一种新型真空炉供气排气系统的制作方法

1.本实用新型涉及一种新型真空炉供气排气系统，尤其是新型真空烧结炉、氢气炉、退火炉等的真空供气排气系统。


背景技术：

2.真空热处理氢气炉适用于磁性材料、超导材料、合金材料的真空烧结、退火以及钕铁硼渗镝等工艺。工艺过程时材料需要装在耐高温的反应腔内进行高温处理，需要将反应腔先抽真空，再在高温气氛保护状态下进行的。
3.目前行业内的同类产品中，其采用的真空反应腔内充气是通过人工观察反应腔内压力进行操作的，真空反应腔内气氛在温度变化时，压力随之变化，需要人工不断操作进行充气排气操作，这样就大大增加了人工操作成本，而且材料烧结工艺不稳定，影响产品的性能，使产品的合格率也降低。


技术实现要素：

4.针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种新型真空炉供气排气系统，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.本实用新型的技术方案是这样实现的：一种新型真空炉供气排气系统，包括工艺气体进气管道、工艺气体进气阀、质量流量计、工艺气体出气阀、第一单向阀、第一三通接头、惰性气体进气管道、惰性气体进气阀、压力调节控制器、惰性气体出气阀、气体供气连接管道、真空反应腔、真空管道、真空规管、压力检测传感器、泄压阀、真空机组、气体排气管道、超压排气阀、自动排气阀，所述工艺气体进气管道的一端连接到工艺气体进气阀一端，所述工艺气体进气阀另一端连接质量流量计一端，所述质量流量计另一端连接工艺气体出气阀一端，所述工艺气体出气阀另外一端连接第一单向阀一端，所述第一单向阀另一端连接第一三通接头的第一个接口；所述第一三通接头的第二个接口通过第二单向阀连接惰性气体出气阀，所述惰性气体出气阀另一端连接压力调节控制器，所述压力调节控制器另一端连接惰性气体进气阀，所述惰性气体进气阀另一端连接惰性气体进气管道；第一三通接头第三个接口连接气体供气连接管道，所述气体供气连接管道另一端连接到真空反应腔上。
6.作为一优选的实施方式，真空反应腔上连接有真空管道，真空管道上安装有真空规管、压力检测传感器和泄压阀，真空管道另一端连接真空机组。
7.作为一优选的实施方式，真空反应腔上还连接有气体排气管道，气体排气管道通过第二三通接头一分为二，分别连接到超压排气阀和自动排气阀。
8.本实用新型的有益效果是：能够实现反应腔抽真空后，根据工艺指标需要进行气体流量和压力的设定，充气时能进行流量和压力的自动控制，而且带有压力上限保护及泄压保护功能。
附图说明
9.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
10.图1为本实用新型一种用于摄像多媒体的整体结构示意图。
11.图中，工艺气体进气管道1、工艺气体进气阀2、质量流量计3、工艺气体出气阀4、第一单向阀5、第一三通接头6、惰性气体进气管道7、惰性气体进气阀8、压力调节控制器9、惰性气体出气阀10、气体供气连接管道11、真空反应腔12、真空管道13、真空规管14、压力检测传感器15、泄压阀16、真空机组17、气体排气管道18、超压排气阀19、自动排气阀20、第二单向阀21、第二三通接头22。
具体实施方式
12.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
