专利名称：超纯水制造系统及其运转方法
技术领域：
本发明涉及超纯水制造系统及其运转方法，特别涉及这样一种超纯水制造系统及其运转方法，其中在多个并列设置的各二次纯水制造系统中分别备有过滤器芯子的系统中，即使将过滤器芯子更换后也能向各使用场所供给水质稳定的超纯水。
背景技术：
图3表示已有的典型超纯水制造系统的一例。这种超纯水制造系统由用原水103制造纯水的一次纯水制造系统101，以及将这种纯水精制成超纯水的二次纯水制造系统102构成。这种一次纯水制造系统101中，例如利用前处理装置104除去工业用水等原水103中的一部分悬浮物质和有机物后，将这种处理水送入脱盐装置，例如二床三塔式脱盐装置105中。脱盐装置105是一种离子交换装置，除去前处理装置104的处理水中的杂质离子。在脱盐装置105的后段连接反渗透膜装置(RO装置)106，在RO装置106中可以除去经脱盐装置105除去了离子的处理水中的无机离子、有机物和微粒等杂质。RO装置106的后段连接真空脱气装置107，可以除去来自RO装置106的处理水中的溶解氧。在真空脱气装置107的后段与混合床式脱盐装置108相连，用混合床式脱盐装置108可以制造高纯度水，将其供给一次纯水罐109。上述RO装置106，也可以设置在一次纯水罐109之前，例如将图3中的RO装置106与混合床式脱盐装置108的位置互换配置。
二次纯水制造系统102，一般根据使用的超纯水的水质、使用场所和使用的水量设置若干系列。图3表示二次纯水制造系统102设置成两系列102a、102b的两系列的情况。
这种二次纯水制造系统102中，例如用紫外线氧化装置110a、110b对一次纯水罐109排出的纯水照射紫外线，纯水中的有机物或者即使是有机酸也能被氧化分解，同时进行杀菌。在此后段中，设有本身属于可以更换的混合床式离子装置的过滤器芯子111a、111b，可以捕捉除去被一次纯水制造系统101带入的极微量杂质和被紫外线氧化装置110a、110b分解生成的成份。在被捕捉的这些杂质成份达到饱和产生泄漏之前，必须定期更换各过滤器芯子。从过滤器芯子111a、111b排出的处理水，经装有超滤膜和精密过滤漠、反向渗透膜等的膜处理装置112a、112b除去微粒等，制成超纯水。将所制成的超纯水通过各供给管路113a、113b供给各使用场所114a、114b。
所供给的超纯水，被使用场所114a、114b使用时未被使用的剩余超纯水、未被使用场所114a、114b使用时供给的超纯水，经由返回管路115a、115b全部被送回一次纯水罐109，通常在由一次纯水罐109→紫外线氧化装置110a、110b→过滤器芯子111a、111b→膜处理装置112a、112b→供给管路113a、113b→返回管路115a、115b→一次纯水罐109构成的闭路内循环。之所以以此方式使超纯水循环，是因为例如使用场所114a、114b中的超纯水不使用时一旦停止运转，停止时水就会滞留在配管和构成系统的各单元中，使细菌产生增殖，离子成份和有机物数量虽然微少但是却能从管壁中溶出，往往使超纯水的水质变差，而且在停止和再次启动时的冲击下往往会从各单元中放出微粒或者促进溶出，此外即使在使用场所114a、114b使用超纯水的场合下，被送到使用场所114a、114b的超纯水一旦被全部使用，在返回管路115a、115b的配管中就会滞留超纯水，也会产生相当的细菌增殖作用，或者往往使离子成份等溶出。
针对上述那种一般的超纯水制造系统，有人在专利文献1中提出一种超纯水制造系统，这种系统由在二次纯水制造系统中使多个过滤器芯子为可以更换的离子交换装置，及对上述离子交换装置处理的处理水进一步处理的膜处理装置，及以上述膜处理装置的非透过水作为洗涤水分别选择性地通入其前段部分的上述各离子交换装置之中，将洗涤排水回收到一次纯水制造系统内的洗涤配管系统所构成。
专利文献1日本第15264/1994号发明专利申请公开公报(权利要求)发明内容然而，在上述那种传统超纯水制造装置中存在以下问题。
首先，对于图3所示的一般传统超纯水制造装置中，当更换过滤器芯子111a、111b中任何一个时都必须停止制造超纯水，此期间内不能使用超纯水，即使开始通水也必须用大量纯水洗涤除去初期更换的过滤器芯子内的离子交换树脂的初期溶出物和伴随更换操作的配管等中的污物，而且即使迅速进行更换操作，直到能够向使用场所供水之前也需要花费很长时间。也就是说，当更换后的过滤器芯子达到规定的性能之前必须进行洗涤和冲洗，即使一达到规定的性能后就立即向使用场所供水，由于洗涤制品，例如半导体制品的成品率也大多变差，所以决定经过充分时间后(例如一周至一个月)才向使用场所供水。
