本发明涉及向沿着搬运路径搬运的带状的被处理体的一面照射紫外线而进行光清洗的光照射装置。
背景技术：
作为半导体或液晶等的制造工序中的抗蚀剂的光灰化处理、纳米压印装置中的模板的图案面上附着的抗蚀剂的除去、或液晶用的玻璃基板、硅晶圆等的干洗处理、卷绕于辊的片状的膜的贴合面的清洗处理，已知有照射紫外线的光清洗(干洗)方法。
作为用于进行这样的光清洗的光照射装置，例如专利文献1公开了如下的技术：向玻璃基板照射真空紫外线，利用该真空紫外线及由该真空紫外线产生的活性氧的清洗作用来除去玻璃基板的表面的污染物。
图18是示意性地表示以往的光照射装置的一例的、被处理体的搬运方向的剖视图，图19是图18的光照射装置的、被处理体的宽度方向的剖视图，图20是示意性地说明图18的光照射装置的主要部分的立体图。
该光照射装置沿着搬运路径从上游侧(在图18中为右侧)的搬入口58搬入被处理体w，在照射紫外线的处理区域向被处理体w的一面(在图18中为上表面)照射了来自放电灯51的紫外线之后，从搬出口59搬出。
真空紫外线具有被大气中的氧吸收而较大地衰减的性质，以往，在这样的光照射装置中，从外部向配置有放电灯51的灯罩52内供给氮气等惰性气体，除去放电灯51与被处理体之间的紫外线放射空间内的清洗所需的量以上的过剩的氧来抑制真空紫外线的衰减。需要说明的是，已知当在氧浓度极低的气氛下照射真空紫外线时，臭氧的产生量极少，因此基于臭氧的被处理体的表面的活性化作用不起作用，光清洗的效果反而会下降。惰性气体例如从在被处理体w的一面侧(在图18中为上表面侧)设置的灯罩52内的放电灯51的背面侧(在图18中为上表面侧)设置的气体供给管56的气体供给口喷出，将灯罩52内的尤其是紫外线放射空间置换成惰性气体气氛之后，主要从在被处理体w的其他面侧(在图18中为下表面侧)设置的排气空间形成构件53的气体排出口57排出。
需要说明的是，在图18中，55是具有排气部55a的副腔室。
【在先技术文献】
【专利文献】
【专利文献1】日本特开2010-75888号公报
【发明要解决的课题】
在光照射装置中，被处理体基本上为带状的结构，具体而言板状的结构、片状的膜等各种形状或材质的结构成为光清洗的处理对象。而且，被处理体的向处理区域的搬运速度，例如使片状的膜流动的速度根据被处理体的形状或材质、表面状态等来决定，因此对于每个被处理体而不同。
并且，伴随着被处理体被搬运而向处理区域的周围(紫外线放射空间)引入的空气的量依赖于被处理体的搬运速度，因此对于每个被处理体而紫外线放射空间内的氧浓度产生不均，其结果是，产生无法稳定地得到所期望的光清洗效果这样的问题。
技术实现要素：
本发明基于以上那样的情况而作出，其目的在于提供一种无论被处理体的搬运速度如何都能够以高稳定性进行光清洗的光照射装置。
【用于解决课题的方案】
本发明的光照射装置向沿着搬运路径搬运的带状的被处理体的一面照射紫外线，其特征在于，具备：
灯罩，沿着搬运路径上的被处理体的一面侧的通过平面具有开口；
紫外线灯，设置在所述灯罩内，沿所述被处理体的宽度方向延伸；
气体供给单元，向所述灯罩内供给惰性气体；及
排气空间形成构件，沿着所述搬运路径上的被处理体的其他面侧的通过平面具有开口，
在所述灯罩的开口设置有遮蔽体，所述遮蔽体在所述遮蔽体与所述被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路。
在本发明的光照射装置中，可以构成为，所述遮蔽体的在被处理体的搬运方向上延伸的侧缘部设置成覆盖所述被处理体的侧缘部的其他面的状态。
在本发明的光照射装置中，优选的是，所述遮蔽体设置成在被处理体的搬运方向上延伸的侧缘部能够在被处理体的宽度方向上位移。
【发明效果】
本发明的光照射装置在灯罩的开口设有遮蔽体，该遮蔽体在其与被处理体的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路。并且，通过形成气体流通阻力用隘路来阻碍灯罩内的空间与排气空间形成构件内的空间之间的自由的气体的流通而气体的流通阻力增大，由此能提高灯罩内的密闭性。因此，无论基于被处理体的种类及形状而决定的搬运速度如何，都能够通过比以往少量的惰性气体稳定地降低紫外线放射空间内的氧浓度，其结果是，能够抑制紫外线放射空间内的氧浓度产生不均的情况，由此，稳定地抑制紫外线放射空间的紫外线的衰减，并且成为臭氧源的氧作为附着于被处理体的空气，伴随着该被处理体的搬运而稳定地供给少量，因此结果是能够以高稳定性进行光清洗。
附图说明
图1是示意性地表示本发明的光照射装置的一例的、被处理体的搬运方向的剖视图。
