专利名称：流体处理系统和用于其中的辐射源标准组件的制作方法
技术领域：
在本发明的一个方面，本发明涉及辐射源标准组件，特别是一种紫外辐射源标准组件。在本发明的另一个方面，还涉及到流体处理系统，尤其是一种紫外辐射水处理系统。
背景技术：
流体处理系统在其技术领域中已经广为人知。更具体地说，紫外(UV)辐射流体处理系统在其技术领域中已经广为人知。早期的处理系统包括一种完全封闭的腔室设计，其中包括一个或多个辐射(优选UV)灯。但是，在这些早期的设计中存在着一些问题。在将这些设计应用于大型的开放流体处理系统中时，所存在的问题尤其明显。大型开放流体处理系统的代表是大型市政废水或饮用水处理工厂。因此，与这些处理系统相关的反应器具有以下问题·反应器具有相对高的资本成本；·很难接近淹没的反应器和/或浸泡的设备(灯、套管清洁器等)；·与去除流体处理设备的污物相关的困难；和/或·为了对浸泡的元件(套管、灯等)进行维护，需要将整个设备替换。
这些存在于传统封闭反应器中的缺点导致了所谓的“明渠”反应器的发展。
例如，美国专利4,482,809，4,872,980和5,006,244(都在Maarschalkerweerd的名下并且都转让给本发明的受让人，之后称之为Maarschalkerweerd #1专利)都描述了利用紫外(UV)辐射的重力自流入流体处理系统。
这样的系统包括UV灯标准组件(例如框架)的阵列，每个UV灯标准组件包括几个UV灯，每个UV灯都安装在套管内，套管在一对支撑腿之间延伸并且由支撑腿支撑，而支撑腿则安装在横梁上。将这样支撑的套管(包含UV灯)浸入要被处理的流体中，然后使流体按照需要被辐射。流体所受到的辐射量根据以下因素确定流体与灯的接近程度、灯的输出功率和流体经过灯的流动速率。具有代表性地，利用一个或多个UV传感器监测灯的UV输出，并且利用位于处理装置下游一些的水位闸门等控制流体水位。
Maarschalkerweerd #1所描述的流体处理系统的特征在于它提高了将设备从淹没或浸入的状态取出的能力而无须完全的设备替换。这些设计将灯阵列划分为行和/或列，并且其特征在于在自由流动顶部敞开的渠道中，反应器的顶部开放。
Maarschalkerweerd #1所描述的流体处理系统的特征在于具有自由流体流动表面(有代表性地是不有意限制或控制顶部流体表面)。因此，系统具有特色的地方在于它将遵循明渠水力学的特性。由于系统的设计包括固有的自由流动流体表面，在一列或其它水力相邻的列受到水位变化的不利影响之前，对每个灯或每个灯阵列所能处理的最大流动有一定的限制。如果流体水位过高或者流动中有很大的变化，不受限制的或者自由流动流体表面能够改变流体流动的处理容积和横截面形状，因此导致反应器的效率相对低下。假若对阵列中的每盏灯提供的功率较低，每盏灯的流体流动相对较低。在这些较低功率的灯和随后的较低水力负载处理系统中，完全明渠流体处理系统的概念就足够了。这里的问题是由于灯的功率较低，处理同样的流动就需要相对大量的灯。因此，系统的固有成本会过大和/或即使与自动灯套管清洁和大流体容积处理系统的其它特点结合起来，仍然没有竞争性。
这导致了所谓的“半封闭”流体处理系统。
美国专利5,418,370，5,539,210和Re36,896(都在Maarschalkerweerd的名下并且都转让给本发明的受让人，之后称之为Maarschalkerweerd #2专利)都描述了在利用紫外(UV)辐射的重力自流入流体处理系统中的改进的辐射源标准组件。概括地说，改进的辐射源标准组件包括密封地悬臂于支撑件上的辐射源组件(具有代表性地，包括一个辐射源和一个保护(例如，石英)套管)。支撑件可以进一步包括适当的装置以在自流入流体处理系统中固定辐射源标准组件。