而且在上述专利文献1中提出了一种方案，该方案为了缩短过滤器芯子更换操作后纯水洗涤的时间，设计了一种能够互相更换过滤器芯子的离子交换装置，一边向各离子交换装置分别选择性地通水，向使用场所供水，一边洗涤过滤器芯子。但是这种方案必须加大洗涤用水部分和二次纯水制造规模，因而会造成设备设置面积的增大和能量成本的增加。
因此，本发明课题在于提供这样一种超纯水制造系统及其运转方法，即使其二次纯水制造系统中的过滤器芯子更换后也能向使用场所迅速供给水质稳定的超纯水，与已有的一般系统相比，设置面积和能量成本不会产生实质性增加。
为了解决上述课题，本发明涉及的超纯水制造系统，其中包括一次纯水制造系统及供给由上述一次纯水制造系统制造的纯水用的一次纯水罐，及至少备有能够更换的过滤器芯子、将上述一次纯水罐中的纯水精制成水质要求不同的多种超纯水的、互相并列设置的多个二次纯水制造系统，及向各使用场所供给由各二次纯水制造系统制造的超纯水用的超纯水供给管路，其中以使各过滤器芯子处理水的供给处可互相切换的方式，将对水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路与水质要求相对较低的低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路连续。
这种超纯水制造系统中，优选在各过滤器芯子出口管路与各超纯水供给管路之间设有膜处理装置，例如装有超滤膜和精密滤膜、反向渗透膜等构成的膜处理装置。
而且上述超纯水供给管路，优选与从上述使用场所将未使用的超纯水向上述一次纯水罐返送用的返回管路相连，关于从二次纯水制造系统至使用场所，优选能使未使用的超纯水进行通常循环的。
本发明涉及的超纯水制造系统的运转方法，其中包括利用至少备有可以更换的过滤器芯子的、水质要求不同的多个二次纯水制造系统，将由一次纯水制造系统制造、供给至一次纯水罐的纯水精制成超纯水，向各使用场所供给超纯水，其特征在于对水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子更换后，至经预先试验求出的处理性能稳定期间经过(例如后述实施例中的一周时间)之前，将上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，供给对水质要求相对较低的低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，同时将上述低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，供给上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，上述处理性能稳定期间经过后，恢复成通常供给；即将上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水供给到上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，将低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水供给到低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路。
这种超纯水制造系统的运转方法中，各过滤器芯子的处理水优选经过膜处理后，例如利用超滤膜和精密滤膜、反向渗透膜等处理后，供给各使用场所。
而且优选将各使用场所未使用的超纯水返送到上述一次纯水罐，对使用场所未使用的超纯水进行常时循环。
本发明涉及的超纯水制造系统及其运转方法，适用于制造电子部件材料，例如半导体制造使用的洗涤用水，更具体讲适用于晶片和芯片、各种电路基板、液晶基板等电子部件材料的制造使用的洗涤用水。
