一种抗污TPU高低温膜的制作方法

本技术涉及tpu，具体涉及一种抗污tpu高低温膜。

背景技术：

1、现有技术的tpu高低温膜，其是利用复合工艺将高温tpu和低温tpu复合为一体，使得tpu高低温膜一面是熔点较高的高温层，另一面是熔点较低的低温层。高温层的一面可以用于产品表面作为面层或者作为载体与其它功能层进行复合叠加，而低温层的一面则可以用于与其它材料进行贴合，发挥无缝贴合的作用。基于tpu高低温膜具有柔软、弹性好、力学性能优异等特点，因此被广泛用于鞋材、服饰、箱包等各种面料以及其它类型的产品。

2、但是，目前使用的tpu高低温膜在加工使用于上述产品类型时，由于抗污性能不佳，导致产品表面容易沾染污渍，尤其是在人们日常生活中烹饪或享用食物时所溅起的油渍，在饮用矿泉水或饮品时所残留的水渍等等，均容易使上述产品表面因污渍的残留而影响穿戴人员的整洁以及美观程度。为此，本实用新型提供一种抗污tpu高低温膜以此改善上述问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了克服现有技术中存在的缺点和不足而提供一种抗污tpu高低温膜。

2、本实用新型通过下述技术方案以此实现上述目的：

3、一种抗污tpu高低温膜，包括tpu基材层，贴合于所述tpu基材层上表面的图案层，贴合于所述图案层上表面的抗污膜层，贴合于所述tpu基材层下表面的胶黏层，贴合于所述胶黏层下表面的离型膜层。

4、进一步的，所述抗污膜层的上表面设有硅胶层，所述硅胶层的上表面设有pet保护膜层。

5、进一步的，所述胶黏层为tpu胶黏层。

6、进一步的，所述抗污膜层为疏水疏油涂层。

7、进一步的，所述抗污膜层为透明抗污膜层。

8、进一步的，所述抗污膜层的厚度为3-7μm。

9、进一步的，所述图案层为3d图案层，所述图案层的上表面设置有3d图案。

10、进一步的，所述离型膜层为pe离型膜层或pet离型膜层。

11、进一步的，所述硅胶层的厚度为8-15μm。

12、进一步的，所述pet保护膜层的厚度为50-75μm。

13、本实用新型的有益效果在于：本实用新型的抗污tpu高低温膜包括由上至下依次设置的pet保护膜层、硅胶层、抗污膜层、图案层、tpu基材层、胶黏层和离型膜层，通过设置抗污膜层使其具有良好的防污性能，可以发挥疏水疏油的作用，避免污渍沾染产品表面，同时抗污膜层是透明膜层可使其下表面的图案层的3d图案得以清晰地呈现，使用时可以去除pet保护膜层、硅胶层和离型膜层，将抗污tpu高低温膜通过胶黏层贴合于鞋材、服装等产品上；本实用新型的抗污tpu高低温膜结构简单，在具有美观性的同时，具有良好的抗污性能，可与众多产品实现良好的贴合，使用方便，实用性强，可为鞋材、服装等产品的工业生产提高效率以及为用户提供良好的体验感受。

技术特征：

1.一种抗污tpu高低温膜，其特征在于：包括tpu基材层，贴合于所述tpu基材层上表面的图案层，贴合于所述图案层上表面的抗污膜层，贴合于所述tpu基材层下表面的胶黏层，贴合于所述胶黏层下表面的离型膜层。

2.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述抗污膜层的上表面设有硅胶层，所述硅胶层的上表面设有pet保护膜层。

3.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述胶黏层为tpu胶黏层。

4.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述抗污膜层为疏水疏油涂层。

5.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述抗污膜层为透明抗污膜层。

6.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述抗污膜层的厚度为3-7μm。

7.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述图案层为3d图案层，所述图案层的上表面设置有3d图案。

8.根据权利要求1所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述离型膜层为pe离型膜层或pet离型膜层。

9.根据权利要求2所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述硅胶层的厚度为8-15μm。

10.根据权利要求2所述的抗污tpu高低温膜，其特征在于：所述pet保护膜层的厚度为50-75μm。

技术总结
本技术涉及TPU技术领域，具体涉及一种抗污TPU高低温膜，包括TPU基材层，贴合于所述TPU基材层上表面的图案层，贴合于所述图案层上表面的抗污膜层，贴合于所述TPU基材层下表面的胶黏层，贴合于所述胶黏层下表面的离型膜层。本技术的抗污TPU高低温膜通过设置抗污膜层使其具有良好的防污性能，可以发挥疏水疏油的作用，避免污渍沾染产品表面，同时抗污膜层是透明膜层可使其下表面图案层的3D图案得以清晰地呈现，使用时可去除PET保护膜层、硅胶层和离型膜层，将抗污TPU高低温膜通过胶黏层贴合于鞋材、服装等产品上；本技术的抗污TPU高低温膜结构简单，在具有美观性的同时，具有良好的抗污性能，使用方便，实用性强，可为用户提供良好的体验感受。

技术研发人员：李锋
受保护的技术使用者：广东中鼎科技发展有限公司
技术研发日：20230627
技术公布日：2024/1/15