基片处理装置和液更换方法与流程

1.本发明涉及基片处理装置和液更换方法。


背景技术：

2.已知一种浸渍式清洗装置，其根据供给至药液处理槽的药液的供给流量和供给时间来计算各药液的总投入量，根据计算出的各药液的总投入量求取混合比而计算药液浓度(例如，参照专利文献1)。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2008-306089号公报


技术实现要素：

6.发明要解决的技术问题
7.本发明提供能够缩短处理液的更换所需时间的技术。
8.用于解决技术问题的技术方案
9.本发明的一个方式的基片处理装置包括：利用以第一混合比包含药液和替换液的处理液对基片实施液处理的处理槽；使从上述处理槽内取出的上述处理液返回至上述处理槽内的循环流路；向上述处理槽内和上述循环流路内的至少任一者单独地供给上述药液和上述替换液的液供给部；以及控制装置，上述控制装置构成为在用上述替换液对上述处理槽内和上述循环流路内进行了清洗后，能够控制上述液供给部，以使得以上述替换液相对于上述药液的比例比上述第一混合比低的第二混合比供给上述药液和上述替换液。
10.发明效果
11.依照本发明，能够缩短处理液的更换所需的时间。
附图说明
12.图1是表示实施方式的基片处理装置的一个例子的剖面图。
13.图2是图1的基片处理装置的另一剖面图。
14.图3是表示控制装置的功能结构的一个例子的图。
15.图4是表示调节参数的计算方法的一个例子的图。
16.图5是表示液更换处理的一个例子的流程图。
17.图6是表示控制装置的功能结构的另一个例子的图。
18.图7是表示调节参数的计算方法的另一个例子的图。
19.图8是表示液更换处理的另一个例子的流程图。
20.图9是表示控制装置的功能结构的又一个例子的图。
21.图10是表示调节参数的计算方法的又一个例子的图。
22.图11是表示液更换处理的又一个例子的流程图。
23.图12是表示对处理液的温度和h2o2浓度进行测定而得到的结果的图。
24.附图标记说明
[0025]1ꢀꢀꢀ
基片处理装置
[0026]2ꢀꢀꢀ
处理模块
[0027]
210 处理槽
[0028]
220 液供给部
[0029]
241 循环流路
[0030]9ꢀꢀꢀ
控制装置
[0031]wꢀꢀꢀ
基片。
具体实施方式
[0032]
下面，参照附图，对本发明的非限定性的作为例示的实施方式进行说明。在全部附图中，对相同或对应的部件或零件，标注相同或对应的附图标记，并省略重复的说明。
[0033]
[液更换时的处理液的药液浓度]
[0034]
将多个基片一并浸渍在贮存了以第一混合比包含药液和去离子水(diw)的处理液的处理槽中，利用该处理液对多个基片实施液处理的批次式基片处理装置中，利用与处理槽连接的循环流路使处理槽内的处理液循环。在该基片处理装置中，处理槽内贮存的处理液被定期地更换(下面称为“液更换处理”。)。液更换处理包括第一液更换处理和第二液更换处理。在液更换处理后，在处理槽内贮存的处理液中浸渍基片。
[0035]
第一液更换处理是将处理槽内贮存的旧(当前使用中的)处理液更换为相同规格(种类、浓度等)的新处理液的处理。第一液更换处理例如在通常的运用时进行。在第一液更换处理中，首先，排出处理槽内贮存的旧处理液，接着将相同规格的新处理液供给至处理槽内，接着将供给至处理槽内的新处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度。在第一液更换处理中，在向处理槽内供给新处理液前的处理槽内和循环流路内，包含药液成分的液作为残液残留在其中。因此，在刚对处理槽内供给新处理液后处理槽内的处理液的药液浓度几乎不下降。其结果是，在短时间内处理液的药液浓度达到设定浓度。
[0036]
第二液更换处理是排出处理槽内贮存的旧处理液并进行diw清洗，由此将处理槽内贮存的diw更换为新处理液的处理。关于diw清洗，在后文说明。第二液更换处理例如在定期维护时，在第一液更换处理的实施次数达到了设定次数的情况下进行。在第二液更换处理中，首先，从处理槽内排出diw，接着将与旧处理液相同规格的新处理液供给至处理槽内，接着将供给至处理槽内的新处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度。在第二液更换处理中，在向处理槽内供给新处理液前的处理槽内和循环流路内，几乎不包含药液成分的液(diw)作为残液残留在其中。因此，当不考虑残液的量而以与旧处理液相同的药液浓度将新处理液供给至处理槽内时，在刚供给新处理液后处理槽内的处理液的药液浓度因残液而被稀释，处理槽内的处理液的药液浓度下降。其结果是，从向处理槽内供给新处理液起至处理液的药液浓度达到设定浓度为止的时间变长。尤其是，当处理槽和循环流路的容量变大时，处理槽内和循环流路内残留的残液的量变多，因此至处理液的药液浓度达到设定浓度为止的时间变得更长。
