一种100级无尘室的双工位立式供料装置的制作方法

1.本实用新型属于供料装置领域，尤其涉及一种100级无尘室的双工位立式供料装置。


背景技术：

2.机械硬盘存储行业，现有的供料方式是采用产品来料吸塑盘，操作员直接将物料从吸塑盘一片片取出后手动放入机器的夹具内进行生产，而吸塑盘在周转的时候不方便搬运，操作的时候容易导致物料掉落，吸塑盘装的产品数量较少，需要多次周转，不能适应自动化设备的生产，吸塑盘变形量较大，物料在取出的时候会与吸塑盘内壁摩擦有粉尘颗粒产生的风险，而且容易破损，人工操作效率较低，且需要将物料直接放入设备内侧，操作的时候会误触发设备的完全装置导致整个设备停机，导致整线生产节拍中断。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种100级无尘室的双工位立式供料装置，旨在解决现有技术中的吸塑盘装的产品数量较少，需要多次周转，周转的时候不方便搬运，并且有物料掉落风险，不能适应自动化设备的生产，并且人工操作效率较低的技术问题。
4.本实用新型是这样实现的，一种100级无尘室的立式供料单元，所述立式供料单元包括由底板、顶板、左立板及右立板组成的框架，设置在所述底板上的第一行进导轨，设置在所述第一行进导轨上的第二行进导轨，设置在所述第二行进导轨上的滑动板，设置在所述滑动板上的料盘放置板，设置在所述料盘放置板上的物料料盘，及设置在所述顶板上且伸缩杆贯穿所述顶板的锁紧气缸。
5.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括所述底板上由前立板、后立板、左侧立板及右侧立板组成的支撑架。
6.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括所述第一行进导轨两侧的止动块，及设置在所述前立板上配合两个所述止动块使用的止动螺丝。
7.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括所述顶板上且分别置于所述左立板及所述右立板内侧的支撑块，及设置在所述滑动板底部配合两个所述支撑块使用的支撑轴承。
8.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括设置在所述料盘放置板前侧面两侧的第一定位柱塞，及设置在所述料盘放置板后侧底面两侧的第二定位柱塞。
9.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括设置在所述底板上且顶部两侧带有导向定位轴承的第一滚子随动器，及设置在所述顶板上置于所述第一滚子随动器相对一侧且顶部两侧带有导向定位轴承的第二滚子随动器，所述物料料盘上下两侧设置有配合所述第一滚子随动器及所述第二滚子随动器使用的滚槽。
10.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括设置在所述顶板上用于读取所述物料料盘信息的条码枪。
11.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括设置在所述左立板或所述右立板上用于检测所述物料料盘是否到位的对射传感器。
12.本实用新型的进一步技术方案是：所述立式供料单元还包括设置所述顶板上用于检测工位是否有所述物料料盘的反射传感器，所述立式供料单元还包括设置所述滑动板上用于推拉所述滑动板的把手。
13.本实用新型的另一目的在于提供一种100级无尘室的双工位立式供料装置，所述双工位立式供料装置包括至少两个所述的立式供料单元且呈一排排列。
14.本实用新型的有益效果是：此种双工位立式供料装置符合100级无尘室的要求，低发尘量，适用于晶圆，半导体，存储等行业，采用双立式供料单元供料，可以实现不间断的生产，并且立式供料单元数量可以根据需要扩充，上料区域在装置外侧，避免操作员接触到装置内部，安全性高，操作员在上下物料料盘的时候，不会直接接触到物料，避免污染产品，采用双层导轨抽屉式，使得结构紧凑，物料料盘采用上下两对滚子随动器来定位，实现定位高精度，低摩擦，低发尘量，物料料盘有锁紧气缸锁止，避免操作员误操作，每个立式供料单元均带有条码枪，避免投入错误的物料，整个装置使用的材料和标准件均符合100级无尘等级要求，另外整个装置的运动部分都通过导轨，轴承固定，滚子随动器定位，实现高精度，低摩擦，免维护，较长的使用寿命。
附图说明
15.图1是本实用新型实施例提供的一种100级无尘室的双工位立式供料装置的结构图；
16.图2是本实用新型实施例提供的一种100级无尘室的双工位立式供料装置的物料料盘拉出状态图；
17.图3是本实用新型实施例提供的一种100级无尘室的双工位立式供料装置的去除物料料盘拉出状态图。
具体实施方式
18.附图标记：1-框架 2-第一行进导轨 3-第二行进导轨 4-滑动板 5-料盘放置板 6-物料料盘 7-锁紧气缸 8-支撑架 9-止动块 10-止动螺丝 11-支撑块 12-支撑轴承 13-第一定位柱塞 14-第二定位柱塞 15-第一滚子随动器 16-第二滚子随动器 17-滚槽 18-条码枪 19-对射传感器 20-反射传感器 21-把手。
