg/l至35kg/l。就下限而言，在125℉下固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度可为大于0.5kg/l，例如大于0.6kg/l、大于0.8kg/l或大于1kg/l。就上限而言，在125℉下固体杂质(例如二噻嗪化合物)在腈化合物中的溶解度可为小于50kg/l，例如小于45kg/l、小于40kg/l或小于35kg/l。
[0070]
含硫杂质组合物
[0071]
当含硫杂质组合物中的固体含硫化合物与腈接触(并任选经受其它处理，如温度)时，形成处理过的含硫杂质组合物。
[0072]
含硫杂质组合物可包含(单体)含硫化合物，例如二噻嗪。例如，含硫杂质组合物可包含基于含硫杂质组合物的总重量计大于25重量％的含硫化合物，例如大于35重量％、大于50重量％、大于75重量％、大于85重量％、大于90重量％、大于95重量％或大于99重量％。就范围而言，含硫杂质组合物可包含25重量％至100重量％的含硫化合物，例如50重量％至100重量％、25重量％至75重量％、35重量％至65重量％、75重量％至100重量％、85重量％
至99.5重量％、或90重量％至99重量％。就上限而言，含硫杂质组合物可包含小于100％的含硫化合物，例如小于95重量％、小于90重量％、小于75重量％、小于50重量％或小于35重量％。
[0073]
处理过的含硫杂质组合物可包含减少量的含硫化合物，例如单体二噻嗪(与初始含硫杂质组合物相比减少)。例如，处理过的含硫杂质组合物可包含基于处理过的含硫杂质组合物的总重量计小于99.5％的含硫化合物，例如小于99重量％、小于95重量％、小于92重量％、小于90重量％、小于75重量％、小于60重量％、小于50重量％、小于40重量％、小于35重量％、小于25重量％、小于15重量％、小于10重量％、小于5重量％或小于1重量％。就范围而言，处理过的含硫杂质组合物可包含0重量％至95重量％的含硫化合物，例如0重量％至75重量％、0重量％至50重量％、1重量％至35重量％、5重量％至25重量％、或10重量％至20重量％。就下限而言，含硫杂质组合物可包含大于0重量％的含硫化合物，例如大于1重量％、大于5重量％、大于10重量％、大于25重量％或大于50重量％。
[0074]
在一些情况下，减少量的单体含硫化合物比未处理的含硫杂质组合物中存在的含硫化合物的初始量小至少10％，例如小15％、小25％、小35％、小50％、小至少75％或小至少90％。
[0075]
在一些实施方案中，单体含硫杂质可能聚合形成聚合含硫杂质。在一些情况下，通过用本文公开的腈化合物处理可能有益地延缓或阻止这种聚合。作为处理的结果，也延缓或消除由单体二噻嗪形成(聚合的)含噻嗪聚合物/化合物，例如三噻烷杂质。因此，处理过的含硫杂质组合物包含仅少量的聚合含硫化合物，例如含噻嗪聚合物/化合物。
[0076]
例如，处理过的含硫杂质组合物可包含小于100％的聚合含硫化合物，例如三噻烷，例如小于95％、小于90重量％、小于80重量％、小于75重量％、小于65重量％、小于60重量％、小于50重量％、小于40重量％、小于30重量％、小于25重量％或小于10重量％。就范围而言，处理过的含硫杂质组合物可包含1ppb至90重量％的聚合含硫化合物，例如1ppm至90重量％、1重量％至90重量％、10重量％至80重量％、20重量％至75重量％、35重量％至75重量％、40重量％至70重量％、或45重量％至70重量％。就上限而言，含硫杂质组合物可包含大于1ppb的聚合含硫化合物，例如大于10ppm、大于1重量％、大于10重量％、大于15重量％、大于25重量％、大于35重量％、大于45重量％、大于50重量％、大于60重量％、大于65重量％或大于75重量％。
[0077]
溶解固体杂质
[0078]
考虑到固体杂质(或多种杂质)在腈化合物中的相对较高溶解度，本文所述的腈化合物(和含有腈化合物的溶解器溶液)可有益地用于溶解(例如再溶解或保持溶解)固体杂质。因此，本公开的若干实施方案提供了利用溶解器溶液和/或腈化合物的方法。
[0079]
在一些实施方案中，腈化合物和/或溶解器溶液用于减少或除去硫化物杂质，如硫化氢或有机硫化物化合物。在这些实施方案中，将本文所述的溶解器溶液添加到含硫化物杂质的系统中。含硫化物杂质的系统可以是油气作业的组件或机械，例如脱硫工艺的组件。向系统添加溶解器溶液的机制不受特别限制。在一些实施方案中，通过直接注射将溶解器溶液添加到系统中。例如，可将溶解器溶液喷入(例如用雾化套管)或以其它方式注入含硫化物杂质的系统的流体料流(例如油、气体或流体混合物)中。在一些实施方案中，通过接触器，如接触器塔将溶解器溶液添加到系统中。例如，可将含硫化物杂质的系统的流体料流
