本发明涉及电子元器件加工设备的,特别涉及一种物料分选设备。
背景技术:
1、由于半导体或芯片在生产过程存在个体差异,性能有高低,质量有好坏,外形有瑕疵分,因此,在生产过程中需要及时对芯片进行分选,从而为后续生产提供参考。
2、然而对于由高温胶膜承载的物料在进行溅镀作业后,其中的物料仍旧需要人工依次逐个上料至分选设备中,同时也不能处理物料上因溅镀作业产生的脏污,从而导致分选效率较低。
技术实现思路
1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明提出一种物料分选设备,能够自动对物料进行上料以及清洗物料上的脏污,便于分选设备分选物料。
2、根据本发明的实施例的物料分选设备,所述物料分选设备包括:
3、机架,所述机架设置有旋转架,所述旋转架上设置有多个吸取组件,多个所述吸取组件沿所述旋转架的周向均匀地设置在所述旋转架上,所述吸取组件用于吸取所述物料;
4、物料上料装置,所述物料上料装置设置在所述机架上并位于所述旋转架的一侧,所述物料上料装置包括可移动的物料移载机构以及可升降的物料顶升机构,所述物料顶升机构设置在机架上并位于所述物料移载机构的下方,所述物料移载机构包括可旋转的固定组件,所述固定组件用于固定胶膜,所述胶膜上放置多个排列设置的所述物料,所述物料移载机构能够移动至所述物料顶升机构的上方,所述物料顶升机构能够上升以将所述物料从所述胶膜上顶起,以供所述吸取组件吸取所述物料;
5、物料清洗装置,所述物料清洗装置设置在所述机架上并位于所述旋转架的一侧,所述物料清洗装置位于所述旋转架的下游位置,所述物料清洗装置包括排列设置的第一支架以及清洗机构以及集尘机构,所述第一支架设置在所述机架上并位于所述旋转架的下方,所述清洗机构以及所述集尘机构均设置在所述第一支架的上端,所述吸取组件吸取所述物料依次经过所述第一支架的上端;以及
6、物料下料装置,所述物料下料装置设置在所述机架上并位于所述旋转架的一侧,所述物料下料装置包括可移动的物料装载机构,所述物料装载机构位于所述旋转架的下方,所述物料装载机构用于装载所述物料,所述吸取组件将所述物料放置在所述物料装载机构中。
7、根据本发明实施例的物料分选设备,至少具有如下有益效果:当所述旋转架旋转时,带动所述吸取组件在所述物料上料装置、所述物料清洗装置以及所述物料下料装置的上方移动,从而可将各个装置上的所述物料进行移载,进而实现对所述物料的分选;同时当所述物料经过各个装置中时,也可通过所述物料上料装置进行有序上料,可通过所述物料清洗装置进行所述物料的清洗,还可通过所述物料下料装置进行所述物料的有序下料,能够满足所述物料在进行溅镀工艺后的分选以及清洗要求。
8、根据本发明的一些实施例,所述物料分选设备还包括物料对位装置,所述物料对位装置设置在所述机架上并位于所述旋转架的一侧,所述物料对位装置设置在所述物料清洗装置以及所述物料下料装置之间,所述物料对位装置用于校正所述物料的位置。
9、根据本发明的一些实施例,所述物料对位装置包括:
10、第二支架,所述第二支架设置在所述机架上并位于所述旋转架的下方;
11、真空放料机构,所述真空放料机构设置在所述第二支架上,所述物料放置在所述真空放料机构的端部;
12、物料对位机构,所述物料对位机构设置在所述第二支架上,所述物料对位机构的一侧套设在所述真空放料机构上,所述物料对位机构具有对位工位,所述对位工位用于将所述物料的位置校正;以及
13、视觉检测机构,所述视觉检测机构设置在所述第二支架上并位于所述物料对位机构的下方,所述视觉检测机构的检测端朝向所述真空放料机构的端部。
14、根据本发明的一些实施例,所述物料上料装置还包括提篮机构,所述提篮机构设置在所述机架上并位于所述物料移载机构的一侧,所述提篮机构包括料篮组件以及抓取组件,所述料篮组件用于存储所述胶膜,所述抓取组件可活动地设置在所述物料移载机构的一侧,所述抓取组件用于抓取所述料篮组件中的所述胶膜至所述固定组件中。
15、根据本发明的一些实施例,所述固定组件包括有对称设置的两个夹板,两个所述夹板可移动地设置在所述物料移载机构上,两个所述夹板用于夹紧并张紧所述胶膜。
16、根据本发明的一些实施例,所述物料移载机构还包括移动组件,所述移动组件设置在所述机架上,所述固定组件通过转动组件设置在所述移动组件上。
17、根据本发明的一些实施例,所述物料顶升机构包括真空平台和顶升件,所述顶升件可升降地设置在所述真空平台中,所述真空平台用于吸附所述胶膜,所述顶升件用于向上顶升将所述物料从所述胶膜上顶出。
18、根据本发明的一些实施例,所述物料上料装置还包括压膜机构,所述压膜机构可活动地设置在所述机架上并位于所述物料移载机构的上方,所述压膜机构的下端用于抵顶所述胶膜。
19、根据本发明的一些实施例,所述压膜机构包括升降组件和压膜组件,所述升降组件可升降地设置在所述机架上,所述压膜组件包括压膜头,所述压膜组件设置在所述升降组件的输出端上,所述压膜头呈圆弧状,所述升降组件驱动所述压膜头下移抵顶所述物料的周侧的所述胶膜。