图2是图1的光照射装置的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图3是示意性地说明图1的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图4是示意性地表示本发明的光照射装置的另一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图5是示意性地表示本发明的光照射装置的又一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图6是示意性地说明图5的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图7是示意性地表示本发明的光照射装置的再一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图8是示意性地说明图7的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图9是示意性地表示本发明的光照射装置的进而再一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图10是示意性地说明图9的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图11是示意性地表示本发明的光照射装置的进而再一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图12是示意性地说明图11的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图13是示意性地表示本发明的光照射装置的进而再一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图14是示意性地说明图13的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图15是示意性地表示本发明的光照射装置的进而再一例的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图16是示意性地说明图15的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
图17是表示实施例及比较例的被处理体的表面的氧浓度的坐标图。
图18是示意性地表示以往的光照射装置的一例的、被处理体的搬运方向的剖视图。
图19是图18的光照射装置的、被处理体的宽度方向的剖视图。
图20是示意性地说明图18的光照射装置的主要部分的立体图。
【标号说明】
10处理腔室
11紫外线灯
12灯罩
12a、12b、12c框部
12h开口
13排气空间形成构件
13h开口
15h开口
16气体供给管
17气体排出口
18搬入口
19搬出口
21、22副腔室
21a、21b、22a、22b排气部
24、25、26、27、28遮蔽构件
24a、25a基端部
24b、25b前端部
28h长孔
29螺钉
30遮风体
51放电灯
52灯罩
53排气空间形成构件
55副腔室
55a排气部
56气体供给管
57气体排出口
58搬入口
59搬出口
g、gx气体流通阻力用隘路
w被处理体
wh孔
具体实施方式
以下，说明本发明的实施方式。
图1是示意性地表示本发明的光照射装置的一例的、被处理体的搬运方向的剖视图，图2是图1的光照射装置的、被处理体的宽度方向的剖视图，图3是示意性地说明图1的光照射装置的主要部分的从排气空间侧观察到的立体图。
本发明的光照射装置对于从处理腔室10的上游侧(在图1中为右侧)的搬入口18沿着搬运路径搬运的带状的被处理体w的一面(在图1中为上表面)，在来自紫外线灯11的紫外线所照射的处理区域中照射紫外线而进行光清洗。
作为在该光照射装置中被进行光清洗的带状的被处理体(工件)w，可列举玻璃基板、印制基板等板状体、及连续的片状的膜等。
被处理体w是例如宽度为100～2000mm左右的结构。
处理腔室10由壳体状的灯罩12和壳体状的排气空间形成构件13构成，该灯罩12沿着搬运路径的处理区域中的被处理体w的一面侧(在图1中为上表面侧)的通过平面具有开口12h，该排气空间形成构件13沿着处理区域中的被处理体w的其他面侧(在图1中为下表面侧)的通过平面具有开口13h。由此，处理腔室10内经由搬运路径的处理区域而被划分成由灯罩12内构成的清洗处理空间和由排气空间形成构件13内构成的排气空间。在处理腔室10的搬运路径的两端部分别利用灯罩12及排气空间形成构件13形成有狭缝状的搬入口18及搬出口19。
在灯罩12内，沿着被处理体w的宽度方向延伸的多个紫外线灯11在被处理体w的搬运方向上相互分离而设置在同一平面上，并且向该灯罩12内供给惰性气体的气体供给单元设置在紫外线灯11的背面侧(在图1中为上侧)。
