一种硅片清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及硅片清洗装置技术领域，具体涉及一种硅片清洗装置。


背景技术：

2.硅片是应用于半导体器件生产的基材，其表面的洁净度对器材的影响极大，关系到器材的成败，因此，对硅片表面清洗至关重要。硅片表面的杂质多种多样，污染源有有机物污染、无机物污染、颗粒污染等，这些杂质在硅片表面的粘附状态不同，导致对硅片的清洗并非一次即可完成，通常需要将硅片依次在多个清洗槽内清洗，才能使硅片表面清洁。
3.现有技术中，对硅片在多个清洗槽清洗时，采用人工进行放篮、取篮的过程，而在清洗过程中，由于清洗槽内多放有各种试剂，对人具有一定的伤害，因此，在清洗过程中，减少人工直接与硅片篮接触是硅片清洗研究的重要方向。另外，硅片篮自上一个清洗槽移至下一个清洗槽时，硅片篮会的底部会携带一定量的溶液，在硅片篮移动过程中会导致溶液四处洒落，不利于清洗环境整洁，而环境中的灰尘颗粒等杂质容易浮在硅片表面，因此，不利于保持硅片整洁。


技术实现要素：

4.针对现有技术的上述不足，本实用新型提供了一种硅片清洗装置，具体为一种设有电动推杆a、电动推杆b、硅片篮的底部设有汇液部的清洗装置。该清洗装置具有设置合理、使用方便的优点。使用该清洗装置时，不需要人工接受硅片篮；硅片篮中的硅片在经过清洗槽洗后，可通过汇液部将硅片篮中的残液汇聚并通过特定的渠道排出，有效保持环境卫生。
5.在现有技术的基础上，本实用新型提供了一种硅片清洗装置，包括龙门架、清洗部、硅片篮和运动部；
6.龙门架横跨于清洗部的上方；
7.所述运动部包括位于龙门架竖杆上的电动推杆a，电动推杆a水平伸缩；
8.所述龙门架的横杆设有两个，两个横杆之间有空隙；
9.在两个横杆的上面设有π形搁置板，搁置板横跨两个横杆，并沿横杆的长度移动；
10.所述运动部还包括电动推杆b，电动推杆b竖向伸缩；
11.电动推杆b位于搁置板的上面，电动推杆b的伸缩杆位于两个横杆的空隙之间，随搁置板一起沿横杆的长度方向移动；
12.所述硅片篮与电动推杆b的下端连接，电动推杆a和电动推杆b共同作用下，可使硅片篮水平运动和竖直运动，实现在清洗部依次清洗；
13.所述硅片篮的底部设有汇液部，汇液部由弧形板组成，汇液部将硅片篮的残液汇集，避免产生溶液过多洒落，维护环境卫生。
14.优选的，所述电动推杆b的下端连接有连接部，连接部与硅片篮上的挂耳连接，提高硅片篮升降过程中的稳定性。
15.优选的，在连接部的横板下面安装有进气管，进气管连接有喷头，当硅片篮与电动推杆b连接时，喷头朝向硅片篮的内部；向进气管内通入洁净气体，气体对硅片篮中的硅片喷扫，促进残液汇集到汇液部，进一步减少残液洒落。
16.优选的，在硅片篮中还设有漏网，漏网位于汇液部的上面，提高残液的排出效率。
17.优选的，所述清洗部包括依次设置的清洗槽，每个清洗槽内根据需求放置不同的溶液，以对硅片进行阶梯式清洗；在相邻清洗槽之间设置排液槽，清洗后，硅片篮的残液自排液槽排出。
18.优选的，所述清洗槽内均安装有气体管，气体管与洁净气体连接；通过通入气体，强制清洗槽内的液体流动，进而随着液体流动对硅片表面清洁，提高硅片的清洁效率和硅片表面的洁净度。
19.相对于现有技术，本实用新型的有益效果在于，通过设置电动推杆a和电动推杆b，并将硅片篮连接有电动推杆b的下端，在电动推杆a和电动推杆b的作用下，带动硅片篮水平运动和竖直运动，实现在不需要人工的情况下，硅片篮在清洗部中依次清洗；通过在硅片篮的底部设置汇液部，可对清洗后硅片上、硅片篮上的残液进行汇集，避免残液四处洒落，提高清洗装置周围的洁净度；上述设置，使该清洗装置具有设置合理、使用方便的优点。
附图说明
20.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
21.图1为本实用新型的结构示意图。
22.图中，1
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龙门架，201
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清洗槽，3
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硅片篮，401
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电动推杆a，402
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电动推杆b，5
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排液槽，6
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气体管，7
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横杆，8
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搁置板，9
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连接部，10
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挂耳，11
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进气管，12
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喷头，13
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汇液部，14
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漏网。
具体实施方式
23.为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
24.如图1所示，本实用新型提供了一种硅片清洗装置，包括龙门架1、清洗部、硅片篮3和运动部；
25.龙门架1横跨于清洗部的上方；
26.清洗部包括依次设置的清洗槽201，本发明中，设置有3个清洗槽201，在相邻清洗槽201之间设置排液槽5，清洗后，硅片篮3的残液自排液槽5排出；本技术中设置3个清洗槽201，清洗槽201内自左向右依次放置的洗液为spm洗液、超纯水、dhf洗液；硅片经过清洗后，可达到洁净目的；
27.清洗槽201内均安装有气体管6，气体管6与洁净气体连接；通过通入气体，强制清
洗槽201内的液体流动，进而随着液体流动对硅片表面清洁，提高硅片的清洁效率和硅片表面的洁净度；
28.运动部包括位于龙门架1竖杆上的电动推杆a401，电动推杆a401水平伸缩；
29.龙门架1的横杆7设有两个，两个横杆7之间有空隙；
30.在两个横杆7的上面设有π形搁置板8，搁置板8横跨两个横杆7，并沿横杆7的长度移动；
31.运动部还包括电动推杆b402，电动推杆b402竖向伸缩；
32.电动推杆b402位于搁置板8的上面，电动推杆b402的伸缩杆位于两个横杆7的空隙之间，随搁置板8一起沿横杆的长度方向移动；
33.在电动推杆b402的下端连接有连接部9，连接部9与硅片篮3上的挂耳10连接，提高硅片篮3升降过程中的稳定性；电动推杆a401和电动推杆b402共同作用下，可使硅片篮3水平运动和竖直运动，实现在清洗槽201中依次清洗；
34.在连接部9的横板下面安装有进气管11，进气管11连接有喷头12，当硅片篮3与电动推杆b402连接时，喷头12朝向硅片篮3的内部；向进气管11内通入洁净气体，气体对硅片篮3中的硅片喷扫；
35.硅片篮3的底部设有汇液部13，汇液部13由弧形板组成，汇液部13将硅片篮3的残液汇集到汇液部13，避免产生溶液过多洒落，维护环境卫生；
36.在硅片篮3上还设置有夹片，夹片中间有放置槽，将硅片的边缘置入放置槽内，实现对硅片夹持；
37.在硅片篮3中还设有漏网14，漏网14位于汇液部13的上面，提高残液的排出效率。
38.以上对本实用新型进行了详细介绍。本实施例中的“上”、“下”、“左”和“右”是相对说明书附图中的位置说明的。尽管通过参考附图并结合优选实施例的方式对本实用新型进行了详细描述，但本实用新型并不限于此。在不脱离本实用新型的精神和实质的前提下，本领域普通技术人员可以对本实用新型的实施例进行各种等效的修改或替换，而这些修改或替换都应在本实用新型的涵盖范围内/任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。