半导体热处理设备的炉体支撑结构和半导体热处理设备的制作方法

1.本技术涉及半导体设备技术领域，具体涉及一种半导体热处理设备的炉体支撑结构和一种半导体热处理设备。


背景技术：

2.当前光伏行业发展迅速，装机量每年都有大幅提升，光伏生产厂商急需扩大产能以应对市场需求。由于受到厂房空间限制，如何提升单台设备的产能成为光伏生产厂商关注的核心问题。目前管式pecvd设备是光伏电池生产过程中的关键工艺设备之一，目前管式pecvd设备包括多个管式炉，以管式炉作为沉积腔室，将可以放置多片晶圆的晶舟插进管式炉中进行沉积工艺。多个管式炉放置在多层支撑架上，请参考图1，两根炉体支撑方钢2，通过螺钉固定在设备骨架3上，炉体1在安装时由一侧炉体支撑方钢2为支点翻滚入两根炉体支撑方钢2之间，通过在炉体1的两侧分别调节两根炉体支撑方钢2的位置，可以调节炉体1的中心点高度。
3.通过增加单个pecvd设备内的炉体的数量，可以提高单台设备的产能。如何在设备外形尺寸变化不大的前提下，增加设备炉体数量式目前亟待解决的问题。


技术实现要素：

4.鉴于此，本技术提供一种半导体热处理设备的炉体支撑结构和一种半导体热处理设备，以提高现有单个半导体热处理设备的产能。
5.本技术提供的一种半导体热处理设备的炉体支撑结构，包括：骨架，由横梁和竖梁相互固定而成；若干组位于不同高度的支撑梁，每一组均包括两根支撑梁，设置于所述骨架内侧，同一组的两根所述支撑梁位于同一平面内，且分别垂直固定于相对设置的两组所述竖梁上；滑动支撑架，可滑动可拆卸地安装于同一组的两根所述支撑梁上，所述滑动支撑架用于放置所述炉体。
6.可选的，所述支撑梁与所述滑动支撑架接触的一侧开设有安装孔，所述安装孔内设置有滚轮，且所述滚轮表面突出于所述支撑梁表面。
7.可选的，所述滑动支撑架包括矩形的支撑框，所述支撑框的短边可滑动可拆卸地安装于所述支撑梁上；所述滑动支撑架还包括调节梁，所述调节梁沿所述支撑框的长边设置，两端分别连接于所述支撑架的短边上。
8.可选的，所述调节梁包括主条梁，所述主条梁每个端部的两侧均设置有连接件；所述支撑框的短边上设置有螺纹孔，螺钉穿过所述连接件与所述螺纹孔连接；所述调节梁和所述支撑框的任一侧长边配合支撑所述炉体。
9.可选的，所述支撑框的短边上沿其延伸方向设置有若干所述螺纹孔。
10.可选的，所述连接件上开设有平行于所述支撑框的短边的长条孔，所述螺钉穿过所述长条孔与所述螺纹孔连接，使得所述连接件可沿所述长条孔的长度方向移动；所述滑动支撑架还包括：第一平移微调组件，与所述连接件连接，用于驱动所述调节梁沿所述长条
孔的长度方向移动。
11.可选的，所述第一平移微调组件包括：第一固定片，垂直固定于所述支撑框的短边上，所述第一固定片具有第一通孔；第一调节螺钉，穿过所述第一通孔，固定于所述固定块一端；所述固定块一端具有第一螺纹孔，所述第一调节螺钉固定于所述第一螺纹孔内；两个第一调节螺母，套设于所述第一调节螺钉外，分别紧固于所述第一固定片的两侧。
12.可选的，所述滑动支撑架还包括：第二平移微调组件，与所述支撑框连接，用于驱动所述支撑框沿所述滑动支撑架的滑动方向移动。
13.可选的，所述第二平移微调组件包括：第二固定片，垂直固定于所述支撑框底部，所述第二固定片具有第二通孔；第二调节螺钉，穿过所述第二通孔，固定于所述支撑梁一端；所述支撑梁一端具有第二螺纹孔，所述第二调节螺钉固定于所述第二螺纹孔内；两个第二调节螺母，套设于所述第二调节螺钉外，分别紧固于所述第二固定片两侧。
14.本技术还提供一种半导体热处理设备，包括：如上述任一项所述的炉体的支撑结构。
15.本技术的炉体支撑结构，放置炉体的滑动支撑架可滑动可拆卸地安装于横梁上，可以通过平移方式将炉体推入骨架内，因此，可以尽量压缩骨架内每一层的炉体放置空间的高度，因此，在同样高度的空间内，可以提高可安装炉体的数量，进而提高单台设备的产能。
16.进一步，通过推入的方式进行炉体安装，与翻滚放入的方式相比，安装方式更为省力，安全，提高了设备的操作便捷性和安全性。
