胶塞清洗预洗系统的制作方法

文档序号:20034926发布日期:2020-02-28 10:59阅读:308来源:国知局
胶塞清洗预洗系统的制作方法

本发明涉及医用零部件清洗技术领域,特别是涉及一种医用胶塞的清洗的预洗系统。



背景技术:

在部分医用器械或者零部组件出厂前,需要对其进行清洗或者说预清洗,而后再进行中高温的消毒,进而达到消毒除菌且洁净无杂质的作用。对于医用胶塞的预清洗,目前多是工人通过手工对其进行淘洗,清洗效果不可控,且清洗效率低,再有是通过简单的机械结构将倾倒在其中胶塞进行洗涤,但清洗效果不理想。



技术实现要素:

本发明的目的是要提供一种胶塞清洗预洗系统,解决了医用胶塞的预清洗问题,实现了对于胶塞的进料、去渣、清洗等一整套清洗流程,提高了清洗效率。

为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:

本发明提供了一种胶塞清洗预洗系统,包括负压送料机构、振动去渣机构和高压清洗机构,其中:

负压送料机构,包括料箱和负压料桶,料箱用于存放待清洗的胶塞,所述负压料桶通过料管与所述料箱的出料口相连,所述负压料桶中设置有用于对桶内进行抽真空的负压发生装置;

振动去渣机构,包括振动箱体,负压料桶的出料口位于所述振动箱体的上方,所述振动箱体的顶部开口、底部设置有振动筛,用于筛除胶塞中的废渣;

高压清洗机构,用于对胶塞进行高压冲洗,在高压清洗机构的尾端设置有出料口。

对于上述技术方案,申请人还有进一步的优化措施。

优选地,在负压送料机构的前端还设置有进料机构,用于向所述料箱中自动装载待清洗的胶塞。

进一步地,所述进料机构包括相对设置的两块立板,在两块立板之间设置有用于放置料框的料斗,所述立板处设置有用于带动所述料斗移动的竖直提升机构,所述料斗的侧板与所述立板间设置有翻转导向装置。

更进一步地,所述翻转导向装置包括滑动配合的导向柱和导向轨道,所述导向轨道设置在所述料斗的侧板外侧面上,且所述导向轨道由侧板上方斜向侧板下方设置,所述进料机构处于非工作状态时,所述导向柱位于所述导向轨道的上部。

优选地,振动去渣机构的振动箱体的底部通过弹簧固定在机架上,振动箱体的侧面设置有振动电机。

进一步地,振动去渣机构的振动箱体包括相连通的前箱体和后箱体,所述前箱体与后箱体基本位于同一水平高度上,所述前箱体位于所述负压料桶的出料口下方,所述后箱体的底部设置有所述振动筛,所述后箱体的尾端侧板上开设有通往所述高压清洗机构的送料口。

更进一步地,所述后箱体中设置有v形的导向板,导向板的开口端朝向所述后箱体内,锥口端指向所述尾端侧板上的送料口。

优选地,所述高压清洗机构为双筒管式机构,包括同心设置的内筒和外筒,在所述外筒内位于所述内筒的外侧设置有若干个喷水用的喷管,所述喷管的喷射方向指向所述内筒,所述内筒的进料端与所述振动去渣机构的送料口相连,所述内筒为表面具有若干通孔的不锈钢管,所述外筒为无孔不锈钢管。

进一步地,所述高压清洗机构还包括旋转电机,所述旋转电机与所述内筒相连,用于驱动所述内筒在外筒内旋转,所述外筒固定在机架上且具有可开合的顶盖。

优选地,所述高压清洗机构下方设置有水循环机构,高压清洗机构中的管路通过进水管和出水管与水循环机构进行连接,构成水路的循环利用。

由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:

本发明的胶塞清洗预洗系统,其进料通过负压进行胶塞的吸取供料,再通过振动筛等对胶塞中残留的碎屑进行去除,然后再通过高压喷淋水对胶塞进行清洗,进而完成胶塞的去渣及初步清洗,清洗效果好,且能够节省人工投入,降低生产成本。

附图说明

后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本发明的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解,这些附图未必是按比例绘制的。附图中:

图1是根据本发明一个实施例的胶塞清洗预洗系统的结构示意图;

图2是图1所示胶塞清洗预洗系统中的进料机构的结构示意图。

其中,附图标记说明如下:

1、进料机构,11、立板,12、料斗,13、竖直提升机构,14、导向柱,15、导向轨道;

2、负压送料机构,21、料箱,22、负压料桶,23、负压发生装置,24、上部料口;

3、振动去渣机构,31、前箱体,32、后箱体,33、振动筛,34、振动电机,35、导向板,36、弹簧;

4、高压清洗机构,41、内筒,42、外筒,43、喷管,44、顶盖;