(例如油、气体或流体混合物)鼓泡或以其它方式进给经过装有溶解器溶液的接触器塔。在这些实施方案中，硫化氢清除剂优先与硫化物杂质反应，并且腈化合物溶解(例如再溶解和/或保持溶解)该反应的产物。
[0080]
本公开还涉及处理可能包含固体杂质(作为含硫杂质组合物的一部分)的含硫组合物，其包含使(含硫杂质组合物中的)固体杂质与腈化合物接触以形成具有如本文所述的组成的处理过的含硫组合物的步骤。
[0081]
在一些实施方案中，腈化合物和/或溶解器溶液用于溶解固体杂质，如二噻嗪化合物。在这些实施方案中，将本文所述的溶解器溶液添加到含杂质的系统中。含(硫化物)杂质的系统可以是油气作业的组件或机械，例如脱硫工艺的组件。杂质，例如二噻嗪在一些情况下可能是脱硫工艺的产物。为了除去固体，例如二噻嗪，将溶解器溶液引入含杂质的系统。向系统添加溶解器溶液的机制不受特别限制。在这一实施方案中，溶解器溶液可用于在不断清除硫化物杂质的同时清洁或除去沉淀的二噻嗪化合物。
[0082]
在一些实施方案中，腈化合物和/或溶解器溶液用于从表面除去固体杂质，如二噻嗪化合物。在这些实施方案中，腈化合物溶解固体杂质。待清洁的表面不受特别限制，并且可以是例如油气作业的组件或机械，例如脱硫工艺的组件。在一些情况下，含杂质的系统可以是杂质，例如二噻嗪化合物已沉淀和/或积聚在其上的机械组件。在一些实施方案中，例如，其可以是石油和/或天然气作业、采矿作业、纸和纸浆加工、水力发电厂、燃煤发电厂或市政供水设施的组件。二噻嗪在一些情况下可能是脱硫工艺的产物。为了除去固体二噻嗪，将腈化合物引入表面。向系统添加溶解器溶液的机制不受特别限制。在这一实施方案中，腈化合物可独自用于清洁或除去沉淀的二噻嗪化合物。
[0083]
如上文论述，固体杂质在环境温度下可溶于腈化合物。因此，上述方法可包含在环境温度下利用腈化合物和/或溶解器溶液。在一些实施方案中，在50℉至90℉，例如50℉至85℉、50℉至80℉、50℉至75℉、55℉至90℉、55℉至85℉、55℉至80℉、55℉至75℉、60℉至90℉、60℉至85℉、60℉至80℉、60℉至75℉、65℉至90℉、65℉至85℉、65℉至80℉、或65℉至75℉的温度下利用腈化合物和/或溶解器溶液。就下限而言，可在大于50℉，例如大于55℉、大于60℉或大于65℉的温度下利用腈化合物和/或溶解器溶液。就上限而言，可在小于90℉，例如小于85℉、小于80℉或小于75℉的温度下利用腈化合物和/或溶解器溶液。
[0084]
固体杂质在腈化合物中的溶解度随温度提高而提高。因此，上述方法可进一步包含加热腈化合物和/或溶解器溶液(和任选加热固体杂质或含有固体杂质的溶液)到升高的温度。在一些实施方案中，将腈化合物和/或溶解器溶液加热到90℉至400℉，例如90℉至390℉、90℉至380℉、90℉至375℉、100℉至400℉、100℉至390℉、100℉至380℉、100℉至375℉、110℉至400℉、110℉至390℉、110℉至380℉、110℉至375℉、115℉至400℉、115℉至390℉、115℉至380℉、或115℉至375℉的温度。就下限而言，可将腈化合物和/或溶解器溶液加热到大于90℉，例如大于100℉、大于110℉或大于115℉的温度。就上限而言，可将腈化合物和/或溶解器溶液加热到小于400℉，例如小于390℉、小于380℉或小于375℉的温度。
[0085]
固体杂质在腈化合物中的溶解可能要求固体杂质长时间暴露于腈化合物。因此，上述方法可进一步包含允许固体杂质(例如二噻嗪化合物)溶解延长的时间。在一些实施方案中，使固体杂质(例如二噻嗪化合物)暴露于腈化合物0.5小时至48小时，例如0.5小时至
120小时、0.5小时至96小时、0.5小时至72小时、0.5小时至48小时、1小时至48小时、1小时至120小时、1小时至96小时、1小时至72小时、1小时至48小时、1.5小时至48小时、1.5小时至120小时、1.5小时至96小时、1.5小时至72小时、1.5小时至48、2小时至48小时、2小时至120小时、2小时至96小时、2小时至72小时、或2小时至48。就下限而言，可使固体杂质暴露于腈化合物至少0.5小时，例如至少1小时、至少1.5小时或至少2小时。就上限而言，可使固体杂质暴露于腈化合物小于48小时，例如小于120小时、小于96小时、小于72小时或小于48小时。