17.进一步的，所述支撑结构还包括第一平移微调组件和第二平移微调组件，可以在同一侧对炉体的高度和水平位置进行微调，降低了对设备的空间布局要求。
附图说明
18.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
19.图1是现有的放置有炉体的炉体支撑结构的示意图；
20.图2是本技术一实施例的放置有炉体的炉体支撑结构的示意图；
21.图3是本技术一实施例的炉体支撑结构的支撑梁的局部结构示意图；
22.图4是本技术一实施例的炉体支撑结构的滑动支撑架的支撑框结构示意图；
23.图5是本技术一实施例的炉体支撑结构的滑动支撑架的结构示意图；
24.图6是本技术一实施例的炉体支撑结构的滑动支撑架的局部结构示意图；
25.图7是本技术一实施例的炉体支撑结构的滑动支撑架安装与骨架上的局部结构示意图；
26.图8是本技术一实施例的炉体支撑结构的滑动支撑架安装与骨架上的局部结构示意图。
具体实施方式
27.如背景技术中所述，现有半导体设备中的炉体数量有待进一步提高。目前的pecvd设备中，采用一侧炉体支撑方钢为支点，通过翻滚的方式将炉体安装在两根支撑梁之间，为了便于安装，要求设备的支撑结构有较大层间距，从而限制了支撑结构上能够放置的炉体的数量，进而限制了单台设备产能。并且，在调节炉体中心位置时，需要在炉体两侧分别调节两侧的支撑梁，这就要求设备设计时在炉体两侧都要留出操作空间，限制了设备的结构布局，使得厂房内可容纳的设备数量受限，进而产能受限。
28.为此，发明人提出一种新的炉体支撑结构和半导体热处理设备，提高同样空间内，支撑结构可放置的炉体数量，从而提高半导体设备的产能。
29.下面结合附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而非全部实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在不冲突的情况下，下述各个实施例及其技术特征可以相互组合。
30.请参考图2，为本实用新型一具体实施方式的放置有卧式炉体的炉体支撑结构的示意图。
31.所述炉体支撑结构包括：骨架100、支撑梁110以及滑动支撑架120。
32.所述骨架100由横梁101和竖梁102相互固定而成，具有炉体10的安装入口。
33.该实施例中，所述骨架100为长方体结构，包括4根竖梁102，以及8根横梁101。所述竖梁102和横梁101均采用方钢，具有较大的机械强度，以形成稳定的骨架结构。各个竖梁102和横梁101之间可以通过焊接工艺固定。在其他实施例中，所述骨架100可以采用其他具有高机械强度的型材。
34.所述长方体结构的骨架100具有相对的正面和背面，所述正面和背面开口可以作为卧式炉体10的安装入口，因此所述正面和背面开口的宽度和炉体的长度匹配，使得炉体10能够顺利进入所述骨架100内。
35.所述支撑结构包括若干组位于不同高度的支撑梁110，每一组均包括两根支撑梁110，设置于所述骨架100内侧，同一组的两根支撑梁110位于同一平面内，且分别垂直固定于相对设置的两组竖梁102上。
36.多组支撑梁110将所述骨架100在高度方向上分为若干层，每一层空间用于放置一个炉体10。所述支撑梁110两端可以通过焊接或螺钉固接等方式与竖梁102垂直固定。所述支撑梁110位于骨架100内侧，向内凸起，用于放置所述滑动支撑架120。
37.所述滑动支撑架120可滑动可拆卸地安装于同一组的两根支撑梁110上，所述滑动支撑架120用于放置炉体10，所述滑动支撑架120的滑动方向垂直于所述安装入口。具体的，所述滑动支撑架120的两端可拆卸的安装于所述支撑梁110上，安装和拆卸过程均可以通过平移滑动实现，例如安装时，将所述滑动支撑架110平移推入所述骨架100内，拆卸时也通过平移方式拉出。
38.所述支撑梁110与所述滑动支撑架120的接触表面之间设置有滚轮，使得所述滑动支撑架110能够在所述支撑梁110表面进行滑动。
39.请参考图3，为本实用新型一实施例的支撑梁110的示意图。
40.该实施例中，所述支撑梁110与所述滑动支撑架120接触的一侧开设有安装孔111，
