本发明涉及玻璃清洗技术领域，尤其是涉及一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺。
背景技术：
随着社会的进步，玻璃在各种电子产品、电子元件上的应用日趋广泛，根据各种产品或元件的性能要求，需要不同的加工工艺来满足，许多新的工艺及技术就需要重新开发设计；其中一种手机元件导光柱用硼硅玻璃来加工完成的，这是一种全新的尝试，为了达到导光柱的性能要求，需要在硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶来完成，该工艺面临的第一个难题就是硼硅玻璃与丙烯酸uv胶的结合力很差；为了使导光柱产品顺利的生产出来，开发一种用于加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺来满足生产需求就非常必要了。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，本发明的清洗工艺硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力好，同时不影响硼硅玻璃的透过率和反射率。
本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，包括：
a)将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；
b)将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；
c)将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨10％～15％；
氨基磺酸2％～5％；
苯丙三氮唑0.5％～1％；
oep3％～5％；
edta0.5％～1.5％；
余量为水；
d)将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。
优选的，步骤a)所述超声清洗为单槽超声波清洗。
优选的，步骤a)所述清洗温度为55～60℃；所述清洗时间为60～70s。
优选的，所述第一清洗液包括以下质量分数的组分：
氢氧化钠10～15％；
葡萄糖酸钠5～8％；
硅酸钠4～6％；
edta-2na1～3％；
脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠8～10％；
余量为水。
优选的，所述第一清洗液使用的浓度为2％。
优选的，所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨11％～14％；
氨基磺酸3％～4.5％；
苯丙三氮唑0.6％～0.9％；
oep3.5％～4.5％；
edta0.6％～1.3％；
余量为水。
优选的，所述第二清洗液的使用浓度为3％～5％。
优选的，所述水洗的温度为55～65℃；所述水洗的时间为60～70s。
优选的，所述第二清洗液浸泡的温度为65～70℃；所述浸泡的时间为3～5min。
优选的，所述烘干为风刀切水烘干；所述烘干温度为90～110℃；所述烘干时间为60～70s。
与现有技术相比，本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，包括：a)将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；b)将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；c)将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨10％～15％；氨基磺酸2％～5％；苯丙三氮唑0.5％～1％；oep3％～5％；edta0.5％～1.5％；余量为水；d)将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。本发明采用现有碱性清洗剂清洗，而后水洗，最终本发明特定的酸性清洗剂浸泡的方式对硼硅玻璃表面进行改进，使得提高硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力；本发明以氟化氢氨为主剂，在氨基磺酸、苯并三氮唑、ope和edta等的辅助下，对产品表面进行粗化，以此来改善硼硅玻璃与丙烯酸uv胶的结合力，同时不影响玻璃表面的外观以及产品的透过率和反应率等。本发明的方法简单、效率高、良率稳定。
具体实施方式
本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，本领域技术人员可以借鉴本文内容，适当改进工艺参数实现。特别需要指出的是，所有类似的替换和改动对本领域技术人员来说是显而易见的，它们都属于本发明保护的范围。本发明的方法及应用已经通过较佳实施例进行了描述，相关人员明显能在不脱离本发明内容、精神和范围内对本文的方法和应用进行改动或适当变更与组合，来实现和应用本发明技术。
本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，包括：
a)将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；
b)将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；
c)将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨10％～15％；
氨基磺酸2％～5％；