因此，为了处理具有大量灯和与每盏灯相关的清洁方面的增加的高花费，将具有高输出的灯应用于UV流体处理。其结果是可以大幅度减少灯的数目和每盏灯的长度。这导致自动灯套管清洁设备的经济性并且减少了处理系统所需的空间以及其它好处。为了使用功率更高的灯(如中压UV灯)，如果对反应器的所有表面都不加以限制，在系统的应用过程中每盏灯的水力负载会增加到反应器中的流体处理容积/横截面面积有很大改变的程度，这会使得系统具有相对低的效率。因此Maarschalkerweerd #2专利的特征在于在反应器的处理面积中具有限制所处理流体的闭合表面。封闭处理系统具有开放的、放置于明渠中的端部。利用回转枢轴、滑动器和各种装置可以将浸没或浸入的设备(UV灯，清洁器等)从半封闭的反应器中将设备移出到自由表面。
Maarschalkerweerd #2专利中描述的流体处理系统的特征在于灯的长度相对短，这些灯悬臂于基本上垂直的支撑臂上(即只在一端支撑灯)。这允许灯从半封闭反应器中旋转出来或者用其它的方法取出。当考虑到将电能转换为UV能的效率时，这些非常短并且功率更高的灯在本质上具有低效的特征。与物理接触并且支撑这些灯的所需设备相关的成本很高。
Maarschalkerweerd #1和#2专利代表了在流体处理技术上的重要进展，特别是关于水的紫外辐射处理。尽管有了这些进展，仍然有进一步发展的空间。随着时间的流逝，UV光源或者灯的基本技术已经有了进一步的发展。具体地说，灯的制造商正在发展功率更强的灯，在将电能转换为UV能的方面它们也比中压灯更有效。这些效率更高的光源其典型实际长度比中压灯长，为了利用这些灯，必须处理两个问题。首先，由于灯更长了，有必要在不大幅度增加流体处理系统成本的前提下能够很容易地将灯从反应器中取出。其次，灯的功率更大并且其尺寸更长引起了新的危险，即流体的整体速度可能超过明渠或自由表面水力反应器设计所能够接受的数值。
因此，需要具有能够应用新近发展的所谓“低压、高输出”(LPHO)和/或汞齐灯的辐射源标准组件和流体处理系统，同时能够很容易地将灯从流体处理系统中取出以进行维护等，并且具有在Maarschalkerweerd #2专利中所描述的流体处理系统的优点。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种新颖的辐射源标准组件，它能够避免或减轻上面描述的现有技术中的至少一个缺点。
本发明的一个目的是提供一种新颖的流体处理系统，它能够避免或减轻上面描述的现有技术中的至少一个缺点。
因此，在本发明的一个方面，本发明提供一种辐射源标准组件，它包括一个支撑件，一个与支撑件连接的辐射源组件和一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和与第一表面相邻的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。
在本发明的另一个方面，本发明提供一种辐射源标准组件，它包括多个辐射源，每个辐射源(i)具有和相邻辐射源的同心纵向轴线大致平行排列的同心纵向轴线，和(ii)放置在与每个相邻辐射源离开预定距离的位置上并且在相邻辐射源的同心纵向轴线之间限定了预定的中心到中心的距离，辐射源标准组件进一步包括一个限制件，它具有一个放置在离开相邻辐射源一定距离的表面，这个距离是中心到中心距离的一个预定部分。
在本发明的另一个方面，本发明提供一种流体处理系统，它包括一个承接流体流动的明渠，放置在明渠中的至少一个辐射源标准组件，至少一个辐射源标准组件的一个表面把要被处理的流体限制在封闭流体处理区域内，辐射源标准组件包括至少一个放置在流体处理区域中的辐射源组件。
在本发明的另一个方面，本发明提供一种流体处理系统，它包括一个承接流体流动的明渠，一个可以在限定了封闭区域的第一位置和限定了开放区域的第二位置之间移动的限制件，至少一个放置在明渠中的辐射源标准组件，该辐射源标准组件具有至少一个辐射源元件，至少一部分辐射源元件放置在封闭区域内。
