一种硅料清洗设备的制作方法

文档序号:15821305发布日期:2018-11-02 23:07阅读:257来源:国知局

本发明涉及一种化工设备,特别是涉及一种硅料清洗设备。



背景技术:

硅料清洗设备是一种通过化学方法清洗硅材料的设备,现有的设备清洗硅材料清洗不够干净,在工作时容易发出巨大的噪音污染,工作人员在工作时非常容易受到噪音的污染。



技术实现要素:

本发明所要解决的技术问题是提供一种硅料清洗设备,其通过多个步骤多次清洗,清洗硅材料更加干净。提高了对硅材料的清洗速度,工作效率也得到了提高,料化学清洗设备在工作时不容易发出噪音,工作人员在工作时不容易受到噪音污染。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的:一种硅料清洗设备,其特征在于,其包括机体、支撑柱、去离子水管道、化学清洗剂管道、进料口、消音器、隔音板、出水管道,多个支撑柱都固定在机体的底部,去离子水管道连接在机体的背面,化学清洗剂管道位于去离子水管道的一侧,进料口固定在机体的顶部,消音器位于进料口的一侧,隔音板固定在进料口上,出水管道连接在机体的一侧,其中:

机体包括外箱体、隔网、工作扇、烘干器、隔音板,隔网、工作扇、烘干器、隔音板都固定在外箱体内,工作扇、烘干器都固定在外箱体的底部,烘干器位于多个烘干器之间,隔网固定在多个工作扇的上方,多个隔音板都固定在外箱体的两侧的内部上。

优选地,所述外箱体的底部设有安装槽。

优选地,所述机体的两侧设有固定螺丝。

优选地,所述机体的顶部设有操控按钮。

优选地,所述机体的正面设有透明窗口。

本发明的积极进步效果在于:本发明通过多个步骤多次清洗,清洗硅材料更加干净。提高了对硅材料的清洗速度,工作效率也得到了提高,料化学清洗设备在工作时不容易发出噪音,工作人员在工作时不容易受到噪音污染。

附图说明

图1为本发明的总体结构图。

图2为本发明的机体的结构图。

具体实施方式

下面结合附图给出本发明较佳实施例,以详细说明本发明的技术方案。

如图1至图2所示,本发明硅料清洗设备包括机体1、支撑柱2、去离子水管道3、化学清洗剂管道4、进料口5、消音器6、隔音板7、出水管道8,多个支撑柱2都固定在机体1的底部,去离子水管道3连接在机体1的背面,化学清洗剂管道4位于去离子水管道3的一侧,进料口5固定在机体1的顶部,消音器6位于进料口5的一侧,隔音板7固定在进料口5上,出水管道8连接在机体1的一侧,其中:

机体1包括外箱体9、隔网10、工作扇11、烘干器12、隔音板13,隔网10、工作扇11、烘干器12、隔音板13都固定在外箱体9内,工作扇11、烘干器12都固定在外箱体9的底部,烘干器12位于多个烘干器12之间,隔网10固定在多个工作扇11的上方,多个隔音板13都固定在外箱体9的两侧的内部上。

外箱体9的底部设有安装槽14,安装内部元件更加方便。

机体1的两侧设有固定螺丝15,固定机体更加牢固。

机体1的顶部设有操控按钮16,操控硅料清洗设备更加方便。

机体1的正面设有透明窗口17,能够看清里面的工作情况。

本发明的工作原理如下:将需要清洗的硅材料通过进料口放置在外箱体内的隔网上,开始工作后热去离子水通过去离子水管道进入外箱体内对硅材料进行清洗,在硅材料进行清洗时位于隔网底部的工作扇开始工作加大对硅材料的清洗速度,经过清洗后热去离子水通过出水管道向外排出,这时化学清洗剂通过化学清洗剂管道进入外箱体内对硅材料进行清洗,工作扇继续在工作,经过清洗后化学清洗剂通过出水管道向外排出,这时热去离子水有通过去离子水管道进入外箱体内对硅材料进行清洗,清洗后继续向外排出,最后烘干器对经过清理的硅材料进行烘干,这样通过多个步骤多次清洗,清洗硅材料更加干净。提高了对硅材料的清洗速度,工作效率也得到了提高。当硅料清洗设备在工作时隔音板会将进料口关闭,这样硅料清洗设备在工作时不容易发出噪音,消音器和位于外箱体内壁上的隔音板进一步降低了硅料清洗设备在工作时发出的噪音,这样工作人员在工作时不容易受到噪音污染,位于机体底部的支撑柱在每当有水流进入进入机体时会支撑机体更加稳定,减少机体受到的冲击力,保护机体更加安全。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种硅料清洗设备,其包括机体等,多个支撑柱都固定在机体的底部,去离子水管道连接在机体的背面,化学清洗剂管道位于去离子水管道的一侧,工作扇、烘干器都固定在外箱体的底部,烘干器位于多个烘干器之间,隔网固定在多个工作扇的上方,多个隔音板都固定在外箱体的两侧的内部上。本发明通过多个步骤多次清洗,清洗硅材料更加干净。提高了对硅材料的清洗速度,工作效率也得到了提高,料化学清洗设备在工作时不容易发出噪音,工作人员在工作时不容易受到噪音污染。

技术研发人员:付淑珍
受保护的技术使用者:付淑珍
技术研发日:2018.06.15
技术公布日:2018.11.02
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