19.图1-3示出了本实用新型提供的一种100级无尘室的双工位立式供料装置，所述双工位立式供料装置包括至少两个立式供料单元且呈一排排列。在使用的时候，操作员可以单独将其中一个立式供料单元抽出来进行上下料，不会影响设备连续生产，另外也可以与agv机器人集成自动上下料，以实现全自动化生产。
20.所述立式供料单元包括由底板、顶板、左立板及右立板组成的框架1，设置在所述底板上的第一行进导轨2，设置在所述第一行进导轨2上的第二行进导轨3，设置在所述第二行进导轨3上的滑动板4，设置在所述滑动板4上的料盘放置板5，设置在所述料盘放置板5上的物料料盘6，及设置在所述顶板上且伸缩杆贯穿所述顶板的锁紧气缸7。立式供料单元在使用的时候需要安装在相应的设备内部，而相应的可以根据设备的大小进行扩充，扩充数
量根据需求或设备可容纳数量而定，在使用时，首先将物料料盘6取出，将物料按要求摆放在物料料盘6上，在将物料料盘6放置在料盘放置板5上，料盘放置板5可随滑动4板一起运动，而滑动板4通过第一行进导轨2及第二行进导轨3将物料料盘6运送到相应的位置进行下一步工作，在到位后通过锁紧气缸7将物料料盘6进行锁定，避免操作员在设备运行的时候误操作将物料料盘6抽出，第一行进导轨2与第二行进导轨3进行两级堆叠，可以在有限的空间内实现两倍的行程。
21.所述立式供料单元还包括所述底板上由前立板、后立板、左侧立板及右侧立板组成的支撑架8；还包括所述顶板上且分别置于所述左立板及所述右立板内侧的支撑块11，及设置在所述滑动板4底部配合两个所述支撑块11使用的支撑轴承12。通过支撑架8起到对到位后的滑动板4及其上的各部件进行支撑，防止过重对第一行进导轨2及第二行进导轨3造成损坏，另外在通过支撑块11与支撑轴承12的配合进一步的对到位后的滑动板4及其上的各部件进行支撑，并且也为拉动滑动板4起到一定的滑动作用。
22.所述立式供料单元还包括所述第一行进导轨2两侧的止动块9，及设置在所述前立板上配合两个所述止动块9使用的止动螺丝10。通过止动块9与止动螺丝10的配合限制第一行进导轨2的行进距离，防止拉脱。
23.所述立式供料单元还包括设置在所述料盘放置板5前侧面两侧的第一定位柱塞13，及设置在所述料盘放置板5后侧底面两侧的第二定位柱塞14。第一定位柱塞13及第二定位柱塞14均为球头柱塞，当物料料盘6放置到料盘放置板5上时，第一定位柱塞13对物料料盘6在xy方向做一个粗略的限位，而第二定位柱塞14则是当物料料盘6在推入时接近末端行程的时候起一个阻尼的作用，让操作员感知行程位置，避免停止的时候过大的振动导致物料掉落。
24.所述立式供料单元还包括设置在所述底板上且顶部两侧带有导向定位轴承的第一滚子随动器15，及设置在所述顶板上置于所述第一滚子随动器15相对一侧且顶部两侧带有导向定位轴承的第二滚子随动器16，所述物料料盘6上下两侧设置有配合所述第一滚子随动器15及所述第二滚子随动器16使用的滚槽17。通过第一滚子随动器15及第二滚子随动器16与滚槽17的配合实现当物料料盘6推入的时候对物料料盘6做xy方向的精确定位。
25.所述立式供料单元还包括设置在所述顶板上用于读取所述物料料盘信息的条码枪18。物料料盘6到位后通过条码枪18读取当前物料料盘6的信息确认该物料料盘6的产品是否正确。
26.所述立式供料单元还包括设置在所述左立板或所述右立板上用于检测所述物料料盘6是否到位的对射传感器19；还包括设置所述顶板上用于检测工位是否有所述物料料盘6的反射传感器20；还包括设置所述滑动板4上用于推拉所述滑动板4的把手21。当物料料盘6推入后，通过对射传感器19判断物料料盘6是否推入到位，在通过反射传感器20判断该工位是否有物料料盘6，安装把手21是为了方便将滑动板4及其上的各部件进行推拉。
27.使用时操作员将物料料盘6抽出，放入料盘，在将物料料盘6推入，反射传感20判断工位上是否有物料料盘6存在，同时前端对射传感器感19应到物料料盘6推到位置了，触发条码枪18扫码，确认产品信息正确，启动锁紧气缸7，设备抓取机构开始过来取物料进行生产。
28.此种双工位立式供料装置符合100级无尘室的要求，低发尘量，适用于晶圆，半导
体，存储等行业，采用双立式供料单元供料，可以实现不间断的生产，并且立式供料单元数量可以根据需要扩充，上料区域在装置外侧，避免操作员接触到装置内部，安全性高，操作员在上下物料料盘的时候，不会直接接触到物料，避免污染产品，采用双层导轨抽屉式，使得结构紧凑，物料料盘采用上下两对滚子随动器来定位，实现定位高精度，低摩擦，低发尘量，物料料盘有锁紧气缸锁止，避免操作员误操作，每个立式供料单元均带有条码枪，避免投入错误的物料，整个装置使用的材料和标准件均符合100级无尘等级要求，另外整个装置的运动部分都通过导轨，轴承固定，滚子随动器定位，实现高精度，低摩擦，免维护，较长的使用寿命。
29.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。