5、水循环机构。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

此外,下面所描述的本发明不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。

本实施例描述了一种胶塞清洗预洗系统,如图1所示,其一般性地可以包括负压送料机构2、振动去渣机构3和高压清洗机构4,其中,负压送料机构2维持稳定的负压送料,向振动去渣机构3中进行供料,振动去渣机构3通过振动去除胶塞中所含有的碎屑等硬性残留物,然后再送入高压清洗机构4对胶塞进行高压水的喷淋冲洗,进一步去除胶塞表面的灰尘、油污等等残留物,达到胶塞的预洗目的。

具体说来,负压送料机构2,包括料箱21和负压料桶22,料箱21设置于进料机构1的后端,用于存放待清洗的胶塞,所述负压料桶22的上部料口24通过料管(图中未示出)与所述料箱21底部的出料口相连,所述负压料桶22中设置有用于对桶内进行抽真空的负压发生装置23。另外,在负压送料机构2的前端还设置有进料机构1,用于向所述料箱21中自动装载待清洗的胶塞。

如图2所示,所述进料机构1包括相对设置的两块立板11,在两块立板11之间设置有用于放置料框的料斗12,所述立板11处设置有用于带动所述料斗12移动的竖直提升机构13,所述料斗12的侧板与所述立板11间设置有翻转导向装置。所述翻转导向装置包括滑动配合的导向柱14和导向轨道15,所述导向轨道15设置在所述料斗12的侧板外侧面上,且所述导向轨道15由侧板上方斜向侧板下方设置,所述进料机构1处于非工作状态时,所述导向柱14位于所述导向轨道15的上部。

需要说明的是,竖直提升机构13与所述料斗12间的连接是通过转轴套接固定的,竖直提升机构13包括提升电机、提升块、连接杆和转轴,所述提升电机用于竖直驱动所述提升块上下移动,所述连接杆垂直于所述提升块的侧面水平设置,所述转轴固定在所述料斗12上,所述转轴套接在所述连接杆上构成转动连接。

系统在工作时,只需工人将装有胶塞的料框放置于料斗12上,需要上料时,竖直提升机构13工作,驱动所述料斗12上移,导向柱14卡在所述导向轨道15中,料斗12绕着所述转轴同时进行这转动,使得料斗12不断向所述料箱21的方向倾斜,料框中的胶塞物料不断倾倒至所述料箱21中,直至导向柱14运动导向轨道15的最下方是,料斗12中的料框内的物料全部倾倒完毕,完成胶塞的进料。另外在系统完成清洗出料后,只需工人再将物料取走即可,单机器只需一个人工,可见能够有效降低胶塞预洗过程中的人力成本的投入。

所述振动去渣机构3,包括振动箱体,振动去渣机构3的振动箱体的底部通过弹簧36固定在机架上,振动箱体的侧面设置有振动电机34,负压料桶22的出料口位于所述振动箱体的上方,所述振动箱体的顶部开口、底部设置有振动筛33,用于筛除胶塞中的废渣。

振动去渣机构3的振动箱体包括相连通的前箱体31和后箱体32,所述前箱体31与后箱体32基本位于同一水平高度上,所述前箱体31位于所述负压料桶22的出料口下方,所述后箱体32的底部设置有所述振动筛33,所述后箱体32的尾端侧板上开设有通往所述高压清洗机构4的送料口。为了能够有效向所述高压清洗机构4导引胶塞,所述后箱体32中设置有v形的导向板35,导向板35的开口端朝向所述后箱体32内,锥口端指向所述尾端侧板上的送料口。

高压清洗机构4用于对胶塞进行高压冲洗,在高压清洗机构4的尾端设置有出料口。在本实施例中,所述高压清洗机构4为双筒管式机构,包括同心设置的内筒41和外筒42,在所述外筒42内位于所述内筒41的外侧设置有若干个喷水用的喷管43,所述喷管43的喷射方向指向所述内筒41,所述内筒41的进料端与所述振动去渣机构3的送料口相连,所述内筒41为表面具有若干通孔的不锈钢管,所述外筒42为无孔不锈钢管。

为了能够实现对内筒41内的胶塞进行更全面的清洗,所述高压清洗机构4还包括旋转电机,所述旋转电机与所述内筒41相连,用于驱动所述内筒41在外筒42内旋转,所述外筒42固定在机架上且具有可开合的顶盖44,可开合的顶盖44便于用于对高压清洗机构4的内部清洗。

为了能够更好地利用水资源,防止浪费,所述高压清洗机构4下方设置有水循环机构5,高压清洗机构4中的管路通过进水管和出水管与水循环机构5进行连接,构成水路的循环利用。

综上可知,本发明的胶塞清洗预洗系统,其进料通过负压进行胶塞的吸取供料,再通过振动筛33等对胶塞中残留的碎屑进行去除,然后再通过高压喷淋水对胶塞进行清洗,进而完成胶塞的去渣及初步清洗,清洗效果好,且能够节省人工投入,降低生产成本。

上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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