[0086]
三噻烷抑制
[0087]
在一些情况下，二噻嗪的溶解可用于延缓由二噻嗪(二噻嗪单体)形成的杂质的形成。由二噻嗪单体形成的杂质的一些实例是噻烷(thianes)，例如三噻烷。
[0088]
在一些实施方案中，本公开涉及一种抑制在包含含硫化合物，例如二噻嗪的含硫杂质组合物中形成(聚合)含硫化合物，如(聚合)含噻嗪聚合物/化合物，例如三噻烷的方法。聚合含硫化合物可以是是含有(单体)二噻嗪或由(单体)二噻嗪形成的聚合物。该方法包含将腈化合物，例如己烷三腈(任选在溶解器溶液中)添加到含硫杂质组合物中的步骤。由此，腈化合物溶解含硫杂质组合物中的至少一些二噻嗪以形成处理过的含硫杂质组合物。在一些情况下，处理过的含硫杂质组合物包含减少量的(单体)含硫化合物(二噻嗪)，或在一些情况下不含单体含硫化合物。因此，延缓或消除由单体二噻嗪形成(聚合)含噻嗪聚合物/化合物，例如三噻烷杂质。换言之，几乎或完全没有形成三噻烷，因为几乎或完全不存在用于形成它的单体二噻嗪。处理过的含硫杂质组合物中的三噻烷(或其它(聚合)含噻嗪聚合物/化合物)的量可如本文所讨论。
[0089]
在一些情况下，处理过的含硫杂质组合物包含小于100重量％(聚合)含噻嗪聚合物/化合物，例如三噻烷(关于处理过的含硫杂质组合物的组成，参见上文的论述)。
[0090]
在一些实施方案中，本文中公开的任何或一些步骤或组件可能被认为是任选的。在一些情况下，本说明书中的任何或一些前述项目可能例如通过权利要求的措辞明确地排除。例如，权利要求的措辞可能被修改为指出该组合物不包含或排除蓖麻油。
[0091]
如本文所用，“大于”和“小于”界限也可能包括与其关联的数字。换言之，“大于”和“小于”可被解释为“大于或等于”和“小于或等于”。据设想，该措辞可随后在权利要求中被修改为包括“或等于”。例如，“大于4.0”可解释为并且随后在权利要求中被修改为“大于或等于4.0”。
实施例
[0092]
参考下列非限制性实施例进一步理解本公开。
[0093]
实施例1
[0094]
运行试验以评估腈化合物在硫化氢清除剂中的溶解度并由此确定溶解器溶液的组成。使用60体积％六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪的水溶液作为硫化氢清除剂。使用己烷三腈作为腈化合物。
[0095]
通过将腈化合物添加到硫化氢清除剂中制备五个样品，各5毫升。加入不同量的腈化合物以制备分别包含1体积％、2体积％、3体积％、4体积％和5体积％腈化合物的样品，余量为硫化氢清除剂。摇动各样品直至视觉上均匀并使其沉降和分离。在初始分离后再次摇动样品以确保最大溶解，然后评价分离。
[0096]
对于各样品，摇动产生乳状液，其在观察到分离前有利地稳定长达1小时。因此，所有样品都是高度稳定的。特别地，包含1体积％和2体积％腈化合物的样品在任何点都没有完全分离；相反，腈化合物的小微滴仅聚结在表面。因此，发现包含大约1-2体积％的溶解器溶液特别稳定和有效。因此，一些腈溶液/组合物可以在低于100体积％，例如小于75体积％、小于50体积％、小于35体积％、小于25体积％、小于15体积％、小于10体积％、小于5体积％或小于3体积％的浓度下是有效的。
[0097]
实施例2
[0098]
运行试验以评估固体杂质在腈化合物中的溶解度。使用己烷三腈作为腈化合物。使用二噻嗪化合物的两个样品作为固体杂质：“实验室样品”通过用硫化氢和氮气的混合物连续鼓泡40体积％六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪溶液直至发生分离而生成，“现场样品(field sample)”是从脱硫工艺的接触器塔收集的无定形二噻嗪的样品。
[0099]
在第一个试验中，评估实验室样品在腈化合物中的溶解度。通过将来自实验室样品的固体二噻嗪与腈化合物混合制备样品。将样品加热到70℉和125℉24小时。在24小时后，回收未溶解的固体杂质，用冷异丙醇冲洗，风干并称重。测定溶解的固体杂质的量并用于计算实验室样品的溶解度。该试验的结果报告在表1中。
[0100]
表1:实验室样品试验
[0101] 实施例1实施例2温度(℉)70125接触时间(小时)2424腈化合物(g)25.0325.01初始固体杂质(g)5.135.16最终固体杂质(g)4.844.24溶解量(g)0.290.92计算溶解度(kg/l)0.0120.038
