一种超声波除尘装置的制作方法

文档序号:27936490发布日期:2021-12-11 12:45阅读:411来源:国知局
一种超声波除尘装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种超声波除尘装置,属于薄膜加工领域。


背景技术:

2.薄膜在制造与再加工的过程中,其表面会粘附微小颗粒,为保证产品质量,通常需要对薄膜表面进行除尘处理。薄膜表面除尘的方式主要有接触式除尘(例如擦拭、掸刷、粘除等)和非接触式除尘(例如吹扫、抽吸等)两类。现有的非接触平衡式的除静电吹吸除尘方式:通常采用正压风机对薄膜的两面的进行吹扫除尘,但是正压风机输出的风力太大,从而导致薄膜材料大幅度震动,导致薄膜除尘效果欠佳。另外,正压风输出的开口会把吹起带尘土污染物从该除尘装置正压外泄,导致装置周边生产环境变差,达不到高洁净度要求,效率较低,满足不了高生产率的需求。


技术实现要素:

3.本实用新型提供一种超声波除尘装置,旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。
4.本实用新型的技术方案为一种超声波除尘装置,包括:设置在下方一侧的第一除尘机构,所述第一除尘机构包括第一超声波发生器及设置在所述第一超声波发生器的两侧相邻的一对第一负压吸风口;设置在所述第一除尘机构上方的第二除尘机构,所述第二除尘机构包括第二超声波发生器及设置在所述第二超声波发生器的两侧相邻的一对第二负压吸风口;其中,所述第一除尘机构及所述第二除尘机构之间留有空隙形成薄膜输送通道,其中,所述第一超声波发生器与所述第二超声波发生器互相对应设置,所述第一负压吸风口与所述第二负压吸风口互相对应设置。
5.进一步,还包括第一除静电消除机构;第二除静电消除机构;其中,所述第一除静电消除机构及所述第二除静电消除机构分别设置在所述薄膜输送通道的输入口及输出口附近。
6.进一步,所述第一除静电消除机构包括第一上除静电消除器及第一下除静电消除器;所述第二除静电消除机构包括第二上除静电消除器及第二下除静电消除器;其中,所述第一上除静电消除器及所述第一下除静电消除器分别安装在所述薄膜输送通道的输入口的上方及下方,并且其中,所述第二上除静电消除器及所述第二下除静电消除器分别安装在所述薄膜输送通道的输出口的下方及下方。
7.进一步,还包括用于调整所述薄膜输送通道空隙高度的限位气缸,上机架,所述第一除尘机构固定在所述上机架的底部,下机架,所述第二除尘机构固定在所述下机架的顶部,其中,所述上机架及所述下机架上、下对应设置,并且其中,所述下机架的两侧分别与所述限位气缸的底端固定连接,所述上机架的两侧分别与所述限位气缸的顶端固定连接。
8.进一步,还包括负压风机;管道机构,所述管道机构包括一对第一管道、安装在所述第一管道内的第一滤网、一对第二管道、安装在所述第二管道内的第二滤网;其中,所述
负压风机通过分风器分别与所述第一管道及所述第二管道连通,并且其中,所述第一管道与所述第一负压吸风口连通,所述第二管道与所述第二负压吸风口连通。
9.进一步,还包括:控制机构,所述控制机构包括第一气压传感器、第二气压传感器及控制器,其中,所述第一气压传感器及所述第二气压传感器安装在所述薄膜输送通道的输入口或输出口的上方及下方附近,其中,所述控制器的控制输入端分别与所述第一气压传感器、所述第二气压传感器电性连接。
10.一种超声波除尘装置,包括:设置在下方一侧的第一除尘机构,所述第一除尘机构包括第一负压吸风口及设置在所述第一负压吸风口的两侧相邻的一对第一超声波发生器;设置在所述第一除尘机构上方的第二除尘机构,所述第二除尘机构包括第二负压吸风口及设置在所述第二负压吸风口的两侧相邻的一对第二超声波发生器;其中,所述第一除尘机构及所述第二除尘机构之间留有空隙形成薄膜输送通道,其中,所述第一超声波发生器与所述第二超声波发生器互相对应设置,所述第一负压吸风口与所述第二负压吸风口互相对应设置,
11.进一步,还包括:第一除静电消除机构;第二除静电消除机构;其中,所述第一除静电消除机构及所述第二除静电消除机构分别设置在所述薄膜输送通道的输入口及输出口附近。
12.本实用新型的有益效果如下。
13.1、薄膜块在经过薄膜输送通道中时,薄膜两面对应的第一超声波发生器及第二超声波发生器均产生超声波,超声波频率使薄膜周边的空气震动,使薄膜表面微小的灰尘颗粒脱离材料表面,灰尘颗粒通过超声波发生器两侧的负压吸风口被吸走,高效对薄膜的灰尘进行清除。
14.2、相对现有技术下采用的正压风机对薄膜进行吹扫作业,上述装置通过超声波震动空气时并不会引起薄膜材料大幅度震动;同时本装置使用的负压风机只执行吸走污染灰尘的作用,并不会使薄膜的灰尘从薄膜输送通道向外泄,导致周边的生产环境变差。