[0037]
作为一个例子，说明在作为处理液贮存sc1(nh4oh/h2o2/h2o)的处理槽中，对进行
了第二液更换处理时的处理槽内的处理液的温度和处理槽内的处理液的h2o2浓度进行测定而得到的结果。
[0038]
图12是表示对在第二液更换处理中以第一混合比供给nh4oh、h2o2及h2o时的处理液的温度和h2o2浓度进行测定而得到的结果的图。图12中，横轴表示时间，第一(左侧)纵轴表示处理槽内的处理液的温度，第二(右侧)纵轴表示处理槽内的处理液的h2o2浓度。
[0039]
在图12中，时刻t1表示开始从处理槽内排出diw的时刻。时刻t2表示开始向处理槽内供给新处理液(nh4oh、h2o2和h2o)的时刻。时刻t3表示刚开始向处理槽内供给新处理液后的、开始进行将被供给到处理槽内的新处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度的循环温度调节的时刻。时刻t4表示处理槽内的处理液的温度达到了设定温度的时刻。时刻t5表示处理槽内的处理液的药液浓度达到了设定浓度的时刻。其中，使diw清洗在时刻t1之前完成。
[0040]
如图12所示，在开始从处理槽内排出diw的时间点(时刻t1)，h2o2浓度大致为零。认为这是因为，在时刻t1之前进行了diw清洗，处理槽内的sc1被替换成了diw。
[0041]
接着，在开始从处理槽内排出diw的时间点(时刻t1)起至开始向处理槽内供给新处理液的时间点(时刻t2)为止的期间中，h2o2浓度大致为零，几乎没有发生变化。认为这是因为，虽然从处理槽内排出diw，但是diw作为残液残留在处理槽内和循环流路内。
[0042]
接着，在刚开始向处理槽内供给新处理液后的时间点(时刻t3)，h2o2浓度变高，但是比设定浓度低。认为这是因为，几乎不包含药液成分(nh4oh和h2o2)的液(diw)作为残液残留着在处理槽内和循环流路内。
[0043]
接着，在处理槽内的处理液的温度达到了设定温度的时间点(时刻t4)，h2o2浓度没有达到设定温度，在从时刻t4起经过了一定时间后的时间点(时刻t5)h2o2浓度达到了设定温度。认为这是因为，在刚开始向处理槽内供给新处理液后的时间点(时刻t3)h2o2浓度相对于设定浓度的偏离量大。
[0044]
这样，在第二液更换处理中，从向处理槽内供给新处理液起至该处理液的h2o2浓度达到设定浓度为止的时间，比从向处理槽内供给新处理液起至该处理液的温度达到设定温度为止的时间长。此外，对于处理液的nh4oh浓度而言，也与h2o2浓度同样。其结果是，液更换处理所需的时间变长，基片处理装置的生产率下降。
[0045]
于是，本发明的发明人经过锐意研究后发现，通过以根据处理槽内和循环流路内残留的替换液的残液量决定的药液与替换液的流量比向处理槽内供给药液和替换液，能够缩短处理液的更换所需的时间。下面进行详细说明。
[0046]
[基片处理装置]
[0047]
参照图1和图2，对实施方式的基片处理装置1的一个例子进行说明。基片处理装置1包括处理模块2、控制装置9等。
[0048]
处理模块2是将多个(例如25个～100个)基片w一并进行处理的批次式模块。基片w例如是直径300mm的圆板状的半导体晶片。处理模块2具有处理槽210、液供给部220、液排出部230、液循环部240、保持具250和升降机构260等。
[0049]
处理槽210贮存对基片w实施液处理的处理液。液处理例如包括将基片w的一部分除去的除去处理。处理液例如是sc1。处理槽210包括内槽211、外槽212等。
[0050]
内槽211是上方开放的箱型槽。多个基片w在被保持具250保持的状态下，浸渍在内
槽211内贮存的处理液中。
[0051]
外槽212回收从内槽211内溢出的处理液。在外槽212设置有液面传感器s1和温度传感器s2。液面传感器s1配置在预先设定的高度位置。液面传感器s1检测外槽212内的处理液的液面高度，将检测值发送到控制装置9。温度传感器s2检测外槽212内的处理液的温度，将检测值发送到控制装置9。其中，温度传感器s2也可以设置在内槽211、循环流路241、温度调节器244等。关于循环流路241和温度调节器244，在后文说明。
[0052]
液供给部220向处理槽210内供给处理液。液供给部220包括nh4oh供给部221、h2o2供给部222和diw供给部223等。
[0053]