因此，本发明已经发现了一种流体处理系统，它具有Maarschalkerweerd #2专利所描述的系统的优点，同时可以相对容易地在Maarsehalkerweerd #1专利所陈述的明渠中实施。另外，本流体处理系统易于安装多系列(如连续放置)辐射源标准组件(例如装入了LPHO型或其它类型的辐射灯)。另外，本流体处理系统允许辐射源具有更近的间距-在处理低级流体时这是需要的。另外，本流体处理系统易于装入混合器或混合元件以方便流体处理。在本发明的流体处理系统中，有效地提供了一个限制件，它可以在第一位置和第二位置之间移动，在第一位置流过流体处理系统的流体流动被限制在一个相对封闭的横截面内，反之，基本上在限制件上游和下游的流体流动被称为开放流动(即在所有侧都不受限制)。
在整个说明书中，涉及了一些术语，如“封闭区域”、“封闭横截面”和“受限制的“。这些术语在本质上是可以交换使用的并且用来包含一种结构，这个结构以类似于Maarschalkerweerd #2专利所描述的形式包围流体流动。在本流体处理系统的情况中，在一个实施例中，通过相邻放置的辐射源标准组件的组合提供限制件，每个辐射源标准组件具有它自己的所谓限制件，从而通过组合在一起，在明渠中提供了一个整体的限制件。
另外，在本说明书中，术语“标准组件”的应用与辐射源标准组件和隔板标准组件相联系，它包括一个能够在整个系统(如流体处理系统)中使用的重复组件。另外，本说明书中使用的术语“流体”具有较广的意义，它包括液体和气体。利用本系统的优选进行处理的流体是液体，最好是水(如废水、工业污水、再使用水和饮用水等)。
那些本领域技术人员能够理解在本说明书中提到的密封件等在相邻辐射源标准组件和隔板标准组件(如果有的话)之间提供了实用的流体密封。那些本领域技术人员很清楚为了实现本流体处理系统的好处绝对的不透过任何流体的密封是不必要的，可以发生少量的泄露(如一旦有这种泄露，将这些泄露流体再循环到流体流动中是很简单的事)。尽管有这种少量的泄露，限制件起到它的作用，即在一个区域内基本上围绕、限制、包围、包住流体流动，在这个区域内至少放置了辐射源的一部分。
将参照
本发明的实施例，其中类似的参考标号表示相似的元件，其中图1说明了本辐射源标准组件和流体处理系统第一个实施例的部分横截面的透视图；图2说明了沿图1中线II-II的剖视图；图3和图4说明了图1所示辐射源标准组件在运行和被取出位置时横截面的侧视图；
图5说明了本辐射源标准组件和流体处理系统第二个实施例的透视图；图6和图7说明了图5所示辐射源标准组件在运行和被取出位置时横截面的侧视图；图8说明了本辐射源标准组件和流体处理系统第三个实施例的透视图；图9说明了示于图8的流体处理系统的一端(为了清晰的目的示出了少一些的标准组件)；图10示出了示于图8的流体处理系统的一部分的透视图，其中一个辐射源标准组件处于被取出位置；图11示出了示于图8的流体处理系统的一部分的侧视图，其中一个辐射源标准组件处于被取出位置；图12示出了示于图10的流体处理系统的一部分的放大视图，其中辐射源标准组件被转动取出以便维护等；图13示出了实现本发明的一个优选模式的示意性视图。
优选实施例的描述参考图1到图4描述流体处理系统100，它包括明渠105。明渠105包括一对侧壁110和底部115。
在明渠105中放置着一系列辐射源标准组件120。每个辐射源标准组件120包括一对支撑腿125。在每个给定的标准组件中一系列可使辐射透过的保护套管130放置在一对支撑腿125之间。如LPHO紫外辐射灯这样的辐射源灯(未示出)放置在每个保护套管130的内部。以流体密封的形式将套管130与支撑腿125连接起来的办法是传统的，如可参考专利Maarschalkerweerd #1、#2和其它授予TrojanTechnologies Inc.的专利。
对于给定的辐射源标准组件120，每对支撑腿125用横梁135连接。在每个横梁135的一端放置着具有孔眼的件140。连接在明渠105两个侧壁110上的一根枢轴杆145穿过每个辐射源标准组件120的孔眼件140。
