一种太阳光谱选择吸收涂层的制作方法与工艺

文档序号:11775017阅读:来源:国知局
一种太阳光谱选择吸收涂层的制作方法与工艺

技术特征:
1.一种太阳光谱选择吸收涂层,包括基底层,其特征在于:在基底层由下至上依次排布有红外高反射层、粘结层、低氧吸收层、高氮吸收层、双高氧减反射层;所述的基底层为不锈钢材质;所述的红外高反射层的材料为纯金属Mo;所述的粘结层的材料为TiN;所述的低氧吸收层的材料为TiAlNxOy;所述的高氮吸收层的材料为TiAlNx;所述的双高氧减反射层自下而上依次为Ti2O层和TiAlO层。2.根据权利要求1所述的太阳光谱选择吸收涂层,其特征在于:所述的太阳光谱选择吸收涂层的整体厚度为500nm-650nm,粘结层的厚度为5nm-15nm,红外高反射层的厚度为400nm-450nm,低氧吸收层的厚度为60nm-70nm,高氮吸收层的厚度为35nm-45nm,双高氧减反射层中Ti2O层和TiAlO层的厚度均为20-30nm。3.根据权利要求2所述的太阳光谱选择吸收涂层,其特征在于:各涂层均为阴极电弧离子镀层。
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