nh4oh供给部221包括nh4oh供给源221a、nh4oh供给流路221b、开闭阀221c、流量控制器221d等。nh4oh供给流路221b连接nh4oh供给源221a和处理槽210，从nh4oh供给源221a向处理槽210内供给nh4oh。开闭阀221c插设在nh4oh供给流路221b，用于将nh4oh供给流路221b开闭。流量控制器221d插设在nh4oh供给流路221b，对在nh4oh供给流路221b中流动的nh4oh的流量进行控制。流量控制器221d例如是液体用流量控制器(lfc：liquid flow controller)。上述nh4oh供给部221基于来自控制装置9的指令控制开闭阀221c和流量控制器221d，将规定流量的nh4oh供给至内槽211内和外槽212内。其中，nh4oh是药液的一个例子，nh4oh供给部221是药液供给部的一个例子。
[0054]
h2o2供给部222包括h2o2供给源222a、h2o2供给流路222b、开闭阀222c、流量控制器222d等。h2o2供给流路222b连接h2o2供给源222a和处理槽210，从h2o2供给源222a向处理槽210内供给h2o2。开闭阀222c插设在h2o2供给流路222b，将h2o2供给流路222b开闭。流量控制器222d插设在h2o2供给流路222b，对在h2o2供给流路222b中流动的h2o2的流量进行控制。流量控制器222d例如是lfc。上述h2o2供给部222基于来自控制装置9的指令控制开闭阀222c和流量控制器222d，将规定流量的h2o2供给至内槽211内和外槽212内。其中，h2o2是药液的一个例子，h2o2供给部222是药液供给部的一个例子。
[0055]
diw供给部223包括diw供给源223a、diw供给流路223b、开闭阀223c、流量控制器223d等。diw供给流路223b连接diw供给源223a和处理槽210，从diw供给源223a向处理槽210内供给diw。开闭阀223c插设在diw供给流路223b，将diw供给流路223b开闭。流量控制器223d插设在diw供给流路223b，对在diw供给流路223b中流动的diw的流量进行控制。流量控制器223d例如是lfc。上述diw供给部223基于来自控制装置9的指令控制开闭阀223c和流量控制器223d，将规定流量的diw供给至内槽211内和外槽212内。其中，diw是替换液的一个例子，diw供给部223是替换液供给部的一个例子。此外，替换液也被称为槽清洗液、冲洗液、调节液。
[0056]
液排出部230将处理槽210内贮存的处理液排出到外部。液排出部230包括排液容器231、处理槽排液流路232、开闭阀233、循环部排液流路234、开闭阀235等。
[0057]
排液容器231暂时贮存从处理槽210内和循环流路241内排出的处理液，将所贮存的处理液排出到外部。在排液容器231安装有排液量传感器s3。排液量传感器s3对从处理槽210内和循环流路241内排出的处理液的量进行检测，将检测值发送到控制装置9。例如，排液量传感器s3在排液开始前和排液结束后对排液容器231内的残液量进行检测，将两者的差作为排液量。排液容器231经开闭阀236连接着浓度传感器s4。当开闭阀236被打开时，处理液从排液容器231内流入浓度传感器s4。浓度传感器s4对从排液容器231内流入的处理液
的药液浓度进行检测，将检测值发送到控制装置9。这样，浓度传感器s4作为检测排液容器231内的处理液的药液浓度的排液浓度传感器发挥作用。
[0058]
处理槽排液流路232连接内槽211的底壁和排液容器231。处理槽排液流路232从内槽211的底部向排液容器231内排出处理液。
[0059]
开闭阀233插设在处理槽排液流路232，将处理槽排液流路232开闭。当开闭阀233被打开时，处理液从内槽211内被排出到排液容器231内。
[0060]
循环部排液流路234连接后述的循环流路241和排液容器231。循环部排液流路234将处理液从循环流路241内排出到排液容器231内。
[0061]
开闭阀235插设在循环部排液流路234，将循环部排液流路234开闭。当开闭阀235被打开时，处理液从循环流路241内被排出到排液容器231内。
[0062]
液循环部240使处理槽210内的处理液循环。液循环部240包括循环流路241、过滤器242、循环泵243、温度调节器244和水平管245等。
[0063]
循环流路241从外槽212内取出处理液，并将其输送到内槽211内。在循环流路241的中途，从外槽212侧起依次插设有过滤器242、循环泵243、温度调节器244和水平管245。但是，过滤器242、循环泵243和温度调节器244的顺序并不限定于图示的例子，也可以适当地替换。此外，循环流路241经开闭阀246连接着浓度传感器s4。当开闭阀246被打开时，处理液从外槽212内经循环流路241流入浓度传感器s4。浓度传感器s4对从循环流路241内流入的处理液的药液浓度进行检测，将检测值发送至控制装置9。这样，浓度传感器s4作为对处理槽210内的处理液的药液浓度进行检测的处理液浓度传感器发挥作用。