作为紫外线灯11，可使用例如放射中心波长为172～380nm左右的真空紫外线的、截面沿被处理体w的搬运方向延伸的扁平的形状的氙受激准分子灯。
具体而言，气体供给单元具备开设有由孔或狭缝构成的多个气体供给口的气体供给管16，至少1个气体供给管16配置在灯罩12内的搬入口18的附近。
在图1的光照射装置中，气体供给单元具有多个气体供给管16，气体供给管16分别与紫外线灯11延伸的方向平行地延伸，且以相对于相邻的紫外线灯11成为等距离的状态配置于紫外线灯11的背面侧。
作为惰性气体，例如使用氮气。
在排气空间形成构件13的底部(在图1中为下部)设有将该排气空间形成构件13内的气体强制性地向外部排气的气体排出口17。
在该光照射装置中，从排气空间形成构件13的气体排出口17的排气量优选大于来自气体供给单元的气体供给管16的气体供给量。
在搬运路径上的处理腔室10的上游侧，与搬入口18接近地设置副腔室21。而且，优选在搬运路径上的处理腔室10的下游侧，也与搬出口19接近地设置副腔室22。
副腔室21、22中，分别隔着搬运路径而排气部21a、21b、22a、22b相对地设置，将从排气空间形成构件13内及灯罩12内经由搬入口18及搬出口19泄漏的气体强制性地向外部排气。
从副腔室21、22的排气量优选大于来自气体供给单元的气体供给管16的气体供给量。
作为将被处理体w沿着搬运路径搬运的搬运单元，在被处理体w为板状体的情况下，可以使用例如设置多个搬运辊而在该搬运辊上搬运的构造的结构，在被处理体w为连续的片状的膜的情况下，也可以使用例如将片状的膜铺设于开卷用辊与收卷用辊之间，从开卷用辊向收卷用辊卷绕的构造的结构。
并且，在本发明的光照射装置中，在灯罩12的开口12h设有在与被处理体w的宽度方向的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路g的遮蔽体。具体而言，遮蔽体由与灯罩12的开口12h的周缘连续而沿着被处理体w的搬运平面延伸的、具有容许被处理体w的通过的宽度的开口15h的板状的框部12a构成。由此，在框部12a的开口15h的、与被处理体w的搬运方向平行地延伸的侧缘和被处理体w的宽度方向的侧缘之间形成有气体流通阻力用隘路g。灯罩12的框部12a设置在与被处理体w的处理区域相同水平的位置。
气体流通阻力用隘路g的距离(间隔)优选为使排气空间形成构件13内的压力比灯罩12内的压力低且能维持两空间的压力状态的程度的大小，具体而言，灯罩12内的压力与排气空间形成构件13内的压力的差压优选维持成例如1pa以上。气体流通阻力用隘路g的距离越小，则该差压越大。
示出本发明的光照射装置的尺寸等的一例时，在被处理体w的宽度为例如500mm的情况下，处理腔室10的被处理体w的搬运方向的长度为445mm，被处理体w的宽度方向的长度为1090mm。
气体流通阻力用隘路g的距离(间隔)为10mm，应配置被处理体w的处理区域与灯罩12的顶面(在图1中为上表面)之间的距离为72mm，应配置被处理体w的处理区域与排气空间形成构件13的底面(在图1中为下表面)之间的距离为150mm。
灯罩12内的压力为比外部气氛(大气压)高2pa的正压，排气空间形成构件13内的压力为比外部气氛(大气压)低2pa的负压，其差压为4pa。
紫外线灯11的长度为640mm，紫外线灯11的有效照射宽度为510mm。紫外线灯11的表面(在图1中为下表面)与应配置被处理体w的处理区域之间的距离为4mm。
来自气体供给口的惰性气体的供给量为100l/min，从排气空间形成构件13的气体排出口17的气体的排气量为200l/min，从副腔室21、22的各排气部21a、21b、22a、22b的排气量分别为200l/min。
在上述的光照射装置中，如以下那样进行光清洗处理。即，沿着搬运路径，利用搬运单元从处理腔室10的搬入口18将被处理体w向处理区域搬入。由于在灯罩12的开口12h设置的遮蔽体(框部12a)与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的距离(气体流通阻力用隘路g的距离)小，因此伴随着被处理体w的向处理区域的搬运，仅少量的空气附着于被照射物w的表面而不会被带入处理区域的周围。在处理区域中向被处理体w的一面照射来自紫外线灯11的紫外线时，通过该紫外线、及向伴随着被处理体w的搬运而微量地被带入的空气被照射紫外线所产生的臭氧，对被处理体w的一面进行光清洗。被照射了紫外线的被处理体w之后沿着搬运路径从搬出口19被搬出。
