一种静置炉的制作方法

文档序号:13133534阅读:832来源:国知局
一种静置炉的制作方法

本实用新型涉及金属熔炼设备领域,具体的涉及一种静置炉。



背景技术:

静置炉是用于接受在熔炼炉中熔炼好的合金熔体,并在其中进行精炼、静置和调整熔体温度的设备,在铸造过程中对熔体起保温作用。现有技术中,在静置炉使用过程中,易发生熔体漏液,从而带来炉膛不易清理的难题,其原因是因为现有静置炉多为上开门,对于炉膛底部废料的清理较为困难;现有静置炉多采用电热丝加热,电热丝缠绕于炉膛内壁,漏液吸附后不易清理,另外,在清理时还容易触碰加热丝,从而导致其损坏。



技术实现要素:

针对现有技术的不足,本实用新型要解决的技术问题是提供一种便于清理炉膛内漏液废料的静置炉。

为解决上述问题,本实用新型提供了如下技术方案:一种静置炉,包括炉体、炉膛和坩埚,炉膛的底部设有底座,坩埚固定于底座上方,炉体的上方设有盖体;炉体内壁及盖体底部设有保温板,保温板上间隔设有竖向设置的凹槽,凹槽内设有加热棒;炉体的侧面底部设有开口,开口内设有门堵一,开口的外侧设有平开门,平开门与炉体通过锁扣一连接;炉体的侧面底部设有废料孔,炉膛底部的保温板设有向废料孔倾斜的斜坡,废料孔内设有门堵二,废料孔的外侧设有废料门,废料门与炉体通过锁扣二连接;炉体的侧面设有与炉膛连通的安装孔,安装孔内设有热电偶;炉体的一侧设有控制柜,加热棒和热电偶均与控制柜电连接。

本发明的技术方案还包括:所述废料孔设置在炉体平开门的对立侧底部,清理废料时更加便捷。

本发明的技术方案还包括:所述废料孔向下倾斜设置,便于废料卸出

本发明的技术方案还包括:所述加热棒为硅碳棒。

本发明的技术方案还包括:所述硅碳棒的形状为U形。硅碳棒相比于其他加热棒效果更优,且与加热丝相比,只需在炉膛内间隔设置若干组即可,从而减小了漏液吸附加热装置的概率,便于后需清理工作。

本发明的技术方案还包括:所述盖体上设有观察窗,可实时观察炉体内部漏液情况。

本发明的技术方案还包括:所述凹槽的深度为2-6cm,有效匹配U形加热棒的直径尺寸。

本发明的技术方案还包括:所述斜坡的倾斜角度为10°-20°,保证废料能够在自重下流至废料孔处。

本发明的技术方案还包括:所述平开门内侧固定有与开口尺寸相匹配的保温板,有利于增加保温效果。

本实用新型的有益效果是:与现有技术相比,在炉体一侧增加了一开口,清理废料时,在打开上侧盖体的同时,打开开口外侧的平开门及炉体底部的废料门,清洗人员从开口处进行废料清理,并将废料集中至废料孔处排出,使整个清理过程更加高效、便捷;炉膛底部的保温板设有斜坡,可使漏料在自重下自行集中,进一步降低了废料清理难度;保温板设有凹槽,硅碳加热棒置于凹槽内,由于凹槽的保护作用,使得装置在使用及清理过程中不易触碰到加热棒,提高了加热装置的使用寿命,同时,现有加热丝加热方式的静置炉,漏液流到侧壁后大部分吸附到加热丝上,不易清理,与多圈设置的加热丝相比,加热棒的加热效果好,整个装置只需间隔安装若干个加热棒即可,漏液流出后大部分吸附在炉膛内的保温板上,从而减少了漏料吸附于加热棒的概率,易于清理。

附图说明

图1为本实用新型具体实施方式中静置炉的结构示意图。

图2为具体实施方式中静置炉炉膛底部结构示意图。

图3为具体实施方式中静置炉保温板与硅碳棒结构示意图。

其中,1为炉体,2为炉膛,3为坩埚,4为盖体,5为观察窗,6为门堵一,7为平开门,8为保温板,9为凹槽,10为硅碳棒,11为底座,12为废料孔,13为斜坡,14为门堵二,15为废料门,16为热电偶,17为控制柜。

具体实施方式

下面结合附图,对本实用新型的技术方案进行详细的说明。

从图中可以看出,本实用新型的一种静置炉,包括炉体1、炉膛2和坩埚3,炉膛2的底部设有底座11,所述坩埚2固定于底座11上方,炉体1的上方设有盖体4,盖体4上设有观察窗5;炉体1内壁及盖体4底部设有保温板8,保温板8上间隔设有竖向设置的凹槽9,凹槽深度为3cm,凹槽9内设有U形的硅碳棒10;炉体1的侧面底部设有开口,开口内设有门堵一6,开口的外侧设有平开门7,平开门7内侧固定有与开口尺寸相匹配的保温板8,平开门7与炉体1通过锁扣一连接;平开门7对立侧的炉体1的底部设有废料孔12,废料孔12向下倾斜设置,炉膛2底部的保温板8设有向废料孔12倾斜的斜坡13,斜坡13的倾斜角为15°,废料孔12内设有门堵二14,废料孔12的外侧设有废料门15,废料门15与炉体1通过锁扣二连接;炉体1的侧面设有与炉膛2连通的安装孔,安装孔内设有热电偶16;炉体1的一侧设有控制柜17,硅碳棒10和热电偶16均与控制柜17电连接。

本方案的静置炉在进行废料清理时,打开盖体的同时,打开平开门及废料门,取出门堵,进行清理即可,方便快捷。

本实用新型的保护范围不仅限于上述实例,在阅读了本实用新型之后,本领域技术人员对本实用新型的各种同原理的修改均落于本申请所附权利要求限定的范围。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1