15.3、薄膜在穿过薄膜输送通道前,上、下分布的除静电消除器先对薄膜的表面进行除静电操作,使沾染在膜上的灰尘在超声波的作用下更容易脱离,有效提高薄膜除尘的洁净度。
16.4、薄膜在穿过薄膜输送通道后,为了使除尘后的薄膜受到二次污染,上、下分布的除静电消除器再一次对薄膜进行除静电作业,使除尘后的薄膜不容易沾染灰尘。
17.5、根据除尘作业的需求可以通过限位气缸调整薄膜输送通道的高度,灵活调整除尘生产需求。
18.6、一对超声波发生器之间还可以设置负压吸风口,一对超声波发生器震动空气能够对薄膜输送通道中大面积范围的薄膜带出灰尘,中间的负压吸风口能够吸收膜上大面积的灰尘。
附图说明
19.图1是根据本实用新型的实施例一的结构示意图。
20.图2是根据本实用新型的实施例一的俯视结构示意图。
21.图3是根据本实用新型的控制机构的连接关系图。
22.图4是根据本实用新型的实施例二的结构示意图。
23.图5是根据本实用新型的实施例二的俯视结构示意图。
具体实施方式
24.以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整的描述,以充分地理解本实用新型的目的、方案和效果。需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
25.需要说明的是,如无特殊说明,当某一特征被称为“固定”、“连接”在另一个特征,它可以直接固定、连接在另一个特征上,也可以间接地固定、连接在另一个特征上。此外,本实用新型中所使用的上、下、左、右、顶、底等描述仅仅是相对于附图中本实用新型各组成部分的相互位置关系来说的。
26.此外,除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与本技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例,而不是为了限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的组合。
27.应当理解,尽管在本公开可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种元件,但这些元件不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的元件彼此区分开。例如,在不脱离本公开范围的情况下,第一元件也可以被称为第二元件,类似地,第二元件也可以被称为第一元件。
28.参照图1至3,在一些实施例中,根据本实用新型的一种超声波除尘装置。参照图1本装置的剖视图:包括设置在下方一侧的第一除尘机构,所述第一除尘机构包括第一超声波发生器110及设置在所述第一超声波发生器110的两侧相邻的一对第一负压吸风口120。
29.参照图1,设置在所述第一除尘机构上方的第二除尘机构,所述第二除尘机构包括第二超声波发生器210及设置在所述第二超声波发生器210的两侧相邻的一对第二负压吸风口220。
30.参照图1,所述第一除尘机构及所述第二除尘机构之间留有空隙形成薄膜输送通道300。
31.参照图1,第一除尘机构与第二除尘机构相对应安装设置,具体结构如下。所述第一超声波发生器110与所述第二超声波发生器210互相对应设置,所述第一负压吸风口120与所述第二负压吸风口220互相对应设置。
32.操作人员把要除尘作业的薄膜卷装载在第一卷轴30上,薄膜块绕过第一转轴10,穿过薄膜输送通道300,再绕过第二转轴20,最后通过第二卷轴40收起再装载。薄膜块在经过薄膜输送通道300中时,薄膜两面对应的第一超声波发生器及第二超声波发生器均产生超声波,超声波频率使薄膜周边的空气震动,使薄膜表面微小的灰尘颗粒脱离材料表面,灰尘颗粒通过超声波发生器两侧的负压吸风口被吸走,高效对薄膜的灰尘进行清除。相对现有技术下采用的正压风机对薄膜进行吹扫作业,上述装置通过超声波震动空气时并不会引起薄膜材料大幅度震动;同时本装置使用的负压风机只执行吸走污染灰尘的作用,并不会使薄膜的灰尘从薄膜输送通道向外泄,导致周边的生产环境变差。
33.继续参照图1,该除尘机构还包括第一除静电消除机构及第二除静电消除机构。所
述第一除静电消除机构及所述第二除静电消除机构分别设置在所述薄膜输送通道300的输入口及输出口附近。
34.所述第一除静电消除机构包括第一上除静电消除器410及第一下除静电消除器420;所述第二除静电消除机构包括第二上除静电消除器510及第二下除静电消除器520。
35.参照图1,第一除静电消除机构具体安装的位置如下:所述第一上除静电消除器410及所述第一下除静电消除器420分别安装在所述薄膜输送通道300的输入口的上方及下方。薄膜在穿过薄膜输送通道300前,上、下分布的除静电消除器先对薄膜的表面进行除静电操作,使沾染在膜上的灰尘在超声波的作用下更容易脱离,有效提高薄膜除尘的洁净度。