在这一连串的处理中，在灯罩12内，从气体供给管16的气体供给口供给惰性气体(氮气)。所供给的惰性气体充满于灯罩12内，对紫外线灯11进行冷却，并对紫外线灯11与被处理体w之间的紫外线放射空间的空气进行置换。充满于灯罩12内的惰性气体从设于开口12h的遮蔽体(框部12a)与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的气体流通阻力用隘路g向排气空间形成构件13内的排气空间一点点地流出，从排气空间形成构件13的气体排出口17与在灯罩12内及排气空间产生的臭氧一起被强制性地排气。而且，向灯罩12内供给的惰性气体、在灯罩12内及排气空间产生的臭氧经由处理腔室10的搬入口18及搬出口19而向副腔室21、22的方向流出，从该副腔室21、22的各排气部21a、21b、22a、22b也被强制性地排气。
例如在被处理体w为片状的膜时，被处理体w的搬运速度设为0.5～40m/min，在被处理体w为板状的玻璃基板时，被处理体w的搬运速度设为0.5～9m/min。
根据以上那样的光照射装置，在灯罩12的开口设有在与被处理体w的两侧缘部之间形成气体流通阻力用隘路g的遮蔽体。并且，通过形成气体流通阻力用隘路g来阻碍灯罩12内的空间与排气空间形成构件13内的空间之间的自由的气体的流通而气体的流通阻力增大，由此灯罩12内的密闭性升高。因此，无论基于被处理体w的种类及形状而决定的搬运速度如何，通过比以往少量的惰性气体都能够稳定地降低紫外线放射空间内的氧浓度，其结果是，能够抑制紫外线放射空间内的氧浓度产生不均的情况，由此，稳定地抑制紫外线放射空间的紫外线的衰减，并且成为臭氧源的氧作为附着于被处理体的空气，伴随着该被处理体的搬运而少量被稳定地供给，因此结果是能够以高稳定性进行光清洗。
以上，说明了本发明的实施方式，但是本发明没有限定为上述的实施方式，能够施加各种变更。
例如遮蔽体的沿被处理体的搬运方向延伸的侧缘部的前端也可以设置成与被处理体的侧缘部接近的状态。
具体而言，如图4所示，遮蔽体也可以由将基端部24a及前端部24b呈曲柄状地连接而成的遮蔽构件24构成。该遮蔽构件24将基端部24a粘结于灯罩12的框部12a的下表面侧(在图4中为下表面侧)，前端部24b与被处理体w的搬运平面相比沿着被处理体w的其他面侧的水平的位置的平行平面延伸，进而，前端部24b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘(前端缘)与被处理体w的宽度方向的两侧缘部接近，且突出成未覆盖被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面的状态。由此，在被处理体w的两侧缘与遮蔽构件24的前端部24b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘(前端缘)之间形成气体流通阻力用隘路g。该遮蔽构件24的前端部24b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘(前端缘)与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的距离d1为5～10mm。而且，该遮蔽构件25的前端部25b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘(前端缘)与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离d2为0～5mm。在该例的光照射装置中，灯罩12的框部12a与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的距离也可以比图1～图3的光照射装置大。需要说明的是，在图4中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
另外，遮蔽体也可以是沿被处理体的搬运方向延伸的侧缘部设置成覆盖被处理体的侧缘部的其他面的状态的结构。
具体而言，如图5及图6所示，遮蔽体也可以由将基端部25a及前端部25b呈曲柄状地连接而形成的遮蔽构件25构成。该遮蔽构件25将基端部25a粘结于灯罩12的框部12a的下表面侧(在图5中为下表面侧)，前端部25b以不接触而覆盖被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面(在图5中为下表面)的方式突出。由此，在被处理体w的其他面(在图5中为下表面)与遮蔽构件25的前端部25b的上表面(在图5中为上表面)之间形成气体流通阻力用隘路g。该遮蔽构件25的前端部25b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离d3为0～5mm，遮蔽构件25的前端部25b的上表面与应配置被处理体w的处理区域的其他面侧的通过平面之间的高度方向的距离d4为5～10mm。在该例的光照射装置中，灯罩12的框部12a与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的距离也可以比图1～图3的光照射装置大。需要说明的是，图6是从排气空间侧观察到的立体图。而且，在图5及图6中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