上述那种本发明涉及的超纯水制造系统及其运转方法，以并列设置水质要求各异的多个二次纯水制造系统作为前提，特别适用于对水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子进行更换的场合下。而且，此时由未被更换而残留的、对水质要求相对较低的低水质要求的二次纯水制造系统中的过滤器芯子处理的水质至此能够稳定加以利用，其结果即使将该处理水直接供给高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路也不会产生特别问题，能够保持水质优良。本发明正是着眼于这一点才得以完成的。
也就是说，高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子更换后，该过滤器芯子的处理水被供入低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，即，供入仅要求低水质超纯水的低纯水系统中，通过使此供给系统维持预定的处理性能稳定期间，该期间被更换的过滤器芯子就能在正常运转状态下被充分洗涤干净。而且，经未被更换而残留的、来自低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，虽然被供入高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，即被供入对水质要求更高的高纯水的制造系统，但是由于这种过滤器芯子的处理水至此维持在稳定而优良的水质下，所以如上所述，即使被高纯水系统回收也实质上不会产生任何问题，能够迅速而稳定地供给高纯水系统要求的水质的超纯水。这种管路切换的结果，更换上述过滤器芯子后，能够极为迅速地供给满足各使用场所要求的水质的超纯水。本发明中，由于仅在过滤器芯子出口一侧设置切换机构，所以系统全体的设置面积并未增大，而且能量成本也不增加。此外，洗涤更换的过滤器芯子的用水，可以直接供给低水质二次纯水制造系统，例如即使流过洗涤水的场合下也仅仅是该流过的水量，所以从这一角度来看设置面积和能量成本均不会增大。
上述预定处理性能稳定期间经过之后，可以将通常的处理系统，即高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，直接供给高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，将低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水直接供给低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，恢复到通常的供给系统。
综上所述，按照本发明涉及的超纯水制造系统及其运转方法，能够提供一种实用而容易实施的超纯水制造系统，这种系统装置结构既极为简单，又能将超纯水水质维持在高水平上，仅用更换过滤器芯子所需的最小必要停机时间就能使超纯水制造系统以稳定状态运转，不仅能极大的抑制通过水量，而且还能极为迅速地向使用场所供给预定的超纯水。而且由于系统的设置面积和能量成本也不会产生实质性增加。
图1是本发明的一种实施方式所涉及的超纯水制造系统的机械系统示意图。
图2是表示本发明的另一种实施方式所涉及的超纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路部分的机械系统示意图。
图3是现有的超纯水制造系统的机械系统示意图。
具体实施例方式
以下参照
本发明理想的实施方式。
图1表示本发明一种实施方式所涉及的超纯水制造系统。这种超纯水制造系统由用原水3制造纯水的一次纯水制造系统1，以及将此纯水精制成超纯水的二次纯水制造系统2构成。在此一次纯水制造系统1中，例如用前处理装置4除去工业用水等原水3中的一部分悬浮物质和有机物质，将这种处理水送入脱盐装置，例如二床三塔式脱盐装置5中。脱盐装置5是离子交换装置，可以除去前处理装置4的处理水中的杂质离子。脱盐装置5的后段与反向渗透膜装置(RO装置)6相连，利用RO装置6可以除去经脱盐装置5除去了离子的处理水中的无机离子、有机物、微粒等杂质。在RO装置6的后段，连接有真空脱气装置7，可以除去RO装置6排出的处理水中融解的氧。在真空脱气装置7的后段连接混合床式脱盐装置8，用混合床式脱盐装置8可以制造高纯度的纯水，将其供给一次纯水罐9。上述的RO装置6也可以配置在一次纯水罐9之前，例如图1中的RO装置6与混合床式脱盐装置8的位置也可以互换设置。
二次纯水制造系统2一般可以根据使用的超纯水的水质、使用场所和使用水量设置若干系列，本实施方式中表示二次纯水制造系统2被设置成A系列2a和B系列2b这两系列的情况。