特别参考图1和图2，每个辐射源标准组件120包括一个可膨胀的密封件150。每个可膨胀的密封件150连接到公共管道155上。公共管道155连接到诸如空气或水的流体源(未示出)上。
进一步参考图2，可以看出可膨胀密封件150在第一位置和第二位置之间可以可逆地膨胀，其中密封件在第一位置以流体密封连接的形式在明渠105的相邻辐射源标准组件120和/或壁110之间膨胀，在第二位置可膨胀的密封件150处于相对未膨胀状态，因而在明渠105的相邻辐射源标准组件120和/或壁110之间形成间隙。那些本领域技术人员能够理解靠近任一个壁110的一个辐射源标准组件120在横梁135的每侧都包括一个可膨胀的密封件150。其它的辐射源标准组件120将只包括一个可膨胀的密封件150。
特别参考图1和图3，其中示出了运行中的流体处理系统100。每个辐射源标准组件120都浸没在明渠105中并且所有的可膨胀密封件150运行于第一(膨胀的)位置，从而在明渠105的相邻辐射源标准组件120和壁110之间形成基本上不漏水的密封。通过这种布置，限定了与Maarschalkerweerd #2专利的流体处理区域设计相类似的基本上封闭的横截面流体处理区域165。这里的差别在于封闭流体处理区域的一个表面由一个可移开的辐射源标准组件所限定，并且辐射源标准组件包括相对较长的辐射源。
图4示出了位于取出位置的辐射源标准组件120，在这个状态对它的部件进行维护。首先将要被取出的辐射源标准组件120的可膨胀密封件150(为了清晰在图4中未示出，可参考图2)放气使它处于第二(未膨胀)位置。为了将标准组件120取出，大致按箭头A示出的方向摆动辐射源标准组件120使它绕枢轴杆145转动。在这个位置，可以对单独一个辐射源标准组件进行维护同时将其它标准组件置于原处并且保持系统运行。另外，也可以将所有的辐射源标准组件摆动到取出位置以同时维护它们。
参考图5-7，描述了辐射源标准组件和流体处理系统的第二个实施例。示出的流体处理系统200包括明渠205。明渠205包括两个侧壁210和底部215。
在明渠205之中放置着一系列辐射源标准组件220。每个辐射源标准组件包括一对支撑腿225(在图5-7中，只示出了每个辐射源标准组件220的一个支撑腿225)。对于给定的辐射源标准组件220，在每对支撑腿225之间放置着一系列可使辐射透过的保护套管230。在每个保护套管230内放置着至少一个诸如LPHO紫外辐射灯的辐射源(未示出)。
每对支撑腿225通过一个横梁235连接。
对于每个辐射源标准组件220，在它的一端设有一对孔眼件240。一根放置在侧壁210之间的枢轴杆245穿过每个辐射源标准组件220的每个孔眼件240。
尽管没有特别示出，每个辐射源标准组件220包括一个象上面描述的可膨胀密封件，可参考上面描述的和图1-4示出的实施例。
辐射源标准组件220进一步包括一个延伸件270。延伸件270优选与每个支撑腿225具有基本相同的长度。
特别参考图6和图7，将描述流体处理系统200的操作。
图6绘出了处于工作位置的辐射源标准组件220。因此，辐射源标准组件220的每个可膨胀密封件(未示出)处于第一(膨胀的)位置，因此在辐射源标准组件220和明渠205的壁210之间建立了一个基本上不漏水的密封。在箭头B方向上行进的流体(典型物是水)被迫使从延伸件270和横梁235下面穿过，使得限定出流体处理区域265并且具有封闭的横截面。
参考图7，当需要维护时，在箭头C的方向摆动辐射源标准组件220使它绕枢轴杆245转动。这使得延伸件270向下摆动。本领域技术人员能够理解，放置在这个位置的辐射源标准组件220将有效地偏转流体使之通过明渠205中相邻的辐射源标准组件，其结果是流体在系统200的通过量将减小因此减弱或避免了一些未处理流体的通过。那些本领域技术人员能够认识到当辐射源标准组件220处于图7所示的位置时，延伸件270下游的流体水位的改变将根据以下因素明渠205中标准组件的总数目、被向上摆动的标准组件的数目、相邻源之间的间距等。