[0064]
过滤器242收集处理液中包含的颗粒。循环泵243加压输送处理液。温度调节器244为加热器等，对处理液的温度进行调节。
[0065]
水平管245将处理液供给到内槽211内。水平管245在y轴方向上延伸，在x轴方向上隔开间隔地设置有多根。多根水平管245在其长度方向上隔开间隔地具有多个释放口245a。多个释放口245a各自朝向正上方释放处理液。由此，能够在内槽211内形成帘状的上升流。此外，水平管245也可以构成为能够独立地控制多个释放口245a的流量。此外，水平管245也可以释放液体和气体的混合流体。作为气体，能够使用n2气体等。
[0066]
保持具250保持多个基片w。保持具250包括彼此平行的多个臂251。各个臂251，如图2所示与水平管245平行地(即，沿y轴方向)配置，将多个基片w各自铅垂地保持。
[0067]
升降机构260使保持具250升降。例如，升降机构260使保持具250在将基片w浸渍在处理液中的位置与将基片w送入送出的位置之间升降。
[0068]
控制装置9例如是计算机，包括cpu(central processing unit：中央处理器)91和存储器等存储介质92。在存储介质92中保存用于控制在基片处理装置1中执行的各种处理的程序。控制装置9通过使cpu91执行存储介质92中存储的程序，来控制基片处理装置1的动作。
[0069]
[控制装置]
[0070]
参照图3和图4，对基片处理装置1具有的控制装置9的功能结构的一个例子进行说明。图3所示的各功能框是概念性的，并不一定需要在物理上如图所示地构成。能够将各功能框的全部或一部分以任意的单位在功能上或物理上分散/集中地构成。在各功能框中进行的各处理功能的全部或任意一部分，能够通过由cpu执行的程序实现，或作为基于布线逻
辑(wired logic)的硬件实现。在后述的图6和图9中也是同样的。
[0071]
控制装置9包括残液量计算部901、参数生成部902、动作控制部903、保存部904等。
[0072]
残液量计算部901基于保存部904保存的处理槽210的总容量和排液量传感器s3检测到的来自处理槽210的处理液的排液量，来计算处理槽210内和循环流路241内的残液量。处理槽210的总容量例如是在对基片w实施液处理时贮存在处理槽210内的处理液的量。处理槽210的总容量例如由用户等预先输入，保存在保存部904中。
[0073]
例如，如图4的(a)所示，在总容量为100l且排液量为90l的情况下，残液量计算部901通过从总容量(100l)减去排液量(90l)，计算处理槽210内和循环流路241内的残液量(10l)。像这样残液量计算部901基于排液量传感器s3的检测值计算残液量，因此能够计算各个液更换处理的准确的残液量。
[0074]
参数生成部902基于保存部904保存的通常参数和残液量计算部901计算出的残液量，来生成调节参数。通常参数是在对基片w实施液处理时决定处理槽210贮存的处理液中的nh4oh、h2o2和diw的混合比(下面称为“第一混合比”。)的参数。第一混合比例如是体积比。但是，第一混合比也可以是质量比。通常参数例如在进行第一液更换处理的情况下使用。调节参数是决定替换液(diw)相对于药液(nh4oh和h2o2)的比例比第一混合比低的第二混合比的参数。关于第二混合比，残液量计算部901计算出的残液量越多，替换液相对于药液的比例越低。调节参数例如在进行第二液更换处理的情况下使用。此外，也可以是，参数生成部902除了使用通常参数和残液量之外，还使用浓度传感器s4检测到的排液容器231内的处理液的药液浓度来生成调节参数。
[0075]
例如，如图4的(b)所示，在由通常参数决定的diw的体积为80l的情况下，参数生成部902通过从diw的体积(80l)减去残液量(10l)，来计算调节后的diw的体积(70l)。此外，参数生成部902基于由通常参数决定的nh4oh的体积(4l)和h2o2的体积(16l)、以及计算出的调节后的diw的体积(70l)，来计算nh4oh、h2o2和diw的流量比。由此，如图4的(c)所示，能够生成决定nh4oh、h2o2和diw的流量比(nh4oh：h2o2：diw＝1：4：17.5)的调节参数。
[0076]
动作控制部903基于保存部904中保存的通常参数或参数生成部902计算出的调节参数，控制液供给部220，以使得向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。
[0077]
例如，动作控制部903控制液供给部220，以使得以由用户等所选择的参数(通常参数或调节参数)决定的流量比向处理槽210内同时供给nh4oh、h2o2和diw。其中，也可以不同时供给nh4oh、h2o2和diw。