这种二次纯水制造系统2中，例如用紫外线氧化装置10a、10b对一次纯水罐9排出的纯水照射紫外线，纯水中的有机物或者即使是有机酸也能被氧化分解，同时进行细菌的杀菌。在此后段，设有本身是可以更换的混合床式离子交换装置的过滤器芯子11a、11b，可以捕捉除去由一次纯水制造系统1带入的极微量杂质和被紫外线氧化装置10a、10b分解生成的成份。被捕捉的这些杂质成份达到饱和产生泄漏之前，必须定期更换各过滤器芯子11a、11b。从过滤器芯子11a、11b排出的处理水，可以用本实施方式中作为膜处理装置的超滤膜处理装置12a和作为膜处理装置的精密滤膜装置12b除去微粒等，精制成超纯水。所精制成的超纯水，经由供给管路13a、13b供给各使用场所14a、14b。
所供给的超纯水在使用场所14a、14b使用时未被使用的剩余超纯水，以及使用场所14a、14b不使用时所供给的全部超纯水，经由管路15a、15b被返送到一次纯水罐9中，常时在由一次纯水罐9→紫外线氧化装置10a、10b→过滤器芯子11a、11b→膜处理装置12a、12b→供给管路13a、13b→返回管路15a、15b→膜处理装置12a、12b→供给管路13a、13b→返回管路15a、15b→一次纯水罐9构成的闭路内循环。之所以这样使超纯水循环，是因为如上所述，为了防止因超纯水的滞留会引起细菌增殖，或者离子成份和有机物数量虽然微少但是却能从管壁中溶出使超纯水的水质变差，或者为了防止停止和再次启动时的冲击使微粒从各单元溶出或者促进溶出。
迄今说明的虽然是通常的运转路线，但是图3所示的现有结构实质上并未改变。本发明中，以使各过滤器芯子处理水的供给处可相互切换的方式，将水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子与水质要求相对较低的低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子连接。
也就是说，本实施方式中，二次纯水制造系统2由0.25微米级以下的LSI制造工序中需要纯度较高(高水质)超纯水的工序，例如从元件分离形成至门电极形成为止的工序中使用的A系列2a，以及对水质要求相对不高的工序，例如配线工序中使用的B系列2b构成。但是，超纯水流水线的划分并不限于上述的情况，例如对可靠性要求较高的DRAM的电容器工序，以及即使在配线工序中对于要求低接触阻抗的接触孔下部基板的洗涤，也都需要使用相对较高的高纯度的超纯水。
在过滤器芯子11a和过滤器芯子11b的处理水侧的配管，即，连接各过滤器芯子11a、11b与各膜处理装置12a、12b的过滤器芯子出口管路16a、16b上，分别设有分支部分，过滤器芯子11a的处理水也可以供给超滤膜装置12a和精密滤膜装置12b中任何一个膜处理装置，而且过滤器芯子11b的处理水也可以供给超滤膜装置12a和精密滤膜装置12b中任何一个膜处理装置。分别在过滤器芯子11a的出口管路16a上设有阀V1，在其分支管路17a上设有阀V3，在过滤器芯子11b的出口管路16b上设有阀V2，在其分支管路17b上设有阀V4，通过这些阀V1～V4的开关，能够将各过滤器芯子的处理水选择性地供给任何一个过滤器芯子的出口管路，或者进一步供给任何一个膜处理装置中。
通常运转时，打开阀V1关闭阀V3，在A系列2a中，将过滤器芯子11a排出的处理水供给超滤膜装置12a，制造高纯度超纯水，由使用场所14a例如作为LSI基板的洗涤用水等使用；而且在B系列2b的场合下，打开阀V2关闭阀V4，将过滤器芯子11b排出的处理水供给精密滤膜装置12b，制造一般超纯水，供使用场所14b使用。
A系列2a的过滤器芯子11a除去由一次纯水制造系统1带入的极微量杂质和在紫外线氧化装置10a中生成的成份，当被捕捉的这些杂质达到饱和之前，以一年一次的频度进行更换。
当A系列2a的过滤器芯子11a实施更换操作后，为了除去初期系统内的污物，使过滤器芯子的处理水流过数小时后(只有少量流过的水)，为了将处理水送到要求一般超纯水的使用场所14b，打开阀V3，同时关闭阀V1。这样，被更换的过滤器芯子11a的处理水，经过精密滤膜装置12b处理后，可以供给使用场所14b。为了同时向要求高纯度超纯水的使用场所14a供给超纯水，打开阀V4，关闭阀V2，将来自过滤器芯子11b的处理水供给超滤膜装置12a，过滤器芯子11b的处理水经超滤膜装置12a处理后，供给到使用场所14a。过滤器芯子11b由于未更换而一直使用，所以如上所述，即使供给到要求高纯度超纯水的系统也能稳定地供给足够高水质的超纯水，经过超滤膜装置12a处理，能够极为迅速地供给满足使用场所14a对水质要求的超纯水。