参考图8-12，描述了辐射源标准组件和流体处理系统的第三个实施例。示出的流体处理系统300包括明渠305。明渠305包括两个侧壁310和底部315。
在明渠305之中放置着一系列辐射源标准组件320。每个辐射源标准组件320包括一对支撑腿325。对于给定的辐射源标准组件320，在每对支撑腿325之间放置着一系列可使辐射透过的保护套管330。在每个保护套管330内放置着至少一个诸如LPHO(或其它类型)紫外辐射灯的辐射源(为了清晰未示出)。
一个横梁335连接着每个支撑腿325。
对于每个辐射源标准组件320，至少在其一端设有一个U形支架340，支架上具有枢轴杆345可放置在其中的一对孔。那些本领域技术人员能够理解，通过调节相邻的辐射源标准组件320可以对准U形支架340，从而枢轴杆345可以穿过所有的U形支架340放置。优选辐射源标准组件320配备一个位于下面的闭锁或类似的装置(未示出)，从而在明渠的流动条件下可以将辐射源标准组件固定在其位置上。对下锁或类似装置的精确特性没有特别的限制，并且可以将它们装入每个标准组件或者可以作为一个独立结构可松开地与一个或多个辐射源标准组件320接合。
在相邻辐射源标准组件320之间放置有隔板标准组件350。隔板标准组件350包括一对在相对表面上的密封件352。图9特别清楚地示出，密封件352接触邻接给定隔板标准组件350的每个辐射源标准组件320的横梁335。如图10所示，隔板标准组件350在其一端支撑在杆351上，它的相对一端支撑在枢轴杆345上。优选隔板350的末端可松开地接合到杆351上。
那些本领域技术人员能够理解，示于图8-12的实施例的一个优点是只需要在每个辐射源标准组件320上提供很少的密封件(与上面参考图1-4所描述的实施例相比)。更具体地说，在一列相邻的辐射源标准组件320上，只有在辐射源标准组件外部的横梁335的外表面需要设有密封件-这在图9中用参考标号354示出。
进一步参考图8-12，将描述流体处理系统300的操作。
图8描述了完全处于工作位置的流体处理系统300(所有的辐射源标准组件320处于适当的位置)。位于每个隔板标准组件350相对两侧的密封件352在每个辐射源标准组件320的横梁335之间沿着至少一部分横梁335，优选沿着横梁335的基本上整个长度，提供一个流体基本上不能穿过的密封。另外，在每个最外侧的辐射源标准组件320的每个横梁335的外表面上的密封件354在侧壁310和每个最外侧辐射源标准组件320的横梁335之间提供一个流体基本上不能穿过的密封。这样的结果是在辐射源标准组件320的相邻横梁335下面的明渠305的区域中提供了一个基本上封闭的流体处理区域(或者封闭区域)。
参考图10-12，当需要维护时，在箭头E的方向摆动辐射源标准组件320使得它绕枢轴杆345转动。从图11可以清楚地看出，部分转动上来的辐射源标准组件320仍然有一部分横梁335在区域F与相邻的隔板标准组件350(为了清晰没有示出)密封配合在一起。这在辐射源标准组件320阵列中与横梁335聚集的最邻近区域保持了流体基本上不能穿过的密封。这是辐射源标准组件320和隔板标准组件350的一个优点。
参考图13，它示意性地示出了实现明渠的一部分转换为闭合横截面的另一种装置。在示于图1-12的实施例中，用于限定流体处理区域的基本上封闭的横截面通过旋转或转动辐射源标准组件(有或没有隔板标准组件)到适当位置来实现。如图13所示，明渠400承接在箭头F方向的流体流动。限制件410可在箭头G的方向往复移动。为了清晰起见没有示出辐射源标准组件，但它们应放置在明渠400的限制件410的表面415和底表面420之间。图13示出了限制件怎样移动(线性或滑动移动)以限定封闭区域(或封闭流体处理区域)的实施例。但是对这个实施例没有特别地限制，限制件410的移动可以通过其它形式实现，如转动或其它形式。
