一种石英坩埚清洗装置的制作方法

文档序号:15198049发布日期:2018-08-19 01:44阅读:113来源:国知局

本发明涉及石英坩埚领域,具体涉及一种石英坩埚清洗装置。



背景技术:

石英坩埚,具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点,应用越来越广泛。石英坩埚在制作过程中需要经过成型、切削、清洗、烘干等步骤。清洗时需要专门的清洗设备,并且为了清洗方便,石英坩埚可能还需要进行转动等操作,现有的清洗设备有时对坩埚的转动操作不够稳定。



技术实现要素:

发明目的:本发明旨在克服现有技术的缺陷,提供一种石英坩埚清洗装置。

技术方案:一种石英坩埚清洗装置,包括箱体和位于箱体上方的罩部,所述罩部具有活动门,所述箱体上表面安装有基板,所述罩部内具有上圆环板、下圆环板、上l型臂和下l型臂,所述上l型臂安装在罩部顶部,所述下l型臂安装在液压缸的自由端上,所述液压缸安装在基板上,所述下圆环板上具有圆形导轨,所述上圆环板下表面具有与所述圆形导轨啮合的圆环形凹槽,使得所述上圆环板能够在所述下圆环板上转动,所述上圆环板用于放置石英坩埚,所述基板上还安装有电机,所述电机轴上具有驱动所述上圆环板转动的摩擦辊;所述上l型臂的两个臂上均具有喷嘴,所述下l型臂的两个臂上均具有喷嘴;所述箱体内具有储液部和液体泵,每个喷嘴均与储液部连接。

进一步地,所述罩部为透明的罩部。

进一步地,所述活动门与所述罩部滑动连接。

进一步地,所述上l型臂的每个臂的喷嘴数量均大于等于3个,所述下l型臂的每个臂的喷嘴数量均大于等于3个。

进一步地,所述上圆环板的上表面具有多圈同心的凸起。

进一步地,所述上圆环板的上表面同心的凸起的圈数大于等于三圈。

有益效果:本发明的清洗装置,清洗过程中坩埚转动,并且由于多圈凸起的限位,坩埚放置稳定,能够对坩埚的内、外壁都进行全面的清洗。

附图说明

图1为清洗装置示意图;

图2为上圆环板上表面示意图。

具体实施方式

附图标记:1箱体;2罩部;3活动门;4上l型臂;5下l型臂;6上圆环形板;6.1环形凹槽;6.2圆环形凸起;7下圆环形板;7.1圆形导轨;8基板;9下圆环板支架;10上l型臂支架;11电机;12摩擦辊;13液压缸;4.1、5.1喷嘴;20坩埚;1.1储液部;1.2液体泵。

一种石英坩埚清洗装置,其特征在于,包括箱体1和位于箱体1上方的罩部2,所述罩部具有活动门,所述箱体上表面安装有基板8,所述罩部2内具有上圆环板6、下圆环板7、上l型臂4和下l型臂5,所述上l型臂4通过上l型臂支架10安装在罩部顶部2,所述下l型臂5安装在液压缸13的自由端上,所述液压缸13安装在基板8上,所述下圆环板7通过下圆环板支架9固定在所述基板8上,所述下圆环板7上具有圆形导轨7.1,所述上圆环板6下表面具有与所述圆形导轨7.1啮合的圆环形凹槽6.1,使得所述上圆环板6能够在所述下圆环板7上转动,所述上圆环板6用于放置石英坩埚20,所述基板8上还安装有电机11,所述电机轴上具有驱动所述上圆环板6转动的摩擦辊12;所述上l型臂4的两个臂上均具有喷嘴,所述下l型臂5的两个臂上均具有喷嘴;所述箱体1内具有储液部1.1和液体泵1.2,每个喷嘴均与储液部1.1连接。所述罩部2为透明的罩部2。述活动门3与所述罩部2滑动连接。所述上l型臂4的每个臂的喷嘴数量均大于等于3个,所述下l型臂5的每个臂的喷嘴数量均大于等于3个。所述上圆环板6的上表面具有多圈同心的凸起6.2。所述上圆环板的上表面同心的凸起6.2的圈数大于等于三圈。储液箱连接主管路、主管路上设置液体泵,每个喷嘴通过一个支管路连接所述主管路。箱体上表面还设置有废液收集孔,废液收集孔通过收集管路连接废液容器。

本发明的清洗装置,坩埚放置在上圆环形板上,由于多圈同心凸起,对坩埚起到限位作用,坩埚放置稳定,并且多圈凸起使得上圆环板可以用于放置不同口径的坩埚。下l型臂可以上下移动,用于对坩埚内壁进行清洗;所述上l型臂用于对坩埚外壁进行清洗,一边转动坩埚,一边清洗,对坩埚清洗更加全面。

尽管本发明就优选实施方式进行了示意和描述,但本领域的技术人员应当理解,只要不超出本发明的权利要求所限定的范围,可以对本发明进行各种变化和修改。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种石英坩埚清洗装置,包括箱体和位于箱体上方的罩部,罩部具有活动门,箱体上表面安装有基板,罩部内具有上圆环板、下圆环板、上L型臂和下L型臂,上L型臂安装在罩部顶部,下L型臂安装在液压缸的自由端上,液压缸安装在基板上,下圆环板固定在基板上,下圆环板上具有圆形导轨,上圆环板下表面具有与圆形导轨啮合的圆环形凹槽,基板上还安装有电机,电机轴上具有驱动所述上圆环板转动的摩擦辊;上L型臂的两个臂上均具有喷嘴,下L型臂的两个臂上均具有喷嘴;箱体内具有储液部和液体泵,每个喷嘴均与储液部连接。本发明的清洗装置清洗全面,且坩埚放置稳定。

技术研发人员:刘福鸿;陈宝昌
受保护的技术使用者:江苏华尔石英材料股份有限公司
技术研发日:2017.02.09
技术公布日:2018.08.17
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