用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置及方法与流程

文档序号:31030547发布日期:2022-08-06 01:54阅读:154来源:国知局
用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置及方法与流程

1.本发明涉及电路板加工技术领域,具体为用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置及方法。


背景技术:

2.在印刷电路板制造工艺中,蚀刻工艺占有很重的位;伴随着电子产品向小型化、多功效化发展,印制电路板设计密度更高、导线更细、孔径更小,加工难度不停增大;而且蚀刻过程中,产生的废液也是处理的难题之一。
3.现有的电路板在蚀刻过程中,会产生大量的废液,废液中存在大量的重金属离子,例如铜离子,需要对废液进行电离处理,使得重金属离子被转换成重金属颗粒,再进行回收。
4.但本技术发明人在实现本技术实施例中发明技术方案的过程中,发现上述技术至少存在如下技术问题:
5.现有的电离技术只能够实现对废液的静态电离,而且对废液中的重金属颗粒的收集时,采用简单的磁性材料吸附处理手段进行处理,由于吸附的重金属颗粒较多时,容易造成管路堵塞以及吸附强度降低,影响重金属颗粒的采集效率。
6.基于此,本发明设计了用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置及方法,以解决上述问题。


技术实现要素:

7.本发明的目的在于提供用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置及方法,以解决上述背景技术中提出的现有的背景技术提及的技术问题。
8.为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
9.用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置,其特征在于,包括:用于沿废液输送方向逐层电离处理的电离部;以及滤出部,将电离出的重金属颗粒吸附、脱料、排出废液输送区的所述滤出部布置在所述电离部的下方;若干组所述滤出部相互连通布置。
10.进一步的,所述电离部包括:电离罐;层电离组件,用于分层电离废液的所述层电离组件沿所述电离罐高度方向依次布置;以及第一滴漏调控组件,调整进入所述电离罐的废液处于逐滴下落状态的所述第一滴漏调控组件布置在所述电离罐的顶部一侧。
11.进一步的,所述层电离组件包括:电离座,所述电离座为锥状结构;布置在所述电离座顶部的电离池;设于所述电离座底部一侧且用于调整废液向下滴落速度的第二滴落调节组件;以及下落通道,螺旋连通至所述第二滴落调节组件的下落通道与所述电离池相连通。
12.进一步的,所述第二滴落调节组件包括:开设于所述电离座底部的滴落腔室;将所述滴落腔室与所述下落通道下落底部相连通的下料进道;以及将所述滴落腔室与所述电离座的底部外侧相连通且使废液形成液滴的第二滴落接头。
13.进一步的,所述第二滴落接头的内腔下端为径向尺寸不断减小的锥状结构。
14.进一步的,所述第一滴漏调控组件包括:设于所述电离罐上方的调压阀;以及安装于所述电离罐内且与所述调压阀相连通且用于使废液形成滴落状态的第一滴落接头。
15.进一步的,所述第一滴落接头的内腔下端为径向尺寸不断减小的锥状结构。
16.进一步的,所述滤出部包括:壳体,所述壳体的两侧均设有连通通道;安装在所述壳体内且边部均匀布置有吸附腔室的吸附柱;沿所述吸附柱往复滑动且穿过所述吸附腔室的过滤件;以及布置在所述壳体两端且与所述吸附柱相对应的排出组件;所述排出组件用于收集重金属颗粒并控制排出;所述吸附柱转动带动若干组所述吸附腔室经过废液输入的连通通道。
17.进一步的,所述吸附柱为磁性体。
18.进一步的,所述排出组件包括:收集腔室;滑动布置在所述收集腔室内的隔离件;以及设于所述收集腔室底部的电磁排放门;所述隔离件的底部一侧布置有下排腔道。
19.本发明实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
20.1、本发明通过电离部和若干组滤出部之间的相互配合,使得废液被逐层电离后,再被连续式的重金属吸附滤出,从而保证了对废液的连续式的污染物处理;
21.2、本发明通过电离部对废液的逐层电离的电离设计,使废液被减缓下落速度并依次经过层电离组件完成缓慢的逐层电离处理,从而在保证电离质量的同时,还能够实现对废液的连续式处理;
22.3、本发明通过滤出部对废液的过滤设计,使得吸附的重金属颗粒能够继续的输导排出,解决了重金属颗粒吸附过多导致的吸附堵塞以及吸附强度降低的技术问题
23.综上述所,本发明具有重金属颗粒污染物处理效果好且处理效率高等优点。
附图说明
24.为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1为本发明结构示意图;
26.图2为本发明电离罐的结构示意图;
27.图3为本发明电离罐的剖视图;
28.图4为本发明滤出部视图;
29.图5为本发明沿壳体长度方向的剖视图;
30.图6为本发明沿壳体径向方向的剖视图。
具体实施方式
31.下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
32.实施例一
33.如图1所示,用于电路板可拦截重金属颗粒的污染物去除装置,包括:
34.用于沿废液输送方向逐层电离处理的电离部1;以及
35.滤出部2,将电离出的重金属颗粒吸附、脱料、排出废液输送区的所述滤出部2布置在所述电离部1的下方;
36.若干组所述滤出部2相互连通布置。
37.通过上述内容不难发现,在进行电路板蚀刻形成污水的处理过程中,先通过利用可实现逐层依次电离的电离部1对废液进行电离处理后,混杂有电离析出的重金属颗粒会通过滤出部2吸附重金属颗粒,并不断的排出重金属颗粒,对废液完成连续的过滤动作,以解决过滤过程中重金属颗粒对滤出部2的封堵,以及因重金属颗粒大量吸附在滤出部2上,影响滤出部2对连续输送的废液对中技术颗粒的吸附处理。
38.值得注意的是,通过利用滤出部2之间的相互连通布置,可以实现经过多次滤出处理,充分降低重金属颗粒存在废液中的含量。
39.如图2和3所示,所述电离部1包括:
40.电离罐11;
41.层电离组件12,用于分层电离废液的所述层电离组件12沿所述电离罐11高度方向依次布置;以及
42.第一滴漏调控组件13,调整进入所述电离罐11的废液处于逐滴下落状态的所述第一滴漏调控组件13布置在所述电离罐11的顶部一侧;
43.在本实施例中,经电离部1电离过后的废液会进入至电离罐11中,并且在进入时,会使得第一滴漏调控组件13降低废液进入最顶层的层电离组件12的速冻,从而在各层的层电离组件12的共同作用下,实现逐层电离处理废液。
44.如图2所示,所述电离罐11包括用于电离处理的罐体111以及安装在罐体111顶部且用于下落废液的连接管112。
45.值得说明的是,为了保证废液的滴落处理,所述连接管112的顶部还设置有用于存放废液的罐(图中未示出)。
46.如图3所示,所述层电离组件12包括:
47.电离座121,所述电离座121为锥状结构;
48.布置在所述电离座121顶部的电离池122;
49.设于所述电离座121底部一侧且用于调整废液向下滴落速度的第二滴落调节组件123;以及
50.下落通道124,螺旋连通至所述第二滴落调节组件123的下落通道124与所述电离池122相连通;
51.在本实施例中,层电离组件12在进行电离过程中,废液会经过第一滴漏调控组件13下落至电离池122中进行电离处理,后经下落通道124连续式的下落至第二滴落调节组件123,后经第二滴落调节组件123下落至下一组的电离池122中进行再次电离处理,后再经下落通道124缓慢的下落,进而实现了连续式的逐层电离处理。
52.如图3所示,所述第二滴落调节组件123包括:
53.开设于所述电离座121底部的滴落腔室1231;
54.将所述滴落腔室1231与所述下落通道124下落底部相连通的下料进道1232;以及
55.将所述滴落腔室1231与所述电离座121的底部外侧相连通且使废液形成液滴的第二滴落接头1233;
56.在本实施例中,经下落通道124并经过下落进道1232进入至滴落腔室1231中,并通过第二滴落接头1233完成对下一级的电离池122的逐滴下落动作。
57.优选的,所述第二滴落接头1233的内腔下端为径向尺寸不断减小的锥状结构;
58.在本实施例中,通过利用该径向尺寸不断减小锥状结构的第二滴落接头1233,可以减慢废液的下落速度,从而使废液处于滴落状态下落。
59.如图3所示,所述第一滴漏调控组件13包括:
60.设于所述电离罐11上方的调压阀131;以及
61.安装于所述电离罐11内且与所述调压阀131相连通且用于使废液形成滴落状态的第一滴落接头132;
62.在本实施例中,通过利用调压阀131可以实现对下落的废液流动压力进行调控,从而使得废液能够在无压状态下经过第一滴落接头132向下滴落。
63.优选的,所述第一滴落接头132的内腔下端为径向尺寸不断减小的锥状结构;
64.在本实施例中,通过利用该径向尺寸不断减小锥状结构的第一滴落接头132,可以减慢废液的下落速度,从而使废液处于滴落状态下落。
65.实施例二
66.如图4和5所示,其中与实施例一中相同或相应的部件采用与实施例一相应的附图标记,为简便起见,下文仅描述与实施例一的区别点。该实施例二与实施例一的不同之处在于:
67.所述滤出部2包括:
68.壳体21,所述壳体21的两侧均设有连通通道211;
69.安装在所述壳体21内且边部均匀布置有吸附腔室221的吸附柱22;
70.沿所述吸附柱22往复滑动且穿过所述吸附腔室221的过滤件23;以及
71.布置在所述壳体21两端且与所述吸附柱22相对应的排出组件24;
72.所述排出组件24用于收集重金属颗粒并控制排出;
73.所述吸附柱22转动带动若干组所述吸附腔室221经过废液输入的连通通道211;
74.在本实施例中,滤出部2在滤出重金属颗粒的过程中,会通过输入废液的连通通道211进入,并通过另一侧的连通通道211排出,在经过吸附柱22时,会通过利用吸附腔室221完成对重金属颗粒的吸附处理,并且通过吸附柱22的转动处理,通过其他的吸附腔室221进行收集,可以解决单一的吸附腔室221吸附过多重金属颗粒导致的堵塞以及吸附强度降低,并且通过过滤件23将吸附腔室221中吸附的重金属颗粒推送至排出组件24一侧,进而再通过排出组件24将重金属颗粒排出处理。
75.为了实现吸附柱22的转动动作,所述吸附柱22的一侧还设有卡设在所述壳体21一侧的转动套222以及安装在所述机壳21上且动力端与所述转动套222相连接的动力电机223,所述动力电机223优选为伺服电机,所述转动套222与所述吸附柱22相连接。
76.为了实现过滤件23的移动动作,所述过滤件23的一侧通过推杆231穿过所述转动套222,所述转动套222上安装有动力端与所述推杆231相连接的推杆电机232。
77.作为优选,所述吸附柱22为磁性体;
78.在本实施例中,通过利用磁性的吸附柱22,可以磁性吸引的方式来实现对重金属颗粒的吸附处理。
79.如图5和6所示,所述排出组件24包括:
80.收集腔室241;
81.滑动布置在所述收集腔室241内的隔离件242;以及
82.设于所述收集腔室241底部的电磁排放门243;
83.所述隔离件242的底部一侧布置有下排腔道2421;
84.在本实施例中,排出组件24在进行排出动作时,过滤件23将重金属颗粒推送至收集腔室241中,并且通过隔离件242朝向收集腔室241的另一侧移动,从而使得下排腔道2421和收集腔室241内壁构成密封空间,进而打开电磁排放门243,实现放料处理。
85.为了实现隔离件242的来回往复移动,所述壳体21上还安装有用于推动隔离件242移动的推送件(图中未示出),所述推送件优选为推杆电机。
86.在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
87.以上公开的本发明优选实施例只是用于帮助阐述本发明。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施方式。显然,根据本说明书的内容,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本发明。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
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