在整个说明书中，利用一些概括性的术语并且参考详细描述的实施例给出了在相邻辐射源标准组件和隔板标准组件(如果有的话)之间的密封件。只要这些密封件能够实现本发明陈述的目的，对它们的精确特性没有特别的限制。例如，在一个实施例中，密封件可以是所谓的“接触密封”。一些适当的接触密封的例子可以包括磁密封、电磁密封、气压密封、液压密封、机械密封、流体静压密封等。另外，在另一个实施例中，密封可以是非接触密封，它们不涉及两个表面的物理接触，而是基于跨越开口的压差引起流阻。这种密封的例子是所谓的窄缝密封、迷宫密封、射流密封、电密封等，在本发明的流体处理系统中优选使用接触密封。当然可以使用各种密封的组合并且将它们包括在本发明的范围内。
尽管已经参考说明性的实施例和例子描述了本发明，所做的描述不应被理解为是限制性的。因此，参考这里的描述，对于那些本领域技术人员来讲，对本发明的说明性的实施例以及其它实施例的各种改进将很明显。例如，象上面描述的Maarschalkerweerd #1专利中以各种形式所描述的，可以为辐射源在辐射源标准组件中(例如在辐射源标准组件120的横梁135中)设置镇流器或其它的电源。另外，可能象授予给Trojan Technologies Inc.的各种专利及其所公开的各种专利所描述的那样在辐射源标准组件中装入机械或化学/机械清洁系统。另外，还可以改进所描述的实施例使得支撑腿125放在明渠105的底部115上。另外，尽管在每个详细描述的实施例的流体处理系统中，辐射源具有基本上与明渠中流体流动方向基本上平行的纵向轴线，本领域技术人员能够理解可以改进所描述的实施例使得辐射源的纵向轴线横向于流体流动方向。这可以通过定向辐射源的纵向轴线使之相对于流体流动的方向基本上垂直(如在水平方向上垂直或在竖直方向上垂直)或者呈一定角度(如在水平方向上呈一定角度或在竖直方向上呈一定角度)。另外，如上所述，可以用其它可膨胀的或不可膨胀的由其它材料制成的密封系统改进示出的特殊实施例。为实现密封，对于密封材料的选择以及它的放置没有特别的限制。重要的特征是辐射源标准组件、密封和隔板标准组件(如果有的话)的组合一起工作来提供一个流体基本上不能透过的密封，从而限定了一个封闭流体处理系统，该系统具有一个基本上封闭的横截面区域并且至少一个辐射源的至少一部分放置于其中。优选利用一个促动器来实现流体基本上不能透过的密封，该促动器能够对相邻标准组件施加侧向力以建立密封。逆转促动器可以对一个或多个辐射源标准组件进行维护和/或将它们取出。另外，可以利用位于上游、下游或同时在上游和下游设置的堰、坝和闸以改进描述的实施例以优化流体处理区域上游和下游的流体流动，而该区域由本发明的流体处理系统所限定。另外，可以改进所描述的实施例使之包括斜面和/或台阶式的明渠表面，就象同时未决的国际专利申请S.N.PCT/CA01/00297所披露的那样，该申请于2001年3月12日提出。另外，可以改进本发明所描述的实施例使之在流体处理系统和/或辐射源标准组件的渠道壁上包括混合器或混合元件，这样的例子在下面的一些专利中有所描述，如美国专利5,846,437，6,015,229，6,126,841和6,224,759，以及2001年6月6日提出的国际专利申请S.N.PCT/CA01/00816。另外，可以通过在水力系中设有多系列的辐射源标准组件以改进所描述的实施例。另外，尽管示出的实施例描述了将这样一系列标准组件中的一个辐射源标准组件部分取出，本领域技术人员能够理解有时候可能和/或需要将这样一系列标准组件中的一个、一些或全部辐射源标准组件完全取出、拆除或更换。另外，尽管示出的实施例利用位于限制件上游和下游的坝或倾斜表面使流体通过，也可以只利用限制件上游侧或下游侧的坝和倾斜表面。当然，可以利用限制件上游和/或下游不同设计的坝或倾斜表面。因此可以想到所附权利要求将涵盖任何这样的改进或实施例。