另外，如图7及图8所示，遮蔽体也可以由板状的遮蔽构件26构成。该板状的遮蔽构件26以不接触而覆盖灯罩12的框部12a的沿被处理体w的搬运方向延伸的两侧缘部的下表面(在图7中为下表面)和被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面(在图7中为下表面)的方式，通过支承被处理体w的搬运方向的两端部来配置。由此，在被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面与遮蔽构件26的上表面(在图7中为上表面)之间、及灯罩12的框部12a的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘部的下表面与遮蔽构件26的上表面之间，形成气体流通阻力用隘路g。该遮蔽构件26的沿被处理体w的搬运方向延伸的内侧的侧缘与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，遮蔽构件26的上表面与应配置被处理体w的处理区域的其他面侧的通过平面之间的高度方向的距离为5～10mm。而且，遮蔽构件26的沿被处理体w的搬运方向延伸的外侧的侧缘与灯罩12的框部12a的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，遮蔽构件26的上表面与灯罩12的框部12a的下表面之间的高度方向的距离为5～10mm。在该例的光照射装置中，灯罩12的框部12a与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的距离也可以比图1～图3的光照射装置大。需要说明的是，图8是从排气空间侧观察到的立体图。而且，在图7及图8中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
另外，如图9及图10所示，遮蔽体也可以由与灯罩12的开口12h连接且与被处理体w的搬运平面相比沿着被处理体w的其他面侧的水平的位置的平行平面延伸的板状的框部12b构成，该框部12b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘部突出成不接触地覆盖被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面的状态。由此，在被处理体w的其他面(在图9中为下表面)与灯罩12的框部12b的上表面(在图9中为上表面)之间形成气体流通阻力用隘路g。该框部12b的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，框部12b的上表面与应配置被处理体w的处理区域的其他面侧的通过平面之间的高度方向的距离为5～10mm。需要说明的是，图10是从排气空间侧观察到的立体图。而且，在图9及图10中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
另外，例如，遮蔽体也可以设置成覆盖被处理体的其他面侧的整面的状态。
具体而言，如图11及图12所示，由板状的遮蔽构件27构成。该遮蔽构件27以不接触地覆盖灯罩12的框部12a的沿被处理体w的搬运方向延伸的两侧缘部的下表面(在图11中为下表面)和被处理体w的其他面的整面的方式，通过支承被处理体w的搬运方向的两端部来配置。由此，在灯罩12的框部12a的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘部的下表面与遮蔽构件27的上表面(在图11中为上表面)之间形成气体流通阻力用隘路g。该遮蔽构件27的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘与灯罩12的框部12a的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，遮蔽构件27的上表面与灯罩12的框部12a的下表面之间的高度方向的距离为5～10mm。在该例的光照射装置中，灯罩12的框部12a与被处理体w的宽度方向的两侧缘之间的距离也可以比图1～图3的光照射装置大。需要说明的是，图12是从排气空间侧观察到的立体图。而且，在图11及图12中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