36.参照图1,第二除静电消除机构具体安装的位置如下:所述第二上除静电消除器510及所述第二下除静电消除器520分别安装在所述薄膜输送通道300的输出口的下方及下方。薄膜在穿过薄膜输送通道300后,为了使除尘后的薄膜受到二次污染,上、下分布的除静电消除器再一次对薄膜进行除静电作业,使除尘后的薄膜不容易沾染灰尘。
37.参照图1,本除尘装置进行进一步的改进,该装置还包括用于调整所述薄膜输送通道300空隙高度的限位气缸600。
38.如图中,第一除尘机构配置上机架700固定安装,所述第一除尘机构固定在所述上机架700的底部。第二除尘机构配置下机架800,所述第二除尘机构固定在所述下机架800的顶部。所述上机架700及所述下机架800上、下对应设置,
39.限位气缸配合两个机架安装,所述下机架800的两侧分别与所述限位气缸600的底端固定连接,所述上机架700的两侧分别与所述限位气缸600的顶端固定连接。根据除尘作业的需求可以通过限位气缸调整薄膜输送通道的高度,灵活调整除尘生产需求。
40.参照图1、图2,该超声波除尘装置的管道具体结构如下:包括负压风机及管道机构,所述管道机构包括一对第一管道910、安装在所述第一管道910内的第一滤网(图中未标出)、一对第二管道930、安装在所述第二管道930内的第二滤网(图中未标出)。所述负压风机(图中未标出)通过分风器(图中未标出)分别与所述第一管道910及所述第二管道930连通,针对第一管道和第二管道两个管道,负压风机可以通过分风器一侧的主接头连通,分风器另外一侧的两个分接头分别连通第一管道和第二管道,所述第一管道910与所述第一负压吸风口120连通,所述第二管道930与所述第二负压吸风口220连通。从两个负压吸风口吸到薄膜的灰尘通过管道到滤网收集,避免灰尘从管道漏出污染生产环境。
41.参照图2、图3,该除尘装置还包括控制机构,所述控制机构包括第一气压传感器1100、第二气压传感器1200及控制器1300。
42.参照图2,所述第一气压传感器1100及所述第二气压传感器1200安装在所述薄膜输送通道300的输入口或输出口的上方及下方附近。图中看出薄膜输送通道的输出口的上、下方安装上述一对气压传感器。
43.参照图3,所述控制器1300的控制输入端分别与所述第一气压传感器1100、所述第二气压传感器1200电性连接。两个位置的传感器可以通过收集气压传感器的数据,通过控制器得知两个气压传感器的数值,达到实时监控生产气压数据的作用。
44.参照图4及图5,本实用新型还公开一种超声波除尘装置,包括设置在下方一侧的第一除尘机构,所述第一除尘机构包括第一负压吸风口120及设置在所述第一负压吸风口120的两侧相邻的一对第一超声波发生器110。
45.参照图4,设置在所述第一除尘机构上方的第二除尘机构,所述第二除尘机构包括第二负压吸风口220及设置在所述第二负压吸风口220的两侧相邻的一对第二超声波发生器210。
46.参照图4、图5,所述第一除尘机构及所述第二除尘机构之间留有空隙形成薄膜输送通道300,所述第一超声波发生器110与所述第二超声波发生器210互相对应设置,所述第一负压吸风口120与所述第二负压吸风口220互相对应设置。
47.图4实施例的除尘装置与图1类似,该实施例中的一对超声波发生器之间设置负压吸风口,一对超声波发生器震动空气能够对薄膜输送通道中大面积范围的薄膜带出灰尘,中间的负压吸风口能够吸收膜上大面积的灰尘。同时也兼备图1装置的有益效果。
48.参照图4,除尘装置按照图1的位置设置除静电消除机构,所述第一除静电消除机构及所述第二除静电消除机构分别设置在所述薄膜输送通道300的输入口及输出口附近。薄膜在穿过薄膜输送通道300前,上、下分布的除静电消除器先对薄膜的表面进行除静电操作,使沾染在膜上的灰尘在超声波的作用下更容易脱离,有效提高薄膜除尘的洁净度。薄膜在穿过薄膜输送通道300后,为了使除尘后的薄膜受到二次污染,上、下分布的除静电消除器再一次对薄膜进行除静电作业,使除尘后的薄膜不容易沾染灰尘。
49.以上所述,只是本实用新型的较佳实施例而已,本实用新型并不局限于上述实施方式,只要其以相同的手段达到本实用新型的技术效果,凡在本公开的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本公开保护的范围之内。都应属于本实用新型的保护范围。在本实用新型的保护范围内其技术方案和/或实施方式可以有各种不同的修改和变化。
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