[0102]
如表1的数据所示，腈化合物令人惊讶地有效溶解实验室样品。特别地，在125℉下，计算溶解度为～0.04kg/l。
[0103]
在第二个试验中，评估现场样品在腈化合物中的溶解度。通过将来自现场样品的固体二噻嗪与腈化合物混合制备样品。将样品加热到70℉和125℉2小时或24小时。在该时间后，回收未溶解的固体杂质，用冷异丙醇冲洗，风干并称重。测定溶解的固体杂质的量并用于计算实验室样品的溶解度。该试验的结果报告在表2中。
[0104]
表2:现场样品试验
[0105] 实施例3实施例4实施例5实施例6温度(℉)7070125125接触时间(小时)22422腈化合物(g)10.0210.0110.75.08初始固体杂质(g)12.2812.4512.6545.82最终固体杂质(g)11.247.55901.186溶解量(g)1.0404.89112.6544.63计算溶解度(kg/l)0.1070.506》1.303.92
[0106]
如表2的数据所示，腈化合物在70℉下令人惊讶地有效溶解现场样品。此外，实施例3和实施例4表明，在70℉的较低温度下2小时后，固体杂质已显著溶解，但尚未完全溶解。有意思的是，固体杂质进一步暴露于腈化合物，例如暴露24小时表现出比在2小时高的溶解率。这一结果表明，使用延长的接触时间可进一步改进溶解效果。
[0107]
也如表2中所示，腈化合物在125℉下令人惊讶地有效溶解现场样品。在前两个小时内，实施例5中的固体杂质已全部溶解。因此，固体杂质的实际溶解度大于计算溶解度，因为没有达到饱和(如表2中的“》”所示)。但是，在实施例6中，固体杂质没有全部溶解(即达到饱和)，因此可全数计算溶解度。实施例5-6证实腈化合物在溶解固体二噻嗪杂质方面的出乎意料的效果。
[0108]
在对比试验中，测试替代性溶剂以评估现场样品的相对溶解度。通过将来自现场样品的固体二噻嗪与20毫升各种溶剂混合制备样品。将样品加热到70℉2小时或24小时。在该时间后，回收未溶解的固体杂质，用冷异丙醇冲洗，风干并称重。测定溶解的固体杂质的量并用于计算实验室样品的溶解度。该试验的结果报告在表3中。包括己烷三腈(样品3和4)以用于对比。
[0109]
表3:对比现场样品试验
[0110][0111][0112]
如表3的数据所示，腈化合物在2小时后表现出相当的现场样品溶解度。但是，在24小时后，腈化合物表现出最高溶解度0.506kg/l，其远高于甲醇表现出的0.4kg/l，而甲醇是对比溶剂中表现最好的。此外，腈化合物具有明显低于甲醇的闪点。因此在关心可燃性时(精炼厂)，腈化合物是用于溶解固体的有利产品。
[0113]
实施例3
[0114]
运行试验以评估溶解器溶液与硫化物杂质反应并溶解产物的能力。通过混合20毫
升60体积％六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪的水溶液与3.6毫升包含己烷三腈的腈化合物，制备溶解器溶液(实施例8)。所得溶解器溶液包含15体积％的腈化合物。对比例使用20毫升60体积％六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪的水溶液，没有腈化合物(对比例h)。
[0115]
在各试验中，将溶液置于试验容器中，向该容器接入硫化氢(h2s)气体供应。在设定的流量下打开气阀，并将硫化氢鼓过受试溶液。该处理持续到不再消耗硫化氢——如通过带出(carryover)样品中的硫化氢检测测定。此时，关闭气阀，停止硫化氢供应，并记录突破时间。对于溶解器溶液，在测试过程中或之后没有观察到硫化氢清除剂和腈化合物之间的明显分离。该试验的结果报告在表4中。
[0116]
表4:清除剂试验
[0117][0118][0119]
如表4的数据所示，对于这两个试验，硫化氢的突破时间出现在相似的时间。这表明腈化合物不干扰硫化氢清除剂的反应或效用。
[0120]
在上述测试完成后，将各样品倒入管瓶并使其在70℉下静置24小时。在24小时后，对比例a已变得完全不透明，并且固体在稠浆中可见。在24小时后，实施例7仅变得轻微浑浊，并且没有可见固体。这表明腈化合物的存在最大限度减少和/或延缓固体杂质的形成。
[0121]
实施方案
[0122]
如下文所用，对一系列实施方案的任何提及被理解为是分别提及这些实施方案的每一个(例如“实施方案1-4”被理解为是“实施方案1、2、3或4”)。
