本发明涉及一种化工设备，特别是涉及一种化工设备清洗装置。
背景技术：
传统的化工设备清洗装置清洗效率低，无法彻底清除内部隐藏的化学药剂，并且没有杀菌处理，这样清洗出来的设备，安全性无法保障。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是提供一种化工设备清洗装置，其结构简单、设计合理，新增了红外杀菌功能，能够彻底清理设备上残留的化学药剂，保障了设备的干净、整洁、安全。
本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：一种化工设备清洗装置，其特征在于，其包括：
清洗机构、杀菌机构，清洗机构位于杀菌机构的左侧，杀菌机构的一端与清洗机构相连；
清洗机构包括超声波清洗槽、主控电箱、伺服电机、超声波发生器、清洗机构底座、排液口，超声波清洗槽的一端与清洗机构底座相连，主控电箱位于伺服电机的右侧，伺服电机的一端与超声波清洗槽相连，超声波发生器位于超声波清洗槽的左侧，清洗机构底座位于超声波清洗槽的下面，排液口的一端与超声波清洗槽相连；
杀菌机构包括红外发生装置、杀菌处理炉、加强圈、杀菌机构主基座、总开关、调节旋钮，红外发生装置位于杀菌处理炉的右侧，杀菌处理炉的一端与加强圈相连，加强圈位于杀菌处理炉的下面，杀菌机构主基座位于杀菌处理炉的下面，总开关位于调节旋钮的左侧，调节旋钮的一端与红外发生装置相连。
优选地，所述超声波清洗槽上设有内六角固定螺丝。
优选地，所述清洗机构底座上设有锁片。
优选地，所述杀菌处理炉的直径要小于加强圈的直径。
优选地，所述加强圈的内侧设有凹槽。
优选地，所述杀菌机构主基座上设有固定导片。
本发明的积极进步效果在于：化工设备清洗装置结构简单、设计合理，新增了红外杀菌功能，能够彻底清理设备上残留的化学药剂，保障了设备的干净、整洁、安全。
附图说明
图1为本发明的结构图。
图2为本发明的清洗机构的结构图。
图3为本发明的杀菌机构的结构图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
如图1至图3所示，本发明化工设备清洗装置包括：
清洗机构1、杀菌机构2，清洗机构1位于杀菌机构2的左侧，杀菌机构2的一端与清洗机构1相连；
清洗机构1包括超声波清洗槽11、主控电箱12、伺服电机13、超声波发生器14、清洗机构底座15、排液口16，超声波清洗槽11的一端与清洗机构底座15相连，主控电箱12位于伺服电机13的右侧，伺服电机13的一端与超声波清洗槽11相连，超声波发生器14位于超声波清洗槽11的左侧，清洗机构底座15位于超声波清洗槽11的下面，排液口16的一端与超声波清洗槽11相连；
杀菌机构2包括红外发生装置21、杀菌处理炉22、加强圈23、杀菌机构主基座24、总开关25、调节旋钮26，红外发生装置21位于杀菌处理炉22的右侧，杀菌处理炉22的一端与加强圈23相连，加强圈23位于杀菌处理炉22的下面，杀菌机构主基座24位于杀菌处理炉22的下面，总开关25位于调节旋钮26的左侧，调节旋钮26的一端与红外发生装置21相连。
本发明的工作原理如下：化工设备清洗装置结构简单、设计合理，在传统的超声波清洗机构上增加了红外杀菌机构，化学设备在经过超声波杀菌处理之后，在经由红外杀菌机构进行杀菌处理，这样能够彻底清除化学设备上残留的化学药剂，超声波清洗机构通过超声波发生器放出超声波，利用超声波对超声波清洗槽内的化学设备进行清洗工作，超声波清洗机构具有良好的清洗效果，清洁度高且全部工件清洁度一致，清洗速度快，不须人手接触清洗液安全可靠，对深孔、细缝和化学设备隐蔽处也能够清洗干净，不会对化学设备的表面造成损伤，延长了化学设备的使用寿命，在杀菌机构上有红外发生装置，红外发生装置能够释放出红外线，对杀菌处理炉内的化学设备进行杀菌处理，红外杀菌具有速度快、穿透力强的特点，通过红外释放出的高温进行杀菌，能够彻底清除化学设备上残留的化学药剂，保障设备的干净、整洁、安全。
超声波清洗槽11上设有内六角固定螺丝，这样能够加强超声波清洗槽的结构，提高清洗机构的稳定性。
清洗机构底座15上设有锁片，这样能够加强清洗机构底座的结构，提高清洗机构的稳定性。
杀菌处理炉22的直径要小于加强圈23的直径，这样能够提高杀菌处理炉的稳定性，提高杀菌机构的工作效率。
加强圈23的内侧设有凹槽，这样能够提高杀菌处理炉的稳定性。
杀菌机构主基座24上设有固定导片，这样便于装卸杀菌机构。
综上所述，本发明化工设备清洗装置结构简单、设计合理，新增了红外杀菌功能，能够彻底清理设备上残留的化学药剂，保障了设备的干净、整洁、安全。