13.请参阅图1，本实用新型提供一种技术方案：一种新型真空炉供气排气系统，包括工艺气体进气管道1、工艺气体进气阀2、质量流量计3、工艺气体出气阀4、第一单向阀5、第一三通接头6、惰性气体进气管道7、惰性气体进气阀8、压力调节控制器9、惰性气体出气阀10、气体供气连接管道11、真空反应腔12、真空管道13、真空规管14、压力检测传感器15、泄压阀16、真空机组17、气体排气管道18、超压排气阀19、自动排气阀20，工艺气体进气管道1的一端连接到工艺气体进气阀2一端，工艺气体进气阀2另一端连接质量流量计3一端，质量流量计3另一端连接工艺气体出气阀4一端，工艺气体出气阀4另外一端连接第一单向阀5一端，第一单向阀5另一端连接第一三通接头6的第一个接口；第一三通接头6的第二个接口通过第二单向阀5连接惰性气体出气阀10，惰性气体出气阀10另一端连接压力调节控制器9，压力调节控制器9另一端连接惰性气体进气阀8，惰性气体进气阀8另一端连接惰性气体进气管道7；第一三通接头6第三个接口连接气体供气连接管道11，气体供气连接管道11另一端连接到真空反应腔12上。
14.作为本实用新型的一个实施例，真空反应腔12上连接有真空管道13，真空管道13上安装有真空规管14、压力检测传感器15和泄压阀16，真空管道13另一端连接真空机组17。
15.作为本实用新型的一个实施例，真空反应腔12上还连接有气体排气管道18，气体排气管道18通过第二三通接头6一分为二，分别连接到超压排气阀19和自动排气阀20。
16.作为本实用新型的一个实施例：产品装入真空反应腔12内，真空反应腔12抽真空后，工艺气体通过工艺气体进气管道1进入真空反应腔12，通过质量流量计3和压力检测传感器15同时能进行工艺气体流量和反应腔压力的自动检测，工艺气体可以通过真空管到13或气体排气管道18排出，设备可实现正压和负压两种工艺，大大满足了不同工艺的需求。真空反应腔12带有压力检测传感器15，具有压力上限保护及泄压保护功能，大大增加了设备的安全性能，同时也降低了人工操作成本。
17.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种新型真空炉供气排气系统，包括工艺气体进气管道、工艺气体进气阀、质量流量计、工艺气体出气阀、第一单向阀、第一三通接头、惰性气体进气管道、惰性气体进气阀、压力调节控制器、惰性气体出气阀、气体供气连接管道、真空反应腔、真空管道、真空规管、压力检测传感器、泄压阀、真空机组、气体排气管道、超压排气阀、自动排气阀，其特征在于，所述工艺气体进气管道的一端连接到工艺气体进气阀一端，所述工艺气体进气阀另一端连接质量流量计一端，所述质量流量计另一端连接工艺气体出气阀一端，所述工艺气体出气阀另外一端连接第一单向阀一端，所述第一单向阀另一端连接第一三通接头的第一个接口；所述第一三通接头的第二个接口通过第二单向阀连接惰性气体出气阀，所述惰性气体出气阀另一端连接压力调节控制器，所述压力调节控制器另一端连接惰性气体进气阀，所述惰性气体进气阀另一端连接惰性气体进气管道；第一三通接头第三个接口连接气体供气连接管道，所述气体供气连接管道另一端连接到真空反应腔上。2.如权利要求1所述的一种新型真空炉供气排气系统，其特征在于：真空反应腔上连接有真空管道，真空管道上安装有真空规管、压力检测传感器和泄压阀，真空管道另一端连接真空机组。3.如权利要求1所述的一种新型真空炉供气排气系统，其特征在于：真空反应腔上还连接有气体排气管道，气体排气管道通过第二三通接头一分为二，分别连接到超压排气阀和自动排气阀。

技术总结
本实用新型提供一种新型真空炉供气排气系统，包括工艺气体进气管道、工艺气体进气阀、质量流量计、工艺气体出气阀、第一单向阀、第一三通接头、惰性气体进气管道、惰性气体进气阀、压力调节控制器、惰性气体出气阀、气体供气连接管道、真空反应腔、真空管道、真空规管、压力检测传感器、泄压阀、真空机组、气体排气管道、超压排气阀、自动排气阀，本实用新型具有如下的有益效果：能够实现反应腔抽真空后，根据工艺指标需要进行气体流量和压力的设定，充气时能进行流量和压力的自动控制，而且带有压力上限保护及泄压保护功能。限保护及泄压保护功能。限保护及泄压保护功能。


技术研发人员：刘洋 姜洪斌 李强
受保护的技术使用者：青岛精诚华旗微电子设备有限公司
技术研发日：2021.08.17
技术公布日：2022/2/18