所述安装孔111内设置有滚轮112，且所述滚轮112表面凸出于所述支撑梁110表面。所述滚轮112还可以为滚珠等有利于所述滑动支撑架120滑动的结构。
41.在其他实施例中，也可以是在所述滑动支撑架120的与所述支撑梁110接触的底部表面上设置滚轮或滚珠，以实现滑动。
42.在其他实施例中，所述支撑梁110与所述滑动支撑架120的两个相对的接触面上还可以分别设置滑槽和可嵌设于所述滑槽内的导轨，从而实现滑动。
43.在其他实施例中，还可以采用其他方式实现滑动支撑架120可滑动可拆卸地安装于所述支撑梁110上。
44.在设备安装过程中，可以首先将炉体10放置于所述滑动支撑架120上之后，通过滑动推入的方式，将滑动支撑架120连带炉体10一起推入所述骨架100内，支撑于所述横梁110上。
45.由于通过平移方式将炉体10推入骨架100内，因此，可以尽量压缩骨架100内每一侧的炉体放置空间的高度，每一侧的空间高度仅需要略高于炉体10的直径，能够让安装有炉体10的滑动支撑架120能够顺利推入即可。由于上述支撑结构可以压缩层间高度，因此，在同样高度的空间内，可以提高可安装炉体的数量，进而提高单台设备的产能。
46.并且，通过推入的方式进行炉体安装，与翻滚放入的方式相比，安装方式更为省力，安全，提高了设备的操作便捷性和安全性。
47.请参考图4至图6，为本技术一实施例的滑动支撑架120的结构示意图。
48.所述滑动支撑架120包括矩形的支撑框121，所述支撑框121的长边1211a和长边1211b的长度与所述骨架100的安装入口的尺寸匹配，所述支撑框121的短边1212a和短边1212b可滑动可拆卸地安装于所述支撑梁110上。所述滑动支撑架120还包括调节梁122，所述调节梁122沿支撑框121的长边设置，两端分别连接于所述支撑架122的短边1212a和短边1212b上，具体的，可以是连接于所述短边1212a和短边1212b朝向炉体放置空间的内侧。所述调节梁122和所述支撑框121的任一侧长边配合支撑所述炉体10，该实施例中，所述调节梁122和所述支撑框121的长边1211a作为炉体10的支撑边，所述炉体10安装时，放置于所述长边1211a和调节梁122之间的空间内。
49.该实施例中，所述调节梁122包括主条梁1221，以及设置于所述主条梁1221的每个端部的两侧的连接件1222。所述支撑框121的短边1212a、1212b内侧设置有螺纹孔1213(请参考图4)，螺钉1223穿过所述连接件1222，与所述螺纹孔1213连接。
50.为了提供稳定的支撑效果，所述主条梁1221和所述支撑框121的长边1211a均采用较大机械强度的方钢，所述短边1212a、1212b为角钢，长边1211b也采用角钢，所述连接件1222为焊接在所述主条梁1221端部两侧的两端小方钢。长边1211a、1211b、短边1212a和1212b相互之间焊接固定。其中长边1211b主要用于支撑短边1212a和1212b，使得支撑框121的结构稳定，避免焊接过程由于热作用导致短边1212a和1212b发生变形。
51.进一步的，该实施例中，所述调节梁122还可以在沿支撑框121的短边1212a、1212b移动，以改变主条梁1221与长边1211a之间距离，进而调整放置于其上的炉体10的中心高度。
52.该实施例中，所述连接件1222开设有平行于支撑框121的短边1212b的长条孔1224，所述螺钉1223穿过所述长条孔1224与所述螺纹孔1213连接，使得所述连接件1222可
沿所述长条孔1224的长度方向移动。
53.所述滑动支撑架120还包括：第一平移微调组件，与靠近安装开口一侧的连接件1222连接，用于驱动所述调节梁122沿所述长条孔1224的长度方向移动。该实施例中，所述第一平移微调组件包括：第一固定片211，垂直固定于所述支撑框121的短边1212b上，所述第一固定片211具有第一通孔；第一调节螺钉212，穿过所述第一通孔，固定于所述固定块1222一端；所述固定块1222一端具有第一螺纹孔，所述第一调节螺钉212固定于所述第一螺纹孔内，并通过紧锁螺母2121紧固；第一调节螺母213a和第一调节螺母213b，套设于所述第一调节螺钉212外，分别紧固于所述第一固定片211的两侧。