[0123]
实施方案1是一种从表面除去固体杂质，例如任选作为含硫杂质组合物的一部分存在的含硫化合物的方法，所述方法包含用腈化合物溶解固体杂质以优选形成处理过的含硫杂质组合物，其包含基于处理过的含硫杂质组合物的总重量计小于99.5重量％的含硫化合物，并且任选其中处理过的二噻嗪组合物进一步包含1ppm至90重量％的聚合含硫化合物。
[0124]
实施方案2是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物具有化学式c
xh2x-1
(cn)3，其中x为4至10。
[0125]
实施方案3是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物包含己烷三腈。
[0126]
实施方案4是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物具有化学式c
xh2x
(cn)2，其中x为1至6。
[0127]
实施方案5是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物具有化学式c
xh2x+1
cn，其中x为1至6。
[0128]
实施方案6是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物具有化学结构：
[0129][0130]
其中a、b和c独立地为0至4。
[0131]
实施方案7是前述实施方案任一项的方法，其中所述固体杂质包含二噻嗪化合物。
[0132]
实施方案8是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物表现出在70℉下0.01kg/l至20kg/l的二噻嗪溶解度。
[0133]
实施方案9是前述实施方案任一项的方法，其中所述腈化合物表现出在125℉下0.5kg/l至50kg/l的二噻嗪溶解度。
[0134]
实施方案10是一种溶解器溶液，其包含：腈化合物；和硫化氢清除剂。
[0135]
实施方案11是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述溶解器溶液包含0.1体积％至85体积％的量的腈化合物。
[0136]
实施方案12是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述腈化合物具有化学式c
xh2x-1
(cn)3，其中x为4至10。
[0137]
实施方案13是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述腈化合物具有化学结构：
[0138][0139]
其中a、b和c独立地为0至4。
[0140]
实施方案14是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述腈化合物包含己烷三腈。
[0141]
实施方案15是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述硫化氢清除剂包含三嗪化合物。
[0142]
实施方案16是前述实施方案任一项的溶解器溶液，其中所述硫化氢清除剂包含六氢-1,3,5-三(羟乙基)-s-三嗪。
[0143]
实施方案17是一种溶解二噻嗪的方法，所述方法包含将前述实施方案任一项的溶解器溶液添加到含二噻嗪的系统中。
[0144]
实施方案18是一种处理包含含硫化合物的固体含硫杂质组合物的方法，所述方法包含使含硫杂质组合物中的含硫化合物与腈化合物接触以形成处理过的含硫杂质组合物，其包含小于99.5重量％的含硫化合物。
[0145]
实施方案19是实施方案18的方法，其中所述处理过的含硫杂质组合物包含1ppm至90重量％的三噻烷。
[0146]
实施方案20是一种抑制在包含含硫化合物的含硫杂质组合物中形成聚合含硫化合物的方法，所述方法包含将腈化合物添加到含硫杂质组合物中，其中将含硫杂质组合物
中的至少一些单体含硫化合物溶解，以形成处理过的含硫杂质组合物，其包含减少量的单体含硫化合物；其中处理过的含硫杂质组合物包含小于90重量％的聚合含硫化合物。
[0147]
实施方案21是实施方案20的方法，其中所述减少量的单体含硫化合物比含硫杂质组合物中存在的含硫化合物的初始量小至少10％。
[0148]
实施方案22是实施方案20或21的方法，其中所述聚合含硫化合物包含三噻烷。