本发明属于水治理技术领域，尤其涉及一种水体治理方法。
背景技术：
随着水资源短缺问题不断加重，水体污染问题越来越受到人们重视。水体污染严重影响工业生产，甚至破坏生态，危害人类生存环境。治理主要采用物理方法和化学方法对污水中的颗粒杂质和化学污染成分进行去除，使其达到正常排放要求。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种水体治理方法。
为实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
一种水体治理方法，包括如下步骤：
1)水体进入第一沉淀池；
2)自第一沉淀池进入混凝池，混凝剂自混凝池底部进入混凝池并与水体混合；在混凝剂混合过程中同时进行曝气；
3)自混凝池进入第二沉淀池；
4)自第二沉淀池沉淀处理后，将水体通入臭氧气水接触设备中。
优选的，所述第一沉淀池为平流式沉淀池，所述第二沉淀池为斜板沉淀池。
优选的，臭氧处理过程中，含有臭氧和空气的混合气体在气水接触器中对水体进行氧化。
优选的，加入混凝剂的同时使用搅拌设备对水体进行搅拌。
优选的，水体自第二沉淀池进入集水池，对集水池内进行定点采样，分析水体处理是否达标，并根据分析结构将集水池内水体排入水渠或回流至混凝池或第二沉淀池或臭氧处理工序中的水汽接触设备中。
优选的，水气接触设备中，臭氧在水中的浓度保持在0.2-0.6mg/l。
优选的，混凝池底部设置有混凝剂注入管路1，所述混凝池内设置有搅拌器，所述搅拌器上设置有曝气管路。
优选的，搅拌器包括与混凝池池壁固定的支架，搅拌器的搅拌轴通过轴承座与支架相连，所述搅拌轴为中空结构，搅拌轴上设置有多个与搅拌轴内部相通的支管，支管垂直于搅拌轴，搅拌轴下口通过密封盖密封，搅拌轴的上口通过旋转接头与曝气管路相连，所述旋转结构的活动部通过皮带与驱动电机的驱动轮相连。
优选的，支管的侧壁上设置有多个开口朝下的喷头。
优选的，支管上焊接有搅拌叶
本发明的一种水体治理方法通过对水体进行多工艺联合处理，除去水体内的污染物，恢复水体健康度。
附图说明
图1是本发明混凝池的结构示意图；
图2是本发明搅拌器的结构示意图；
在附图中，1混凝剂注入管路、2搅拌器、21搅拌轴、22旋转接头、23曝气管路、24皮带轮、25进水口、26出水口、27搅拌叶、28驱动电机。
具体实施方式
以下结合附图1至2给出的实施例，进一步说明本发明的具体实施方式。本发明不限于以下实施例的描述。
一种水体治理方法，主要用于处理含淤泥等颗粒杂质物较多的水体，其主要包括如下步骤：将水体通入第一沉淀池，第一沉淀池为平流式沉淀池；经第一沉淀池沉淀，将初沉之后的水体通入混凝池，在混凝池内向水体中加入混凝剂，为了提高混凝剂与水体的混合效率与混合均匀度，将混凝剂自混凝池底部进入混凝池并与水体混合；在混凝剂混合过程中同时进行曝气，使用进行曝气处理，进一步提高混凝效率；在某些实施地区，某些特定月份季节，雾霾严重，进行曝气前，将空气进行过滤，防止造成二次污染；混凝后，将水体通入第二沉淀池，进行进一步沉淀，第二沉淀池为斜板沉淀池。经第二沉淀池沉淀处理后，将水体通入臭氧气水接触设备中，将水体与臭氧接触。
优选的，臭氧处理过程中，含有臭氧和空气的混合气体在气水接触器中对水体进行氧化。
优选的，加入混凝剂的同时使用搅拌设备对水体进行搅拌。
优选的，在一些实施例中，水体自第二沉淀池进入集水池，对集水池内进行定点采样，分析水体处理是否达标，并根据分析结构将集水池内水体排入水渠或回流至混凝池或第二沉淀池或臭氧处理工序中的水汽接触设备中。
优选的，水气接触设备中，臭氧在水中的浓度保持在0.2-0.6mg/l。
在一些实施例中，为了进一步提高操作效率，对混凝池进行优化，混凝池带有进水口25和出水口26，混凝池底部设置有混凝剂注入管路1，所述混凝池内设置有搅拌器2，所述搅拌器2上设置有曝气管路23。
优选的，搅拌器2包括与混凝池池壁固定的支架，搅拌器2的搅拌轴21通过轴承座与支架相连，所述搅拌轴21为中空结构，搅拌轴21上设置有多个与搅拌轴21内部相通的支管，支管垂直于搅拌轴21，搅拌轴21下口通过密封盖密封，搅拌轴21的上口通过旋转接头22与曝气管路23相连，所述旋转接头22的活动部通过皮带与驱动电机28的驱动轮相连。在旋转接头22下方焊接有皮带轮24，搅拌轴21穿过皮带轮24的轴孔。通过驱动电机28带动旋转接头22的旋转部，从而带动搅拌轴21，在此过程中旋转接头22的固定部与曝气管路23保持连接。
优选的，支管的侧壁上设置有多个开口朝下的喷头，支管上焊接有搅拌叶27。搅拌叶27的宽度逐层递增，即位于上方的支管上的搅拌叶27的宽度大于下方支管搅拌叶的宽度，宽度越大造成的紊流越大，有助于混凝剂由池底向上扩散混合。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。