专利名称：一种适合间歇排水的紫外线消毒系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种适合间歇排水的紫外线消毒系统，主要应用于采用cass、 cast等间歇型排水的污水处理工艺的消毒。
技术背景目前，紫外线消毒系统已广泛应用于污水处理的消毒，紫外线消毒系统有一个特 点就是不宜频繁地开停，紫外灯不能长时间的露出水面。对于连续排水消毒来说，因为消毒 渠道中水位基本恒定，紫外灯也不会露出水面，紫外线消毒系统可以很好的适应，可以连续 运行，不用频繁开停。但对于cass、cast等间歇排水的污水处理工艺，目前的紫外线消毒 系统通常靠水位控制装置在污水处理构筑物暂停排水时关闭间门或堰门，以使消毒渠道中 保持一定水位的水，使紫外灯不致露出水面，不必关停紫外灯。但关闭间门或堰门时，消毒 渠内会发生水来回荡的问题，荡水会使最上层的紫外灯露出水面，采用固定堰控制水位也 同样存在这个问题，因此目前广泛应用的紫外线消毒系统不能适应间歇排水的污水处理工 艺。
发明内容为了解决目前的紫外线消毒系统不能适应间歇排水的污水处理工艺的问题，本实 用新型提供一种新的紫外线消毒系统，它能很好地适应间歇排水的污水处理工艺，在排水 间隔时间内不必关停紫外灯，不会发生最上排紫外灯露出水面的情况。本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是在紫外线消毒系统中增加一个 防荡水装置，循水流方向，防荡水装置位于紫外线消毒装置前端，水位控制装置位于紫外线 消毒装置后端；防荡水装置在排水时，在水流流动作用下自然开启，水流顺利通过防荡水装 置后进入紫外线消毒装置消毒，然后通过水位控制装置排出。当暂停排水时，水位控制装置 停止通水，防荡水装置自动关闭，阻止水渠中水位回荡，这样消毒渠中的水面波动就很小， 紫外线消毒装置中的最上层紫外灯管不致露出水面，这种紫外线消毒系统就能适应间歇排 水的消毒。为了布水均勻和截流杂物，可在防荡水装置前端增加整流格栅。
以下结合附图和实例对本实用新型进一步说明。图1是本实用新型的基本构成图图2是本实用新型另一基本构成图图1中1、防荡水装置，2、紫外线消毒装置，3、水位控制装置。图2中1、防荡水装置，2、紫外线消毒装置，3、水位控制装置，4、整流格栅。
具体实施方式
在图1中，防荡水装置(1)位于紫外线消毒装置(2)的前端，水位控制装置(3)位于紫外线消毒装置(2)的后端。 在图2中，整流格栅(4)位于防荡水装置(1)之前，防荡水装置(1)之后是紫外线 消毒装置(2)，紫外线消毒装置(2)之后是水位控制装置(3)。
权利要求一种适合间歇排水的紫外线消毒系统，主要由防荡水装置、紫外线消毒装置和水位控制装置组成，其特征在于防荡水装置位于紫外线消毒装置之前，水位控制装置位于紫外线消毒装置之后。
2.根据权利要求1所述的一种适合间歇排水的紫外线消毒系统，其特征在于可以在防 荡水装置之前增加整流格栅。
专利摘要一种适合间歇排水的紫外线消毒系统，它主要由防荡水装置、紫外线消毒装置和水位控制装置构成，待消毒水通过防荡水装置进入到紫外线消毒装置被消毒灭菌，然后通过水位控制装置后排放，当停水时，水位控制装置自动停止排水，消毒渠中的水由于惯性等作用，会产生来回荡动，防荡水装置自动启动，防止消毒渠中荡出，从而保证消毒渠中的水维持在水位控制装置控制的液位，紫外灯管不会露出水面，因而不需要在短暂停水期间关停紫外灯，这种工艺能很好的适应cass、cast工艺等属于间歇排水工艺的污水处理的消毒。
文档编号C02F1/32GK201746357SQ201020289308
公开日2011年2月16日 申请日期2010年8月12日 优先权日2010年8月12日
发明者王宇 申请人:王宇