本实用新型涉及预制构件领域，更具体涉及一种预制构件生产用翻转架。
背景技术：
申请号为：CN201520541794.2的中国专利公开了一种预制构件生产用翻转架，包括支撑架、及转动架，支撑架包括第一支架、第二支架。转动架包括第一转架和设置在第一转架一侧边的第二转架，第一转架的一侧面中部与第一支架的上端铰接，且铰接轴线水平设置，使得转动架可在第一位置和第二位置间翻转，第一支架和第二支架的上方、以及第一支架与第二支架相背的一侧形成转动架的转动空间。第一转架上的第一支撑面和第二转架上的第二支撑面垂直；转动架在第一位置时，第一支撑面水平并朝上，第二支撑面竖直；转动架在第二位置时，第一支撑面竖直，第二支撑面水平朝上。
但是上述专利文件中，预制构件在旋转时，四周均可以活动，固定不稳容易在转动时滑落。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种预制构件在转动时稳定的预制构件生产用翻转架。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：一种预制构件生产用翻转架，包括底座，底座上设有支撑架，所述支撑架背离底座的一端铰接有转动架，转动架的一端设有底架，所述转动架的一侧设有与转动架固定的固定挡板，另一侧活动设有压紧挡板，所述压紧挡板背离固定挡板的一面设有第一气缸，所述转动架对应底架的另一端设有第一限位挡板和第二限位挡板，所述第一限位挡板的一端与第二限位挡板的一端转动连接，所述第一限位挡板的顶部开设有若干凹槽，所述第二限位挡板上设有若干与若干凹槽一一配合的限位块，所述第一限位挡板和第二限位挡板的转动连接处设有用于驱动第一限位挡板和第二限位挡板朝向底架运动的第二气缸。
进一步的所述第二气缸与第一限位板和第二限位板的转动连接处之间设有电动马达。
进一步的所述第一气缸设有两个分别位于压紧挡板的两端。
进一步的所述压紧挡板的顶面设有向固定挡板延伸的连接板。
进一步的所述凹槽至少设有三个且在第一挡板的平行方向均匀分布。
综上所述，本实用新型能根据不同预制构件的大小在翻转时均能稳定固定预制构件，提高整个装置的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型一种预制构件生产用翻转架的结构示意图。
标注说明：1、底座；2、第二气缸；3、第二限位挡板；4、第一气缸；5、压紧挡板；6、支撑架；7、凹槽；8、底架；9、固定挡板；10、限位块；11、电动马达；12、第一限位挡板；13、连接板。
具体实施方式
参照图1对本实用新型一种预制构件生产用翻转架的实施例作进一步说明。
一种预制构件生产用翻转架，包括底座1，底座1上设有支撑架6，所述支撑架6背离底座1的一端铰接有转动架，转动架的一端设有底架8，所述转动架的一侧设有与转动架固定的固定挡板9，另一侧活动设有压紧挡板5，所述压紧挡板5背离固定挡板9的一面设有第一气缸4，所述转动架对应底架8的另一端设有第一限位挡板12和第二限位挡板3，所述第一限位挡板12的一端与第二限位挡板3的一端转动连接，所述第一限位挡板12的顶部开设有若干凹槽7，所述第二限位挡板3上设有若干与若干凹槽7一一配合的限位块10，所述第一限位板和第二限位板的转动连接处设有用于驱动第一限位板和第二限位板朝向底架8运动的第二气缸2。
当型号不同的预制构件需要翻转的时候，只要将预制构件放置在转动架上，预制构件的底部与底架8抵触，且一侧与固定挡板9接触，然后启动第一气缸4，第一气缸4带动压紧挡板5压紧预制构件的另一侧，接着根据实际压紧挡板5压紧预制构件位置，选择转动第二限位挡板3或不转动第二限位挡板3，当压紧挡板5与固定挡板9之间的距离小于第一限位挡板12和第二限位挡板3的总长的时候，则不旋转第二限位挡板3，反之旋转第二限位挡板3，这样可以根据预制构件的大小来配合压紧预制构件，然后第二气缸2推动第一限位挡板12和第二限位挡板3压紧预制构件，这样能根据不同预制构件的大小在翻转时均能稳定固定预制构件，提高整个装置的稳定性，本实施例中的第一限位挡板12的初始位置是与第二限位挡板3重合的，即限位块10是插接在凹槽7内，在翻转后其限位块10与第二限位挡板3作用于预制构件上的面为一致平面的，确保预制构件稳定。
本实施例优选的所述第二气缸2与第一限位板和第二限位板的转动连接处之间设有电动马达11，通过上述技术方案，通过电动马达11可以自动翻转第二限位挡板3，员工可在远处操作，增加其安全性。
本实施例优选的所述第一气缸4设有两个分别位于压紧挡板5的两端，通过上述技术方案可以使压紧挡板5受力稳定。
本实施例优选的所述压紧挡板5的顶面设有向固定挡板9延伸的连接板13，可以用于限制预制构件向外翻出。
本实施例优选的所述凹槽7至少设有三个且在第一挡板的平行方向均匀分布，确保预制构件能受力均匀。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。