20、根据本发明的一些实施例,所述清洗机构包括可转动的刷洗件,所述刷洗件设置在所述第一支架上,所述刷洗件的旋转中心至少沿两个方向延伸,所述刷洗件用于刷洗所述物料的表面上的脏污。
21、根据本发明的一些实施例,所述机架设置有压板组件,所述压板组件位于所述旋转架的上方,所述压板组件的位置与所述第一支架的位置一一对应,所述压板组件的下端与所述吸取组件连接,所述压板组件可驱动所述吸取组件下移以使所述物料能够下移至所述清洗机构中。
22、根据本发明的一些实施例,所述集尘机构包括;
23、吹尘组件,所述吹尘组件设置在所述清洗机构的一侧,所述吹尘组件用于吹扫所述物料上的脏污;
24、集尘组件,所述集尘组件设置在所述清洗机构的另一侧,所述集尘组件连通真空集尘系统,所述集尘组件用于收集吹扫出来的脏污。
25、根据本发明的一些实施例,所述物料下料装置还包括:
26、料盘上料机构,所述料盘上料机构设置在所述机架上并位于所述物料装载机构的一侧,所述料盘上料机构用于存放空料盘,所述料盘用于存放所述物料;
27、料盘下料机构,所述料盘下料机构设置在所述机架上并位于所述物料装载机构的另一侧,所述料盘下料机构用于缓存存放好所述物料的所述料盘;以及
28、料盘移载机构,所述料盘移载机构设置在所述机架上,所述料盘移载机构分别位于所述料盘上料机构与所述物料装载机构之间以及所述料盘下料机构与所述物料装载机构之间,所述料盘移载机构用于转载所述料盘。
29、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
1.一种物料分选设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,还包括物料对位装置,所述物料对位装置设置在所述机架上并位于所述旋转架的一侧,所述物料对位装置设置在所述物料清洗装置以及所述物料下料装置之间,所述物料对位装置用于校正所述物料的位置。
3.根据权利要求2所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料对位装置包括:
4.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料上料装置还包括提篮机构,所述提篮机构设置在所述机架上并位于所述物料移载机构的一侧,所述提篮机构包括料篮组件以及抓取组件,所述料篮组件用于存储所述胶膜,所述抓取组件可活动地设置在所述物料移载机构的一侧,所述抓取组件用于抓取所述料篮组件中的所述胶膜至所述固定组件中。
5.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述固定组件包括有对称设置的两个夹板,两个所述夹板可移动地设置在所述物料移载机构上,两个所述夹板用于夹紧并张紧所述胶膜。
6.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料移载机构还包括移动组件,所述移动组件设置在所述机架上,所述固定组件通过转动组件设置在所述移动组件上。
7.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料顶升机构包括真空平台和顶升件,所述顶升件可升降地设置在所述真空平台中,所述真空平台用于吸附所述胶膜,所述顶升件用于向上顶升将所述物料从所述胶膜上顶出。
8.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料上料装置还包括压膜机构,所述压膜机构可活动地设置在所述机架上并位于所述物料移载机构的上方,所述压膜机构的下端用于抵顶所述胶膜。
9.根据权利要求8所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述压膜机构包括升降组件和压膜组件,所述升降组件可升降地设置在所述机架上,所述压膜组件包括压膜头,所述压膜组件设置在所述升降组件的输出端上,所述压膜头呈圆弧状,所述升降组件驱动所述压膜头下移抵顶所述物料的周侧的所述胶膜。
10.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述清洗机构包括可转动的刷洗件,所述刷洗件设置在所述第一支架上,所述刷洗件的旋转中心至少沿两个方向延伸,所述刷洗件用于刷洗所述物料的表面上的脏污。
11.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述机架设置有压板组件,所述压板组件位于所述旋转架的上方,所述压板组件的位置与所述第一支架的位置一一对应,所述压板组件的下端与所述吸取组件连接,所述压板组件可驱动所述吸取组件下移以使所述物料能够下移至所述清洗机构中。
12.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述集尘机构包括;
13.根据权利要求1所述的一种物料分选设备,其特征在于,所述物料下料装置还包括: