盖玻片清洁小装置

文档序号:26042285发布日期:2021-07-27 13:53阅读:324来源:国知局
盖玻片清洁小装置

本实用新型涉及盖玻片清洁技术领域,尤其涉及盖玻片清洁小装置。



背景技术:

盖玻片是透明材料的薄且平的玻璃片,通常为方形或矩形,宽约20毫米(4/5英寸),厚为几分之一毫米,放置在用显微镜观察的物体上。物体通常放置在盖玻片和稍微较厚的显微镜载玻片之间,显微镜载玻片放置在显微镜的平台或滑块架上,并为物体和滑动提供物理支撑。

医检专业血细胞计数等实验课会大量用到盖玻片,而新买的或是用过想再次利用的盖玻片都很脏,大大增加了细胞计数的难度,为此,我们提出盖玻片清洁小装置解决上述问题。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的问题,而提出的盖玻片清洁小装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

盖玻片清洁小装置,包括清洗箱,所述清洗箱底部的四角处均固定安装有支撑腿,所述清洗箱的顶部盖设有盖板,所述清洗箱的顶部开设有供盖板穿过的开口,所述清洗箱的底部开设有排液口,所述排液口的内部固定安装有排液管,所述排液管延伸至清洗箱下方的一端上固定安装有排液阀,所述清洗箱的内部滑动连接有安装板,所述安装板的顶部固定安装有放置架,所述放置架的顶部等距开设有多个插口,所述插口的内部插接有盖玻片本体,所述安装板顶部的两侧均固定安装有连接杆,所述连接杆的顶部固定安装有拉环,所述盖板的底部固定安装有分布管,所述盖板上固定安装有第一连接管,所述第一连接管延伸至盖板下方的一端与分布管固定连接,所述第一连接管延伸至盖板上方的一端固定连接有三通接头a,所述盖板的顶部固定安装有安装台,所述安装台上固定安装有风机,所述风机的出风端固定连接有输风管,所述输风管上固定安装有控风阀,所述输风管远离风机的一端与三通接头a的顶部固定连接,所述三通接头a的一侧固定连接有第二连接管,所述第二连接管远离三通接头a的一端固定连接有三通接头b,所述三通接头b的顶部固定连接有输液管,所述输液管上固定安装有控液阀,所述三通接头b的底部固定连接有输水管,所述输水管上固定连接有控水阀,所述盖板的顶部固定安装有第一容器,所述第一容器上固定安装有第二容器,所述第一容器与第二容器的一侧均开设有加液口,所述第一容器的内部固定安装有水泵,所述输液管远离三通接头b的一端与第二容器固定连通,所述输水管远离三通接头b的一端延伸至第一容器的内部并与水泵的泵水端固定连接。

优选地,所述支撑腿的底部固定安装有防滑垫,所述防滑垫为橡胶材质。

优选地,所述盖板的外壁上固定安装有密封圈,所述密封圈与开口的内壁相互抵触。

优选地,所述盖板的两侧均固定安装有手柄,所述手柄上套设有防滑皮套。

优选地,所述安装板的两侧均固定安装有限位块,所述清洗箱两侧的内壁上均开设有供限位块滑动的限位槽。

优选地,所述限位块延伸至限位槽的一侧等距开设有多个镶嵌槽,所述镶嵌槽的内部嵌设有滚珠,所述滚珠与限位槽的内壁相互抵触。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、通过分布管、第一连接管、三通接头a、风机、输风管、控风阀、第二连接管、三通接头b、输液管、控液阀、第一容器、第二容器、加液口、输水管、控水阀和水泵的连接配合使用,能够对盖玻片本体进行消毒、清洗和风干,结构简单,操作方便,有利于盖玻片本体的循环使用。

2、通过安装板与放置架的配合能够避免多个盖玻片本体之间相互重叠,提高对多个盖玻片本体同时进行清洁时的清洁效果,同时也提高了清洁效率,拉动拉环通过连接杆的连接使安装板向上滑动,从而方便了盖玻片本体的取出,提高了清洁装置的实用性,有利于使用人员的使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的盖玻片清洁小装置的正视方向的剖面结构示意图;

图2为本实用新型提出的盖玻片清洁小装置的正视结构示意图;