[0078]
例如，动作控制部903，在实施第一液更换处理的情况下，控制液供给部220，以使得以由保存部904保存的通常参数决定的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。在第一液更换处理中，在向处理槽210内供给新处理液前的处理槽210内和循环流路241内，作为残液残留着包含药液成分(nh4oh和h2o2)的液。因此，在刚以由通常参数决定的流量比向处理槽210内供给新处理液后，处理槽210内的处理液的药液浓度几乎不下降。其结果是，在短时间内处理液的药液浓度达到设定浓度。
[0079]
例如，动作控制部903，在实施第二液更换处理的情况下，控制液供给部220，以使得以由参数生成部902生成的调节参数决定的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。在第二液更换处理中，在向处理槽210内供给新处理液前的处理槽210内和循环流路241内，作为残液残留着几乎不包含药液成分(nh4oh和h2o2)的液(diw)。因此，当以由通常参数决定
的流量比向处理槽210内供给新处理液时，在刚供给新处理液后，处理槽210内的处理液被残液稀释，处理槽210内的处理液的药液浓度下降。另一方面，因为在调节参数中决定了按残液量减去了diw的供给流量后的流量比，所以在刚以由调节参数决定的流量比向处理槽210内供给新处理液后，处理槽210内的处理液的药液浓度几乎不下降。其结果是，在短时间内处理液的药液浓度达到设定浓度。
[0080]
另外，动作控制部903基于液面传感器s1、温度传感器s2和浓度传感器s4的检测值，控制液供给部220和液排出部230，以向处理槽210内供给处理液，并将贮存在处理槽210内的处理液排出到外部。
[0081]
例如，在浓度传感器s4检测到的处理槽210内的处理液的药液浓度从所设定的浓度范围偏离了的情况下，动作控制部903控制液供给部220向处理槽210内供给处理液，以使得处理液的药液浓度处于该浓度范围内。具体而言，在浓度传感器s4检测到的处理槽210内的处理液的药液浓度比所设定的浓度范围低的情况下，动作控制部903控制nh4oh供给部221和/或h2o2供给部222，以向处理槽210内供给药液。另一方面，在浓度传感器s4检测到的处理槽210内的处理液的药液浓度比所设定的浓度范围高的情况下，动作控制部903控制diw供给部223，向处理槽210内供给diw。此外，例如，动作控制部903也可以使用浓度传感器s4检测到的排液容器231内的处理液的药液浓度，控制液供给部220以向处理槽210内供给处理液。
[0082]
例如，动作控制部903，在液面传感器s1检测到的外槽212内的处理液的液面高度超过了阈值的情况下，将开闭阀233和开闭阀235打开。由此，处理槽210内的处理液经处理槽排液流路232被排出到排液容器231，循环流路241内的处理液经循环部排液流路234被排出到排液容器231，因此外槽212内的处理液的液面高度变低。
[0083]
例如，在温度传感器s2检测到的处理液的温度从所设定的温度范围偏离了的情况下，动作控制部903控制温度调节器244，以使处理液的温度处于该温度范围内。
[0084]
保存部904保存各种信息。各种信息包含处理槽210的总容量、通常参数等。
[0085]
[液更换方法]
[0086]
参照图5，作为实施方式的液更换方法的一个例子，对控制装置9通过控制处理模块2的各部分来更换处理槽210内和循环流路241内的处理液的液更换处理进行说明。图5所示的液更换处理，在由用户等进行了实施液更换处理的操作的情况下被实施。
[0087]
在步骤st11中，控制装置9判断是否由用户等进行了执行浓度比调节的选择。在步骤st11中，在判断为进行了执行浓度比调节的选择的情况下，控制装置9使处理行进至步骤st12。另一方面，在步骤st11中，在判断为没有进行执行浓度比调节的选择的情况下，控制装置9使处理行进至步骤st16。例如，在实施液更换处理的时间点，处理槽210内的液与液更换处理中向处理槽210内供给的新处理液不同的情况下，用户等进行执行浓度比调节的选择。作为这样的情况，例如能够例举出通过进行diw清洗而使得处理槽210内充满了diw的情况。另一方面，在处理槽210内的液与液更换处理中向处理槽210内供给的新处理液相同的情况下，用户等进行不执行浓度比调节的选择。关于diw清洗的详情，在后文进行说明。
[0088]
在步骤st12中，控制装置9控制液排出部230，以将处理槽210内贮存的处理液排出到排液容器231。例如，控制装置9将开闭阀233和开闭阀235打开。由此，处理槽210内的处理液经处理槽排液流路232被排出到排液容器231，循环流路241内的处理液经循环部排液流