对在这里所引入作为参考的公开、专利和专利申请的整体参考程度是对每个单独的公开、专利和专利申请引入时明确并且单独说明的整体参考程度。
权利要求
1.一种辐射源标准组件，它包括一个支撑件，一个与支撑件连接的辐射源组件，一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和与第一表面相邻的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。
2.如权利要求1所述的辐射源标准组件，其中支撑件放置在支架中。
3.如权利要求2所述的辐射源标准组件，其中支架包括与第一支撑件相对的第二支撑件，第一支撑件和第二支撑件支撑辐射源组件的相对两端。
4.如权利要求3所述的辐射源标准组件，其中支架包括第三支撑件，它使第一支撑件和第二支撑件互相连接。
5.如权利要求4所述的辐射源标准组件，其中密封件放置在第三支撑件的表面上。
6.如权利要求1所述的辐射源标准组件，其中一个电源放置在支架中。
7.如权利要求1所述的辐射源标准组件，进一步包括一个取出系统，用来相对于流体处理系统在应用位置和维护位置之间移动标准组件。
8.如权利要求1所述的辐射源标准组件，其中密封件包括可膨胀的密封件。
9.如权利要求1所述的辐射源标准组件，其中密封件包括可变形密封件。
10.一种流体处理系统，它包括一个承接流体流动的明渠，放置在明渠中的至少一个辐射源标准组件，至少一个辐射源标准组件的表面把要被处理的流体限制在封闭流体处理区域内，辐射源标准组件包括至少一个放置在流体处理区域中的辐射源组件。
11.如权利要求10所述的流体处理系统，其中辐射源组件安装在第一支撑件上。
12.如权利要求11所述的流体处理系统，其中支撑件放置在支架中。
13.如权利要求12所述的流体处理系统，其中支架包括与第一支撑件相对的第二支撑件，第一支撑件和第二支撑件支撑辐射源组件的相对两端。
14.如权利要求13所述的流体处理系统，其中支架包括第三支撑件，它使第一支撑件和第二支撑件互相连接。
15.如权利要求14所述的流体处理系统，进一步包括一个放置在第一支撑件、第二支撑件和第三支撑件中至少一个支撑件的表面上的密封件。
16.如权利要求15所述的流体处理系统，包括并排放置的多个辐射源标准组件。
17.如权利要求10所述的流体处理系统，其中一个电源放置在支架上。
18.如权利要求10所述的流体处理系统，进一步包括一个取出系统，用来相对于流体处理系统在应用位置和维护位置之间移动标准组件。
19.如权利要求10所述的流体处理系统，其中辐射源标准组件进一步包括一个阻隔板，当辐射源标准组件在取出位置时，它阻隔明渠。
20.如权利要求10所述的流体处理系统，其中密封件包括可膨胀的密封件。
21.如权利要求10所述的流体处理系统，其中密封件包括可变形密封件。
22.一种流体处理系统，它包括一个承接流体流动的明渠，一个可以在限定了封闭区域的第一位置和限定了开放区域的第二位置之间移动的限制件，至少一个放置在明渠中的辐射源标准组件，该辐射源标准组件具有至少一个辐射源元件，至少一部分辐射源元件放置在封闭区域内。
23.如权利要求22所述的流体处理系统，其中限制件可以在第一位置和第二位置之间绕枢轴移动。
24.如权利要求22所述的流体处理系统，其中限制件可以在第一位置和第二位置之间滑动地移动。
25.如权利要求22所述的流体处理系统，其中限制件和辐射源标准组件是一个整体。
26.如权利要求22所述的流体处理系统，其中辐射源元件包括一个基本上与明渠中流动方向平行设置的纵向轴线。
27.如权利要求22所述的流体处理系统，其中辐射源元件包括一个相对于明渠中流动方向横向设置的纵向轴线。
28.如权利要求25所述的流体处理系统，包括多个基本上彼此相邻放置的辐射源标准组件。