苯丙三氮唑0.5％～1％；
oep3％～5％；
edta0.5％～1.5％；
余量为水；
d)将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。
本发明的清洗工艺是针对手机导光柱使用的，手机元件导光柱是采用硼硅玻璃来加工完成的，为了达到导光柱的性能要求，需要在硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶来完成，该工艺面临的第一个难题就是硼硅玻璃与丙烯酸uv胶的结合力很差；本发明的清洗工艺可以有效的解决上述技术问题，能改善硼硅玻璃与丙烯酸uv胶的结合力，同时不影响玻璃表面的外观以及产品的透过率和反应率等。本发明的方法简单、效率高、良率稳定。
本发明提供的一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺首先将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂。
本发明对于所述硼硅玻璃不进行限定，本领域技术人员熟知的硼硅玻璃即可。
硼硅玻璃采用水基碱性清洗剂超声清洗表面的脏污。
按照本发明，所述超声清洗优选在单槽超声波清洗。所述清洗温度优选为55～60℃；更优选为56～58℃；所述清洗时间优选为60～70s；更优选为62～68s；本发明对于所述超声设备和清洗的方式不进行限定，本领域技术人员熟知的方式即可。所述超声的功率优选为38khz。
在本发明中，所述第一清洗液优选包括以下质量分数的组分：
氢氧化钠10～15％；
葡萄糖酸钠5～8％；
硅酸钠4～6％；
edta-2na1～3％；
脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠8～10％；
余量为水。
所述第一清洗液更优选包括以下质量分数的组分：
氢氧化钠11～14％；
葡萄糖酸钠6～7％；
硅酸钠4.5～5.5％；
edta-2na1～3％；
脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠8.5～9.5％；
余量为水。
本发明采用上述特定的碱性水基清洗剂，可以对硼硅玻璃表面的脏污进行很好的清洗，效果好。使用时，需与水混合，所述第一清洗液使用的浓度为2％。即为将上述配制好的第一清洗液配制至浓度为2％。上述特定组分以及特定浓度才能达到良好的效果。
将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗。所述水优选为去离子水。所述水洗的温度优选为55～65℃；更优选为56～63℃；所述清洗时间优选为60～70s；更优选为62～68s。
本发明对于上述水洗的具体方式不进行限定，本领域技术人员熟知的即可。
将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡。
本发明所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨10％～15％；
氨基磺酸2％～5％；
苯丙三氮唑0.5％～1％；
oep3％～5％；
edta0.5％～1.5％；
余量为水。
本发明所述第二清洗液优选包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨11％～14％；
氨基磺酸3％～4.5％；
苯丙三氮唑0.6％～0.9％；
oep3.5％～4.5％；
edta0.6％～1.3％；
余量为水。
本发明所述第二清洗液更优选包括以下质量分数的组分：
氟化氢氨12％～13.5％；
氨基磺酸3.5％～4.3％；
苯丙三氮唑0.65％～0.85％；
oep3.8％～4.2％；
edta0.7％～1.2％；
余量为水。
所述第二清洗液浸泡的温度优选为65～70℃；更优选为为66～69℃；所述浸泡的时间为3～5min；更优选为3.5～4.5min。
本发明所述第二清洗液的使用浓度为3％～5％。
本发明采用上述特定的酸性清洗剂，可以对硼硅玻璃表面的进行很好的粗化，效果好。使用时，需与水混合，所述第一清洗液使用的浓度为3％～5％。即为将上述配制好的第一清洗液配制至浓度为3％～5％。上述特定组分以及特定浓度才能达到良好的效果。因为如粗化过度会影响产品的外观以及透过率和反射率等。
将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。所述烘干为风刀切水烘干；所述烘干温度优选为90～110℃；更优选为95～105℃；所述烘干时间为60～70s；更优选为62～68s。
脱水烘干后的产品进行外观检验，好的产品进行下一工序加；此加工工艺稳定已批量化的生产，操作方式简单、加工成本低，生产效率高，良率稳定。
本发明提供了一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺，包括：a)将硼硅玻璃采用第一清洗液超声清洗，所述第一清洗液为水基碱性清洗剂；b)将第一清洗液清洗后的硼硅玻璃进行水洗；c)将水洗后的硼硅玻璃采用第二清洗液浸泡；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨10％～15％；氨基磺酸2％～5％；苯丙三氮唑0.5％～1％；oep3％～5％；edta0.5％～1.5％；余量为水；d)将浸泡后的硼硅玻璃脱水烘干。本发明采用现有碱性清洗剂清洗，而后水洗，最终本发明特定的酸性清洗剂浸泡的方式对硼硅玻璃表面进行改进，使得提高硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力；本发明以氟化氢氨为主剂，在氨基磺酸、苯并三氮唑、ope和edta等的辅助下，对产品表面进行粗化，以此来改善硼硅玻璃与丙烯酸uv胶的结合力，同时不影响玻璃表面的外观以及产品的透过率和反应率等。本发明的方法简单、效率高、良率稳定。