路234被排出到排液容器231。此时，在循环流路241内(包括过滤器242内、循环泵243内)，存在作为残液残留没有完全被排出的处理液的情况。尤其是，当处理槽210的容量变大时，残留在处理槽210内和循环流路241内的残液的量变多。在从处理槽210内和循环流路241内向排液容器231的排液完成后，控制装置9将开闭阀233和开闭阀235关闭。此外，在步骤st12中，排液量传感器s3在从处理槽210进行的排液开始前和排液结束后检测排液容器231内的残液量，将两者之差作为来自处理槽210的排液量。此外，在步骤st12中，在从处理槽210内和循环流路241内向排液容器231排出处理液时，既可以使循环泵243动作，也可以不使循环泵243动作。
[0089]
在步骤st13中，控制装置9获取在步骤st12中排液量传感器s3检测到的排液量。
[0090]
在步骤st14中，控制装置9基于保存部904中保存的处理槽210的总容量和步骤st13中获取到的排液量，来计算处理槽210内和循环流路241内的残液量。
[0091]
在步骤st15中，控制装置9基于保存部904中保存的通常参数和步骤st14中残液量计算部901计算出的残液量，来生成调节参数。
[0092]
在步骤st16中，控制装置9获取保存部904中保存的通常参数。
[0093]
在步骤st17中，控制装置9控制液排出部230，以将处理槽210内贮存的处理液排出到排液容器231。例如，控制装置9以与步骤st12相同的方法，将处理槽210内贮存的处理液排出到排液容器231。
[0094]
在步骤st18中，控制装置9基于步骤st15计算出的调节参数或步骤st16获取到的通常参数，控制液供给部220以向处理槽210内供给新处理液。例如，控制装置9在实施第一液更换处理的情况下，控制液供给部220，以使得以由保存部904保存的通常参数决定的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。例如，控制装置9控制液供给部220，以使得以由通常参数或调节参数决定的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。此时，调节参数决定了按照残液量减去了diw的供给流量后的流量比。因此，在刚以由调节参数决定的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw后，处理槽210内的nh4oh和h2o2的浓度几乎不下降。
[0095]
在步骤st19中，控制装置9控制液供给部220、液排出部230和液循环部240，一边使处理槽210内的处理液循环，一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度。例如，控制装置9控制液供给部220，向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw中的至少任一者，以使得浓度传感器s4检测到的处理液的药液浓度处于所设定的浓度范围内。例如，控制装置9在液面传感器s1检测到的外槽212内的处理液的液面高度超过了阈值的情况下，将开闭阀235打开。由此，外槽212内的处理液经循环流路241和循环部排液流路234被排出到排液容器231，外槽212内的处理液的液面高度变低。例如，控制装置9控制温度调节器244，以使得温度传感器s2检测到的处理液的温度处于所设定的温度范围内。例如，控制装置9基于浓度传感器s4检测的排液容器231内的处理液的药液浓度控制液供给部220，以向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw中的至少任一者。然后，控制装置9在处理槽210内的处理液的药液浓度和温度达到了设定浓度和设定温度后，使处理结束。
[0096]
如上所说明的那样，依照实施方式，以按照处理槽210内的残液量决定的药液与替换液的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。由此，在刚向处理槽210内供给新处理液(nh4oh、h2o2和diw)后，处理槽210内的nh4oh和h2o2的浓度几乎不下降。因此，一边使处理槽210内的处理液循环一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度时所需
的时间变短。其结果是，能够缩短处理液的更换所需时间。
[0097]
[diw清洗]
[0098]
接着，对利用基片处理装置1实施的diw清洗的一个例子进行说明。但是，diw清洗并不限定于下面说明的方式。其中，diw清洗也被称为diw冲洗。
[0099]
首先，控制装置9在开闭阀221c～223c已关闭的状态下将开闭阀233和开闭阀235打开(步骤st101)。由此，内槽211内的处理液经处理槽排液流路232被排出到排液容器231，外槽212内的处理液经循环流路241和循环部排液流路234被排出到排液容器231。
[0100]
接着，控制装置9在关闭了开闭阀233和开闭阀235后，打开开闭阀223c，控制流量控制器223d，向处理槽210内供给diw(步骤st102)。由此，在处理槽210内贮存规定量的diw。
[0101]
接着，控制装置9一边继续向处理槽210内供给diw，一边使循环泵243动作(步骤st103)。由此，处理槽210内的diw在循环流路241中流动，循环流路241和插设于该循环流路241的设备(过滤器242、循环泵243、温度调节器244等)被diw清洗。
[0102]
接着，控制装置9打开开闭阀233和开闭阀235(步骤st104)。由此，处理槽210内和循环流路241内的diw被排出到排液容器231。
[0103]
接着，控制装置9一边继续向处理槽210内供给diw，一边关闭开闭阀233和开闭阀235(步骤st105)。由此，处理槽210内和循环流路241内充满diw。在处理槽210内和循环流路241内被规定量的diw充满后，控制装置9关闭开闭阀223c。由此，停止向处理槽210内供给diw。
[0104]
如上所述，diw清洗结束。在diw清洗中，也可以反复进行步骤st104和步骤st105。
[0105]
[第一变形例]
[0106]
参照图6和图7，对第一变形例的控制装置9a的功能结构的一个例子进行说明。
[0107]
控制装置9a包括参数生成部902a、动作控制部903a、保存部904a等。
[0108]
参数生成部902a基于保存部904a中保存的、处理槽210内和循环流路241内的残液量和通常参数，来生成调节参数。此外，也可以构成为，参数生成部902a除了使用残液量和通常参数之外，还使用浓度传感器s4检测到的排液容器231内的处理液的药液浓度来生成调节参数。例如，在残液量为10l(图7的(a))且由通常参数决定的diw的体积为80l(图7的(b))的情况下，参数生成部902a通过从diw的体积(80l)减去残液量(10l)来计算调节后的diw的体积(70l)。此外，参数生成部902a基于由通常参数决定的nh4oh的体积(4l)和h2o2的体积(16l)、以及计算出的调节后的diw的体积(70l)，来计算nh4oh、h2o2和diw的流量比。由此，如图7的(c)所示，能够生成用于决定nh4oh、h2o2和diw的流量比(nh4oh：h2o2：diw＝1：4：17.5)的调节参数。
[0109]
动作控制部903a也可以具有与前述的动作控制部903相同的结构。
[0110]
保存部904a保存各种信息。各种信息包含处理槽210内和循环流路241内的残液量、通常参数等。处理槽210内和循环流路241内的残液量例如由用户等预先输入，保存在保存部904a中。
[0111]
参照图8，作为实施方式的液更换方法的另一个例子，对控制装置9a通过控制处理模块2的各部分来更换处理槽210内和循环流路241内的处理液的液更换处理进行说明。图8所示的液更换处理，在由用户等进行了实施液更换处理的操作的情况下被实施。
[0112]
在步骤st21中，控制装置9a判断是否由用户等进行了执行浓度比调节的选择。步
骤st21与步骤st11相同。
[0113]
在步骤st22中，控制装置9a基于保存部904a中保存的、处理槽210内和循环流路241内的残液量和通常参数，生成调节参数。
[0114]
在步骤st23中，控制装置9a获取保存部904a中保存的通常参数。
[0115]
在步骤st24中，控制装置9a控制液排出部230，以将处理槽210内贮存的处理液排出到排液容器231。步骤st24与步骤st12相同。
[0116]
在步骤st25中，控制装置9a基于步骤st22计算出的调节参数或步骤st23获取到的通常参数，控制液供给部220以向处理槽210内供给新处理液。步骤st25与步骤st18相同。
[0117]
在步骤st26中，控制装置9a控制液供给部220、液排出部230和液循环部240，一边使处理槽210内的处理液循环一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度。步骤st26与步骤st19相同。
[0118]
如上所说明的那样，依照第一变形例，以按照处理槽210内的残液量决定的药液与替换液的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。由此，在刚向处理槽210内供给新处理液(nh4oh、h2o2和diw)后，处理槽210内的nh4oh和h2o2的浓度几乎不下降。因此，一边使处理槽210内的处理液循环一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度时所需的时间变短。其结果是，能够缩短处理液的更换所需时间。
[0119]
另外，依照第一变形例，预先在保存部904a保存残液量，基于保存部904a中保存的残液量和通常参数来生成调节参数，因此是简便的方法。例如，第一变形例在残液量的变动少的情况下是有用的。
[0120]
[第二变形例]
[0121]
参照图9和图10，对第二变形例的控制装置9b的功能结构的一个例子进行说明。
[0122]
控制装置9b包括动作控制部903b、保存部904b等。
[0123]
动作控制部903b基于保存部904b中保存的通常参数或调节参数，控制液供给部220，以向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。
[0124]
保存部904b保存各种信息。各种信息包含通常参数、调节参数等。调节参数例如是在开始进行液更换处理前，由用户等按照处理槽210内和循环流路241内的残液量生成，并预先保存在保存部904b中的。在图10的(a)所示的通常参数中，决定了nh4oh：h2o2：diw＝1：4：18。在图10的(b)所示的调节参数中，决定了nh4oh：h2o2：diw＝1：4：17.5)。
[0125]
参照图11，作为实施方式的液更换方法的另一个例子，对控制装置9b通过处理模块2的各部分，来更换处理槽210内和循环流路241内的处理液的液更换处理进行说明。图11所示的液更换处理，在由用户等进行了实施液更换处理的操作的情况下被实施。
[0126]
在步骤st31中，控制装置9b判断是否由用户等进行了执行浓度比调节的选择。步骤st31与步骤st11相同。
[0127]
在步骤st32中，控制装置9b获取保存部904b中保存的调节参数。
[0128]
在步骤st33中，控制装置9b获取保存部904b中保存的通常参数。
[0129]
在步骤st34中，控制装置9b控制液排出部230，以将处理槽210内贮存的处理液排出到排液容器231。步骤st34与步骤st12相同。
[0130]
在步骤st35中，控制装置9b基于步骤st32中获取到的调节参数或步骤st33中获取到的通常参数，控制液供给部220以向处理槽210内供给新处理液。步骤st35与步骤st18相
同。
[0131]
在步骤st36中，控制装置9b控制液供给部220、液排出部230和液循环部240，一边使处理槽210内的处理液循环一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度。步骤st36与步骤st19相同。
[0132]
如上所述，依照第二变形例，以按照处理槽210内的残液量决定的药液与替换液的流量比向处理槽210内供给nh4oh、h2o2和diw。由此，在刚向处理槽210内供给新处理液(nh4oh，h2o2和diw)后，处理槽210内的nh4oh和h2o2的浓度几乎不下降。因此，一边使处理槽210内的处理液循环一边将处理液的药液浓度和温度调节成设定浓度和设定温度时所需的时间变短。其结果是，能够缩短处理液的更换所需时间。
[0133]
另外，依照第二变形例，调节参数预先保存在保存部904b中，动作控制部903b基于保存部904b中保存的通常参数或调节参数，来控制液供给部220以向处理槽210供给新处理液。因此，是简便的方法。例如，第二变形例在残液量的变动少的情况下是有用的。
[0134]
应当认为，本说明书中记载的实施方式在所有方面都是例示，而并非限制性的。上述的实施方式在不超过发明内容(权利要求书)的范围及其主旨的情况下，可以以各种方式进行省略、替换、改变。
[0135]
在上述的实施方式中，说明了药液供给部和替换液供给部与处理槽210连接的情况，但是本发明并不限定于此。例如，也可以构成为，药液供给部与处理槽210连接，替换液供给部与循环流路241连接。此外，例如也可以构成为，药液供给部与循环流路241连接，替换液供给部与处理槽210连接。
[0136]
在上述的实施方式中，说明了浓度传感器s4对排液容器231内的处理液的药液浓度和处理槽210内的处理液的药液浓度进行检测的情况，但是本发明并不限定于此。例如，也可以构成为，设置2个浓度传感器，一个浓度传感器检测排液容器231内的处理液的药液浓度，另一个浓度传感器检测处理槽210内的处理液的药液浓度。
[0137]
在上述的实施方式中，说明了在处理模块中使用的处理液是sc1的情况，但是本发明并不限定于此。该处理液也可以是将药液(第一成分)与替换液(第二成分)混合而生成的混合液，例如可以是sc2(hcl/h2o2/h2o)、dhf(hf/h2o)。