一种等离子式尾气处理燃烧反应腔的制作方法

本技术涉及废气处理，具体为一种等离子式尾气处理燃烧反应腔。

背景技术：

1、目前工业发展导致环境污染问题越来越严重，环境保护已经成为了一个热门的话题，引起工业化国家的重视，利用国家法律法规和舆论宣传而使全社会重视和处理污染问题，尤其是对于工业废气的排放控制得相当严格。在芯片生产中会生成大量废气，废气中含有大量的硅烷、磷烷以及tma等工业废料，这些废料直接排入大气，会对环境造成大量的损伤，不符合现在环保生产的要求。

2、目前现在一般通过燃烧对芯片生产中生成的废气进行烧制，使其中的硅烷等物质转化成固体颗粒再进行分离回收，进而完成对废气的净化操作，但是现在对废气燃烧一般是通过天然气等气体燃料进行，天然气等气体燃料产生的温度较低，使得废气中的物质没有达到需要的反应温度，进而造成废气处理不充分的问题。

技术实现思路

1、为解决上述背景技术中提出的废气处理不充分的问题，本实用新型的目的在于提供一种等离子式尾气处理燃烧反应腔。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，包括第一反应腔与第二反应腔，所述第一反应腔上配合安装有等离子体发生器总成，所述第一反应腔上配合安装有若干废气进气管，所述第一反应腔与第二反应腔之间配合安装有法兰连接盘，所述法兰连接盘外侧配合安装有若干助燃气体进气管，所述第二反应腔上侧开设有环形凹槽，所述环形凹槽与法兰连接盘配合形成环形腔室，所述环形腔室与第二反应腔内部连通，所述法兰连接盘内开设有若干助燃气体通道，每个所述助燃气体进气管均通过相应的助燃气体通道与环形凹槽连通。

3、优选的，所述第一反应腔位于第二反应腔上方，所述第一反应腔内设有收紧环。

4、优选的，所述等离子体发生器总成位于第一反应腔的上侧中心处。

5、优选的，所述废气进气管以等离子体发生器总成的轴线为圆心圆周阵列设置，所述助燃气体进气管以法兰连接盘的轴线为圆心圆周阵列设置。

6、优选的，所述助燃气体通道与助燃气体进气管的数量相同且一一对应配合设置。

7、优选的，所述第一反应腔外侧配合安装有第一反应外壳，所述第二反应腔外侧配合安装有第二反应外壳。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

9、1、本实用新型通过助燃气体进气管向着第二反应腔内注入助燃气体，螺旋喷射的等离子火焰可以引导助燃气体在第二反应腔内围绕等离子火焰形成气帘，增大了等离子火焰与助燃空气间的接触面积，使得等离子火焰长度更长、等离子火焰能够迅速达到更高的温度、等离子火焰对废气的燃烧更加充分，进而完成了对废气的充分处理。

10、2。本实用新型通过等离子火焰产生的高温对芯片生产中产生的废气进行高温烧制，等离子火焰超高的温度可以将废气中的硅烷转化成二氧滑硅颗粒与水、磷烷转化为五氧化二磷和水，进而有效防止了废气直接排入大气对大器造成的影响。

技术特征：

1.一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：包括第一反应腔(102)与第二反应腔(112)，所述第一反应腔(102)上配合安装有等离子体发生器总成(103)，所述第一反应腔(102)上配合安装有若干废气进气管(105)，所述第一反应腔(102)与第二反应腔(112)之间配合安装有法兰连接盘(107)，所述法兰连接盘(107)外侧配合安装有若干助燃气体进气管(108)，所述第二反应腔(112)上侧开设有环形凹槽(110)，所述环形凹槽(110)与法兰连接盘(107)配合形成环形腔室，所述环形腔室与第二反应腔(112)内部连通，所述法兰连接盘(107)内开设有若干助燃气体通道(109)，每个所述助燃气体进气管(108)均通过相应的助燃气体通道(109)与环形凹槽(110)连通。

2.根据权利要求1所述的一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：所述第一反应腔(102)位于第二反应腔(112)上方，所述第一反应腔(102)内设有收紧环(106)。

3.根据权利要求1所述的一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：所述等离子体发生器总成(103)位于第一反应腔(102)的上侧中心处。

4.根据权利要求3所述的一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：所述废气进气管(105)以等离子体发生器总成(103)的轴线为圆心圆周阵列设置，所述助燃气体进气管(108)以法兰连接盘(107)的轴线为圆心圆周阵列设置。

5.根据权利要求1所述的一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：所述助燃气体通道(109)与助燃气体进气管(108)的数量相同且一一对应配合设置。

6.根据权利要求5所述的一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，其特征在于：所述第一反应腔(102)外侧配合安装有第一反应外壳(101)，所述第二反应腔(112)外侧配合安装有第二反应外壳(111)。

技术总结
本技术公开了一种等离子式尾气处理燃烧反应腔，涉及废气处理技术领域，包括第一反应腔与第二反应腔，所述第一反应腔上配合安装有等离子体发生器总成，所述第一反应腔上配合安装有若干废气进气管，所述第一反应腔与第二反应腔之间配合安装有法兰连接盘，所述法兰连接盘外侧配合安装有若干助燃气体进气管，所述第二反应腔上侧开设有环形凹槽，所述环形凹槽与法兰连接盘配合形成环形腔室。本技术的螺旋喷射的等离子火焰可以引导助燃气体在第二反应腔内围绕等离子火焰形成气帘，使得等离子火焰长度更长、等离子火焰能够迅速达到更高的温度、等离子火焰对废气的燃烧更加充分，进而完成了对废气的充分处理。

技术研发人员：邱云兵,薛博文,刘闯
受保护的技术使用者：安可环保科技（海宁）有限公司
技术研发日：20230612
技术公布日：2024/1/15