29.如权利要求28所述的流体处理系统，其中至少一个密封元件放置在多个辐射源标准组件中的相邻对之间。
30.如权利要求28所述的流体处理系统，进一步包括至少一个放置在多个辐射源标准组件中相邻对之间的隔板标准组件。
31.如权利要求30所述的流体处理系统，其中隔板标准组件包括放置在隔板标准组件上的第一密封件，第一密封件布置成在隔板标准组件和第一邻近辐射源标准组件之间提供密封。
32.如权利要求30所述的流体处理系统，其中隔板标准组件包括放置在隔板标准组件相对两侧上的第一密封件和第二密封件，第一密封件布置成在隔板标准组件和第一邻近辐射源标准组件之间提供密封，第二密封件布置成在隔板标准组件和第二邻近辐射源标准组件之间提供密封。
33.一种辐射源标准组件，它包括多个辐射源，每个辐射源(i)具有和相邻辐射源的同心纵向轴线大致平行排列的同心纵向轴线，和(ii)放置在与每个相邻辐射源离开预定距离的位置上并且在相邻辐射源的同心纵向轴线之间限定了预定的中心到中心的距离，辐射源标准组件进一步包括一个限制件，它具有一个放置在离开相邻辐射源一定距离的表面，这个距离是中心到中心距离的一个预定部分。
34.如权利要求33所述的辐射源标准组件，进一步包括一个支架，它具有支撑多个辐射源的第一端区域的第一支撑件。
35.如权利要求34所述的辐射源标准组件，其中支架包括至少支撑多个辐射源的第二端区域的第二支撑件。
36.如权利要求33所述的辐射源标准组件，其中第一支撑件包括一个第一延长件，它具有基本上与同心纵向轴线正交设置的第一纵向轴线。
37.如权利要求35所述的辐射源标准组件，其中第二支撑件包括一个第二延长件，它具有基本上与同心纵向轴线正交设置的第二纵向轴线。
38.如权利要求35所述的辐射源标准组件，进一步包括一个第三支撑件，它使得第一支撑件与第二支撑件相互连接。
39.如权利要求38所述的辐射源标准组件，其中限制件放置在第三支撑件中。
40.如权利要求33所述的辐射源标准组件，进一步包括一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件能够在第一表面和与第一表面邻近的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。
41.如权利要求40所述的辐射源标准组件，其中密封件放置在限制件上。
42.如权利要求38所述的辐射源标准组件，进一步包括一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件能够在第一表面和与第一表面邻近的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。
43.如权利要求40所述的辐射源标准组件，其中密封件放置在第一支撑件、第二支撑件、第三支撑件和限制件中的一个或多个上。
44.如权利要求34所述的辐射源标准组件，其中电源放置在支架中。
45.如权利要求33所述的辐射源标准组件，进一步包括一个取出系统，用来在相对于流体处理系统的应用位置和维护位置之间移动标准组件。
46.如权利要求43所述的辐射源标准组件，其中密封件包括可膨胀密封件。
47.如权利要求43所述的辐射源标准组件，其中密封件包括可变形密封件。
全文摘要
一种辐射源标准组件，它包括一个支撑件，一个与支撑件连接的辐射源组件，一个放置在标准组件第一表面上的密封件，密封件可以在第一表面和与第一表面相邻的第二表面之间提供流体基本上不能透过的密封。
文档编号C02F1/32GK1481337SQ01820582
公开日2004年3月10日 申请日期2001年12月14日 优先权日2000年12月15日
发明者乔治·A·特劳本贝格, 贾森·J·塞尔尼, 迈克·马尔库, 迈克尔·P·萨尔凯塞, 戴维·E·斯普劳勒, P 萨尔凯塞, E 斯普劳勒, J 塞尔尼, 乔治 A 特劳本贝格, 马尔库 申请人:特洛伊人技术公司