一种硅片加工废水用天然净化滤料的制作方法

文档序号:11927078阅读:199来源:国知局

本发明涉及硅材料加工技术领域,具体涉及一种硅片加工废水用天然净化滤料。



背景技术:

硅材料,是重要的半导体材料,化学元素符号Si,电子工业上使用的硅应具有高纯度和优良的电学和机械等性能,硅是产量最大、应用最广的半导体材料,它的产量和用量标志着一个国家的电子工业水平,单晶硅在太阳能电池中的应用,高纯的单晶硅是重要的半导体材料。在光伏技术和微小型半导体逆变器技术飞速发展的今天,利用硅单晶所生产的太阳能电池可以直接把太阳能转化为光能,实现了迈向绿色能源革命的开始。

硅片是硅材料存在的一种物理形式,在正常的应用中,硅片,是制作集成电路的重要材料,通过对硅片进行光刻、离子注入等手段,可以制成各种半导体器件。用硅片制成的芯片有着惊人的运算能力,科学技术的发展不断推动着半导体的发展,自动化和计算机等技术发展,使硅片这种高技术产品的造价已降到十分低廉的程度,然而硅片在加工时,不同的工艺节点都会使得硅片加工出现瑕疵。

硅片一般都是通过相应的硅碇进行切片而成,由于在切割时,应用大量的切削液,并且还会使用一些污染性的化学试剂,进行辅助,因此硅片在切割后,必须要进行相应的清洗,才能保证硅片的洁净,从而保证其相应的物理性能,因此硅片清洗时硅片加工中,不可或缺的一项步骤,因此硅片加工企业会存在大量的加工废水,此类废水如果直接排放,势必会造成环境污染因此必须经过相应的处理后,才能进行排放,针对于硅片切割产生的废水在处理时,效果并不显著,并且废水处理的成本也很高很难获得大部分企业的青睐。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题在于提供一种配方合理,净化彻底,成本低下,使用效果明显的硅片加工废水用天然净化滤料。

本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:

一种硅片加工废水用天然净化滤料,其特征在于,由以下重量份的原料制成:

火山岩6-8份、方解石3-5份、菱镁矿石5-7份、电气石2-4份、盐酸15-25份、白云母2-4份、钠云母2-4份、硫化镉5-7份、石英石5-7份、滑石粉2-4份、锰砂5-7份、海绵铁8-10份、椰壳活性炭6-8份、果壳活性炭5-7份、改性纤维6-8份、木质纤维素35-45份;

各原料的优选分量为:

火山岩7份、方解石4份、菱镁矿石6份、电气石3份、盐酸20份、白云母3份、钠云母3份、硫化镉6份、石英石6份、滑石粉3份、锰砂6份、海绵铁9份、椰壳活性炭7份、果壳活性炭6份、改性纤维7份、木质纤维素40份;

所述的改性纤维制备方法为:选取枯草芽孢杆菌、蜡状芽孢杆菌、酵母菌并将其按照1:2:3的质量比进行配置,然后得到复合菌剂,再将复合菌剂与水按照1:400的比列既可以得到复合胶液,取棉麻纤维加入复合胶液内进行浸泡25-35min后,取出晒干即可;

上述净化滤料的制备方法为:

将上述所有原料,全部加入球磨机中,然后将所有原料加入其中,加热至60-80℃后,进行球磨,直至颗粒细度为0.2-0.3mm后,冷却出料,即可得到。

本品在使用时,按照每立方污水采用本品0.5公斤,直接撒入水体中,加以搅拌后,再静置30-40min后,过滤后,水即可直接排放。

本发明的有益效果为:本发明采用的原材料丰富廉价,制作工艺简便,适用于硅片切割废水水体除污,对水体中的有机有害物、重金属具有较强的吸附絮凝和沉淀,造价成本低,便于大批量使用,便于推广及使用。

具体实施方式

为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。

实施例1

称取:火山岩6kg、方解石3kg、菱镁矿石5kg、电气石2kg、盐酸15kg、白云母2kg、钠云母2kg、硫化镉5kg、石英石5kg、滑石粉2kg、锰砂5kg、海绵铁8kg、椰壳活性炭6kg、果壳活性炭5kg、改性纤维6kg、木质纤维素35kg。

实施例2

称取:火山岩7kg、方解石4kg、菱镁矿石6kg、电气石3kg、盐酸20kg、白云母3kg、钠云母3kg、硫化镉6kg、石英石6kg、滑石粉3kg、锰砂6kg、海绵铁9kg、椰壳活性炭7kg、果壳活性炭6kg、改性纤维7kg、木质纤维素40kg。

制备上述实施例1或2的方法为:

将上述所有原料,全部加入球磨机中,然后将所有原料加入其中,加热至60-80℃后,进行球磨,直至颗粒细度为0.2-0.3mm后,冷却出料,即可得到。

本品在使用时,按照每立方污水采用本品0.5公斤,直接撒入水体中,加以搅拌后,再静置30-40min后,过滤后,水即可直接排放。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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