为了进一步说明本发明，以下结合实施例对本发明提供的一种加强硼硅玻璃与丙烯酸uv胶附着力的清洗工艺进行详细描述。
实施例1
将硼硅玻璃放入单槽超声波，采用稀释至浓度为2％碱性洗剂清洗产品表面的脏污；洗涤温度55℃，清洗时间70s。碱性洗剂优选包括以下质量分数的组分：氢氧化钠10％；葡萄糖酸钠8％；硅酸钠4％；edta-2na3％；脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠8％；余量为水。将采用碱性洗剂清洗后的硼硅玻璃进行55℃水洗70s；将水洗后的硼硅玻璃采用3％的浓度的第二清洗液65℃浸泡5min；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨10％；氨基磺酸5％；苯丙三氮唑0.5％％；oep3％％；edta0.5％；余量为水；将浸泡后的硼硅玻璃95℃脱水烘干60s。
将清洗后的硼硅玻璃进行外观检查，进行透过率和反射率的测定，结果为透过率92％，反射率8％；将硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶，然后进行结合力测定，结果为5b。
实施例2
将硼硅玻璃放入单槽超声波，采用稀释至浓度为2％碱性洗剂清洗产品表面的脏污；洗涤温度58℃，清洗时间65s。碱性洗剂优选包括以下质量分数的组分：氢氧化钠13％；葡萄糖酸钠7％；硅酸钠5％；edta-2na2％；脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠9％；余量为水。将采用碱性洗剂清洗后的硼硅玻璃进行60℃水洗65s；将水洗后的硼硅玻璃采用4％的浓度的第二清洗液68℃浸泡4min；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨13％；氨基磺酸4％；苯丙三氮唑0.8％；oep4％；edta1.2％；余量为水；将浸泡后的硼硅玻璃100℃脱水烘干65s。
将清洗后的硼硅玻璃进行外观检查，进行透过率和反射率的测定，结果为透过率92％，反射率8％；将硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶，然后进行结合力测定，结果为5b。
实施例3
将硼硅玻璃放入单槽超声波，采用稀释至浓度为2％碱性洗剂清洗产品表面的脏污；洗涤温度60℃，清洗时间60s。碱性洗剂优选包括以下质量分数的组分：氢氧化钠15％；葡萄糖酸钠8％；硅酸钠6％；edta-2na3％；脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠10％；余量为水。将采用碱性洗剂清洗后的硼硅玻璃进行65℃水洗70s；将水洗后的硼硅玻璃采用5％的浓度的第二清洗液70℃浸泡3-5min；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨15％；氨基磺酸5％；苯丙三氮唑1％；oep5％；edta1.5％；余量为水；将浸泡后的硼硅玻璃105℃脱水烘干70s。
将清洗后的硼硅玻璃进行外观检查，进行透过率和反射率的测定，结果为透过率92％，反射率8％；将硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶，然后进行结合力测定，结果为5b。
比较例1
将硼硅玻璃放入单槽超声波，采用稀释至浓度为2％碱性洗剂清洗产品表面的脏污；洗涤温度58℃，清洗时间65s。碱性洗剂优选包括以下质量分数的组分：氢氧化钠13％；葡萄糖酸钠7％；硅酸钠5％；edta-2na2％；脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠9％；余量为水。将采用碱性洗剂清洗后的硼硅玻璃进行60℃水洗65s；将水洗后的硼硅玻璃采用4％的浓度的第二清洗液68℃浸泡4min；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：三聚磷酸钠13％；乙二醇乙醚4％；苯丙三氮唑0.8％；oep4％；edta1.2％；余量为水；将浸泡后的硼硅玻璃100℃脱水烘干65s。
将清洗后的硼硅玻璃进行外观检查，进行透过率和反射率的测定，结果为透过率92％，反射率8％；将硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶，然后进行结合力测定，结果为0b。
比较例2
将硼硅玻璃放入单槽超声波，采用稀释至浓度为2％碱性洗剂清洗产品表面的脏污；洗涤温度58℃，清洗时间65s。碱性洗剂优选包括以下质量分数的组分：氢氧化钠13％；葡萄糖酸钠7％；硅酸钠5％；edta-2na2％；脂肪酸聚氧乙烯醚硫酸钠9％；余量为水。将采用碱性洗剂清洗后的硼硅玻璃进行60℃水洗65s；将水洗后的硼硅玻璃采用7％的浓度的第二清洗液68℃浸泡4min；所述第二清洗液包括以下质量分数的组分：氟化氢氨13％；氨基磺酸4％；苯丙三氮唑0.8％；oep4％；edta1.2％；余量为水；将浸泡后的硼硅玻璃100℃脱水烘干65s。
将清洗后的硼硅玻璃进行外观检查，进行透过率和反射率的测定，结果为透过率85％，反射率15％；将硼硅玻璃上附着丙烯酸uv胶，然后进行结合力测定，结果为5b。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。