图3为图1中a处的结构放大图。

图中:1、清洗箱;2、盖板;3、支撑腿;4、排液管;5、排液阀;6、安装板;7、限位块;8、滚珠;9、放置架;10、盖玻片本体;11、连接杆;12、拉环;13、密封圈;14、手柄;15、分布管;16、第一连接管;17、三通接头a;18、风机;19、输风管;20、控风阀;21、第二连接管;22、三通接头b;23、输液管;24、控液阀;25、第一容器;26、第二容器;27、加液口;28、输水管;29、控水阀;30、水泵;31、安装台。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图1-3,盖玻片清洁小装置,包括清洗箱1,清洗箱1底部的四角处均固定安装有支撑腿3,清洗箱1的顶部盖设有盖板2,清洗箱1的顶部开设有供盖板2穿过的开口,清洗箱1的底部开设有排液口,排液口的内部固定安装有排液管4,排液管4延伸至清洗箱1下方的一端上固定安装有排液阀5,清洗箱1的内部滑动连接有安装板6,安装板6的顶部固定安装有放置架9,放置架9的顶部等距开设有多个插口,插口的内部插接有盖玻片本体10,安装板6顶部的两侧均固定安装有连接杆11,连接杆11的顶部固定安装有拉环12,盖板2的底部固定安装有分布管15,盖板2上固定安装有第一连接管16,第一连接管16延伸至盖板2下方的一端与分布管15固定连接,第一连接管16延伸至盖板2上方的一端固定连接有三通接头a17,盖板2的顶部固定安装有安装台31,安装台31上固定安装有风机18,风机18的出风端固定连接有输风管19,输风管19上固定安装有控风阀20,输风管19远离风机18的一端与三通接头a17的顶部固定连接,三通接头a17的一侧固定连接有第二连接管21,第二连接管21远离三通接头a17的一端固定连接有三通接头b22,三通接头b22的顶部固定连接有输液管23,输液管23上固定安装有控液阀24,三通接头b22的底部固定连接有输水管28,输水管28上固定连接有控水阀29,盖板2的顶部固定安装有第一容器25,第一容器25上固定安装有第二容器26,第一容器25与第二容器26的一侧均开设有加液口27,第一容器25的内部固定安装有水泵30,输液管23远离三通接头b22的一端与第二容器26固定连通,输水管28远离三通接头b22的一端延伸至第一容器25的内部并与水泵30的泵水端固定连接。

其中,支撑腿3的底部固定安装有防滑垫,防滑垫为橡胶材质,通过防滑垫增大了支撑腿3底部的摩擦力,使清洗箱1的放置更加稳定。

其中,盖板2的外壁上固定安装有密封圈13,密封圈13与开口的内壁相互抵触,通过密封圈13起到很好的密封效果,避免在清洗的过程中出现液体泄漏的情况,且密封圈13与开口抵触增大了盖板2与开口之间的摩擦力,能够提高盖板2与清洗箱1连接的稳定性。

其中,盖板2的两侧均固定安装有手柄14,手柄14上套设有防滑皮套,通过手柄14增加了盖板2的受力点,使盖板2的开启更加方便,通过防滑皮套提高了手掌与手柄14的摩擦力,避免在出现打滑。

其中,安装板6的两侧均固定安装有限位块7,清洗箱1两侧的内壁上均开设有供限位块7滑动的限位槽,通过限位块7和限位槽的配合使用对安装板6的移动进行限位和导向,避免安装板6在移动的过程中位置发生偏移,提高了安装板6移动的稳定性。

其中,限位块7延伸至限位槽的一侧等距开设有多个镶嵌槽,镶嵌槽的内部嵌设有滚珠8,滚珠8与限位槽的内壁相互抵触,通过滚珠8将限位块7的滑动摩擦转换为滚动摩擦,减小了摩擦力,使限位块7的滑动更加流畅。

工作原理:本实用新型中,使用时首先将盖玻片本体10放置在放置架9上,然后将盖板2盖设于清洗箱1上,通过第二容器26上开设的加液口27对第二容器26的内部添加高锰酸钾,然后开启控液阀24使第二容器26内部的高锰酸钾流出,通过输液管23、三通接头b22、第二连接管21和第一连接管16的连接配合使高锰酸钾流入分布管15内,通过的分布管15分流使高锰酸钾均匀的与盖玻片本体10接触,对盖玻片本体10进行初步消毒,当高锰酸钾没过盖玻片本体10后关闭控液阀24,浸泡510min后,进一步对盖玻片本体10进行消毒,消毒完成后,开启排液阀5将清洗箱1内部的高锰酸钾通过排液管4排出,然后通过第一容器25上开设的加液口27对第一容器25的内部添加清水,同时开启控水阀29和水泵30,利用水泵30将第一容器25内部的清水泵送至输水管28内部,通过三通接头b22、第二连接管21、三通接头a17和第一连接管16的连接配合使清水流入分布管15内,通过分布管15的分流使清水均匀的与盖玻片本体10接触,对盖玻片本体10进行清洗,同时开启风机18和控风阀20,风机18启动对输风管19的内部吹起,通过三通接头a17和第一连接管16的连接使气体进入分布管15内,从而起到增压冲洗的效果,对盖玻片本体10的清洗效果更佳,清洗完成后,将水泵30和控水阀29关闭,利用风机18吹风对盖玻片本体10进行风干,风干完成后,将控风阀20与风机18关闭,操作人员手提手柄14将盖板2拆卸,拉动拉环12通过连接杆11的连接使安装板6向上滑动,从而方便了盖玻片本体10的取出,结构简单,操作方便,能够对盖玻片本体10进行消毒、清洗和风干,有利于盖玻片本体10的循环使用。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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