这样将对水质要求极高的过滤器芯子11a更换后，调查了更换本来应当供给来自过滤器芯子的处理水的系列，而供给超纯水时对使用场所中的洗涤部件的影响。表1表示向高纯度纯水系统(使用场所14a的系统)供给来自过滤器芯子11b的处理水进行洗涤时的在监测器用硅晶片上附着的金属的量(单位原子数目/平方厘米)和更换后通水的日数。此时，过滤器芯子11b使用了六个月。在此0日表示实施更换的当日。
表1
而且表2表示向一般纯水系统供给来自过滤器芯子11a的处理水期间，以及在该供给期间之后通过切换阀门向高纯度纯水系统供给来自过滤器芯子11a的处理水，在使用场所14a进行洗涤时，在监测器用硅晶片上附着的金属量(单位原子数目/平方厘米)和至此更换后通水的日数。其中0日表示将过滤器芯子11a更换后立即向高纯度纯水系统使用场所14a供给该处理水。
表2
正如表1表明的那样，更换高纯度超纯水系统A系列2a用的过滤器芯子11a时，即使向高纯度超纯水系统使用场所14a供给是一般超纯水系统B系列2b中的过滤器芯子11b的处理水，也没有发现在基板表面上附着的金属量增加，所以证明更换系列是控制金属附着量用的有效手段。从表2可以看出，本试验例中，将处理性能稳定期间定位一周以上通水后的过滤器芯子11a返回到通常处理系统中使用时，没有发现在基板表面上附着的金属量增加，所以说明系列的更换期间至少定为一周是适当的。但是这种处理稳定期间，也优选根据采用本发明的系统，通过试验事先求出最佳期间，而且该最佳值将会随系统而变。
此外，采用与上述同样的试验，研究了TOC(有机物碳总量)。也就是说，起因物质虽然尚未查明，但是却发现使用更换过滤器芯子后的超纯水制造半导体等部件时，成品率往往变差，而且直至过滤器芯子更换后超纯水中的TOC达到稳定之前，需要一段通水时间。
更换过滤器芯子后，调查了将本来应供给过滤器芯子的系列替换，供给超纯水时，使用场所供给水中的TOC。表3表示向高纯度纯水系统(使用场所14a的系统)供给来自过滤器芯子11b的处理水时，洗涤水中的TOC浓度和更换后通水的日数。此时过滤器芯子11b使用了六个月。其中0日表示更换的当日。
表3
表3表示向一般纯水系统供给来自过滤器芯子11a的处理水期间，以及在该期间后，通过切换阀门，向高纯度纯水系统供给来自过滤器芯子11a的处理水，在使用场所14a进行洗涤时的洗涤水中的TOC浓度，以及至此更换后通水的日数。其中0日表示更换过滤器芯子11a后立即向高纯度纯水系统使用场所14a供给该处理水。
表4
正如表4说明的那样，更换高纯度超纯水系统A系列2a用过滤器芯子11a时，即使向高纯度超纯水系统使用场所14a供给是一般超纯水系统B系列2b的过滤器芯子11b的处理水，也没有发现洗涤水中TOC浓度增加，所以证明更换系列是稳定地在低水平下控制TOC的有效手段。从表4可以看出，本试验例中，通过将处理性能稳定期间定为一周以上通水后的过滤器芯子11a返回到通常处理系统中使用，没有发现洗涤水中TOC浓度增加，所以说明系列的更换期间至少定为一周是适当的。但是这种处理稳定期间也优选根据采用本发明的系统，通过试验事先求出最佳期间，而且该最佳值将会随系统而变。
此外对于上述实施方式而言，二次纯水制造系统虽然是就二系列2a、2b的情况进行说明的，但是本发明中也可以并列设置三个以上系列。在并列设置三系列以上的场合下、更换对水质要求相对较高系统中的过滤器芯子的场合下在与对水质要求相对较低系统中的过滤器芯子之间，可以切换处理水出口管路。例如，正如图2所表示的三系统场合下过滤器芯子的出口管路部分那样，相对并列设置的过滤器芯子21a、21b和21c(依次从高纯度至低纯度的系统)的各出口管路22a、22b和22c，分别设置支管路23a、23b、23c和23d，以及阀门V11、V12、V13、V14、V15、V16和V17，可以在更换过滤器芯子21a的情况下，在出口管路22a与出口管路22b之间，在更换过滤器芯子21b的情况下，在出口管路22b与出口管路22c之间，分别切换供给处。
权利要求