54.调节所述调节梁122的位置的方法包括：将螺钉1223松开，并通过扳手固定所述第一调节螺钉212，防止所述第一调节螺钉212转动，并松开所述第一调节螺母213b，顺时针旋转所述第一调节螺母213a，由于所述第一调节螺母213a位置无法移动，相对的，所述第一调节螺钉212向外移动，从而可以实现调节主条梁1221向炉体外侧微调；通过扳手固定所述第一调节螺钉212，防止所述第一调节螺钉212转动，松开第一调节螺母212a，同时逆时针旋转所述第一调节螺母213b，可实现调节所述主条梁1221向炉体内侧微调。待调节主条梁1221到合适位置后，缩紧所述螺钉1223、固定所述第一调节螺母213a和第一调节螺母213b。
55.上述第一平移微调组件以及调整方法仅以主条梁1221一端位置处的结构进行描述，另一端具有相同的结构，且调整方式一致，在此不作赘述。需要对两端的第一平移微调组件均进行调整，以避免所述主条梁1221发生歪斜。
56.该实施例中，所述支撑框的短边1212b在所述调节梁122的平移方向上，即所述短边的延伸方向上设置有若干所述螺纹孔1213；根据所述调节梁122所处位置不同，螺钉1223安装于不同的螺纹孔1213内。
57.进一步的，该实施例中，所述滑动支撑架120还包括：第二平移微调组件，与所述支撑框121连接，较佳的，连接与所述支撑况121的靠近安装口一侧接，用于驱动所述支撑框121沿所述华东支撑架的滑动方向移动。可以在所述滑动支撑架120与横梁110接触的两端均设置所述第二平移微调组件。
58.请参考图7，该实施例中，所述第二平移微调组件包括：第二固定片311，垂直固定于所述支撑框121底部，所述第二固定片311具有第二通孔；第二调节螺钉312，穿过所述第二通孔，固定于所述横梁110一端；所述横梁110一端具有第二螺纹孔，所述第二调节螺钉312固定于所述第二螺纹孔内，并通过紧锁螺母3121紧固；第二调节螺母313a和第二调节螺母313b，套设于所述第二调节螺钉外312，分别紧固于所述第二固定片311两侧。
59.调节所述支撑框121的位置的方法包括：通过扳手固定所述第二调节螺钉312，防止所述第二调节螺钉312转动，松开所述第二调节螺母313b，通过顺时针旋转所述第二调节螺母313a，可以实现调节支撑框121和炉体10向骨架100内侧微调，调整到位后，锁定所述第二调节螺母313b。通过扳手固定所述第二调节螺钉312，防止所述第二调节螺钉312转动，松开所述第二调节螺母313a，同时逆时针旋转第二调节螺母313b，可实现调节所述支撑框121和炉体10向骨架100外侧微调，调整到位后，缩紧所述第二调节螺母313a。
60.上述逆时针和顺时针，均以所述第一调节螺钉212和第二调节螺钉312为参考，逆时针旋转时，螺母向螺帽方向移动，顺时针旋转时螺母向远离螺帽方向移动。
61.所述第一微调组件和第二微调组件均设置在靠近炉体安装口一侧，因此，仅需要
在骨架一侧的安装开口处就能够实现对炉体中心高度，以及炉体相对设备内外侧位置的调整。
62.本实用新型还提供一种半导体热处理设备，包括上述任一实施例中所述的炉体支撑结构。
63.上述半导体热处理设备的炉体支撑结构的炉体安装空间得到优化，更利于压缩设备的炉体层间距，利于提升单台设备的产能。滑动支撑架可以让炉体在设备外安装到位后，再通过滑动平移整体推入设备内部，相比其他炉体安装方式，操作人员操作省力且安全。同时，本实用新型实现了在支撑结构的一侧对炉体中心位置的调整，减少了对设备结构布局的限制。
64.以上所述仅为本技术的实施例，并非因此限制本技术的专利范围，凡是利用本技术说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，例如各实施例之间技术特征的相互结合，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本技术的专利保护范围内。