另外，例如，遮蔽体也可以设置成沿被处理体的搬运方向延伸的两侧缘部能够在被处理体的宽度方向上位移。
具体而言，如图13及图14所示，遮蔽体由板状的遮蔽构件28构成，该遮蔽构件28支承在与灯罩12的开口12h连接且与被处理体w的搬运平面相比沿着被处理体w的其他面侧的水平的位置的平行平面延伸的板状的框部12c的其他面(在图13中为下表面)上，以不接触地覆盖被处理体w的宽度方向的两侧缘部的其他面(在图13中为下表面)的方式突出。在该遮蔽构件28的支承于灯罩12的框部12c的两侧缘部的、被处理体w的搬运方向的前端部及后端部形成有沿被处理体w的宽度方向延伸的总计4个长孔28h，该长孔28h通过螺钉29而螺纹紧固于灯罩12的框部12c，由此将该遮蔽构件28固定于灯罩12。并且，通过调整长孔28h的螺纹紧固的位置，能够使遮蔽构件28的沿被处理体w的搬运方向延伸的两侧缘部的在被处理体w的宽度方向上突出的长度位移。在该例的光照射装置中，在被处理体w的其他面(在图13中为下表面)与遮蔽构件28的上表面(在图13中为上表面)之间形成有气体流通阻力用隘路g。该遮蔽构件28的沿被处理体w的搬运方向延伸的侧缘与应配置被处理体w的处理区域的宽度方向的侧缘之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，遮蔽构件28的上表面与应配置被处理体w的处理区域的其他面侧的通过平面之间的高度方向的距离为5～10mm。需要说明的是，在图13及图14中，关于与图1～图3的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
此外，例如在本发明的光照射装置中，在被处理体具有孔的情况下，也可以设置覆盖该孔的遮风体。
例如在图7及图8所示的光照射装置中，说明使用具有孔的结构作为被处理体的情况。
如图15及图16所示，板状的遮风体30在被处理体w的宽度方向的中央部，以不接触地覆盖沿搬运方向分离设置的多个贯通孔wh的状态，通过支承被处理体w的搬运方向的两端部来配置。由此，在被处理体w的其他面的贯通孔wh的两侧缘部与遮风体30的上表面(在图15中为上表面)之间形成阻碍灯罩12内的空间与排气空间形成构件13内的空间之间的自由的气体的流通的气体流通阻力用隘路gx。该遮风体30的沿被处理体w的搬运方向延伸的两侧缘与应配置被处理体w的贯通孔wh的位置之间的被处理体w的宽度方向的距离为0～5mm，遮风体30的上表面与应配置被处理体w的处理区域的其他面侧的通过平面之间的高度方向的距离为5～10mm。需要说明的是，图16是从排气空间侧观察到的立体图。而且，在图15及图16中，关于与图7及图8的光照射装置相同的结构构件，标注相同标号地表示。
根据这样的光照射装置，即使在被处理体w具有贯通孔wh的情况下，通过阻碍来自该贯通孔wh的自由的气体的流通而气体的流通阻力增大，由此能够提高灯罩12内的密闭性。
【实施例】
以下，说明本发明的具体的实施例，但是本发明没有限定于此。
<实施例1>
制造了具有图1～图3的结构的光照射装置〔1〕。具体而言，如以下所述。
·处理腔室；被处理体的搬运方向的长度：445mm，被处理体的宽度方向的长度：1090mm，处理区域与灯罩的顶面之间的距离：72mm，处理区域与排气空间形成构件的底面之间的距离：150mm，气体流通阻力用隘路的距离(间隔)：10mm
·紫外线灯；种类：氙受激准分子灯，中心波长：172nm，长度：640mm，有效照射宽度：510mm，与处理区域的距离：4mm
·灯罩内的压力：比外部气氛(大气压)高2pa的正压
·排气空间形成构件内的压力：比外部气氛(大气压)低2pa的负压(差压为4pa)
·来自气体供给口的惰性气体的供给量：100l/min
·从排气空间形成构件的气体排出口的气体的排气量：200l/min
·从副腔室的各排气部的排气量：分别为200l/min
·被处理体；种类：片状的膜，宽度：500mm
<比较例1>
在实施例1中，除了未设置气体流通阻力用隘路且被处理体的两侧缘与灯罩的框部的侧缘之间的距离为50mm以外，同样地制造了比较用的光照射装置〔2〕。
在这样的光照射装置〔1〕、〔2〕中，将被处理体的搬运速度变更为0～20m/min，测定了位于搬运路径的处理区域时的被处理体的表面的氧浓度。结果如图17的坐标图所示。在图17中，光照射装置〔1〕的结果由方形标绘(■)表示，光照射装置〔2〕的结果由三角形标绘(▲)表示。
从图17的坐标图可知，在设有气体流通阻力用隘路的实施例的光照射装置〔1〕中，位于搬运路径的处理区域时的被处理体的表面的氧浓度的不均为2.5％±0.1％左右，与比较例的光照射装置〔2〕的表面的氧浓度的不均(2.5％±1％左右)相比维持为大致一定，因此，可确认到不依赖于搬运速度。