1.一种超纯水制造系统，其包括一次纯水制造系统，供给由该一次纯水制造系统制造的纯水的一次纯水罐，至少备有可以更换的过滤器芯子、将上述一次纯水罐中的纯水精制成水质要求不同的多种超纯水的、互相并列设置的多个二次纯水制造系统，以及向各使用场所供给由各二次纯水制造系统制造的超纯水的超纯水供给管路，其特征在于，以使各过滤器芯子处理水的供给处可互相切换的方式，将水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路和水质要求相对较低的低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路连续。
2.按照权利要求1所述的超纯水制造系统，其在各过滤器芯子出口管路与各超纯水供给管路之间设有膜处理装置。
3.按照权利要求1或2所述的超纯水制造系统，上述超纯水供给管路与从上述使用场所将未使用的超纯水返送到上述一次纯水罐的返回管路相连。
4.按照权利要求1～3中任何一项所述的超纯水制造系统，其以电子部件材料的洗涤水制造系统的形式构成。
5.一种超纯水制造系统的运转方法，其包括利用至少备有可以更换的过滤器芯子的、水质要求不同的多个二次纯水制造系统，将由一次纯水制造系统制造、供给到一次纯水罐的纯水精制成超纯水后，向各使用场所供给，其特征在于更换对水质要求相对较高的高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子后，直至预先经试验求出的处理性能稳定期间经过之前，将上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，供给到对水质要求相对较低的低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，同时将上述低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水，供给到上述高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，上述处理性能稳定期间经过后，恢复成通常供给，即将高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水供给到高水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路，将低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的处理水供给到低水质二次纯水制造系统中的过滤器芯子的出口管路。
6.按照权利要求5所述的超纯水制造系统的运转方法，其中各过滤器芯子的处理水经过膜处理后供给到各使用场所。
7.按照权利要求5或6所述的超纯水制造系统的运转方法，其中将在各使用场所未使用的超纯水返送到上述一次纯水罐。
8.按照权利要求5～7中任何一项所述的超纯水制造系统的运转方法，其制造电子部件材料的洗涤水。
全文摘要
本发明涉及在具有备有可更换的过滤器芯子的多个二次纯水制造系统的超纯水制造系统中，将高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路与低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路连接，并使各过滤器芯子处理水的供给处可相互切换的超纯水制造系统；以及更换高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子后，至经预先试验求出的处理性能稳定期间经过前，将该高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子的处理水供给至低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子出口管路，同时将该低水质二次纯水制造系统的过滤器芯子的处理水，供给至高水质二次纯水制造系统的过滤器芯子的出口管路，处理性能稳定期间经过后，恢复成通常供给的超纯水制造系统的运转方法。
文档编号C02F1/42GK1526649SQ20031011575
公开日2004年9月8日 申请日期2003年11月28日 优先权日2003年3月4日
发明者川田和彦, 高桥健二, 长舟平, 荒木修, 宫本吉夫, 宫田一博, 二, 博, 夫 申请人:奥加诺株式会社, 株式会社瑞萨科技