一种硅片清洗机构的制作方法

1.本实用新型属于硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗机构。


背景技术：

2.硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件，硅片切割后其表面粘有大量硅粉、切削液以及其它颗粒杂质，由于硅片的尺寸往大尺寸化和薄片化发展，使得切割后硅片之间的粘接面积增大，吸附力更大，采用现有的清洗机构无法将硅片清洗干净，硅片表面的脏花率较多，清洗效果差，导致需要多次返工清洗，既浪费工时又浪费资源。
3.申请号为cn202022863601.9的中国专利公开了一种硅片清洗机构，至少包括：槽体部和向所述槽体部喷水的喷水部；所述槽体部包括用于放置若干片篮的本体和用于收集从所述本体中溢出水流的溢流槽；从所述喷水部向所述本体喷水，所述本体中的水溢流至所述溢流槽后，再重新经所述喷水部进入所述本体内循环使用。该装置提出的清洗机构，采用多种喷水方式，在沿本体长度和宽度方向均设有喷水件，提高本体槽内水流循环，加速槽水流动，提高对硅片表面的清洗冲击，提高清洗效果，降低硅片表面脏花率，可使硅片表面脏花率降低3—5％。该装置仅用单一的水源冲击清洗，虽然能够去除一些污物降低脏花率，但是对于一些微小颗粒则去除较为困难，影响后期的使用加工精度，此外该装置对于一些厚度较薄的硅片边缘冲洗较为麻烦，由此有必要做出改进。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是针对上述存在的技术问题，提供一种硅片清洗机构，达到了清洗更加全面彻底从而避免了硅片上存在清洗的死角区域，确保了硅片的清洗效率和质量的效果。
5.有鉴于此，本实用新型提供一种硅片清洗机构，包括清洗箱，所述清洗箱的内部设置有超声波组件，还包括：
6.安装板，所述安装板共设置有两个，两个所述安装板分别固定安装在清洗箱的上表面两侧，一个所述安装板的表面固定安装有驱动电机，另一个所述安装板的表面贯穿转动安装有接水管，所述接水管的一端与驱动电机的输出端之间固定安装有安装管，所述安装管外侧的表面等间距固定安装有若干个出水管，所述安装管两侧的表面均等间距安装有固定板一和固定板二，所述固定板二共设置有四个，四个所述固定板二两两对称分布在安装管的两端，所述固定板一共设置有六个，六个所述固定板一两两对称分布，两端所述固定板二相远离一侧的表面与六个所述固定板一一侧的表面均固定安装有电动推杆，一侧所述电动推杆的一端均设置有冲洗组件，另一侧所述电动推杆的一端均设置有刷洗组件；
7.其中，所述安装管的内部与接水管和出水管的内部相连通，所述接水管的另一端与外接水源相连接。
8.在本技术方案中，通过冲洗组件。刷洗组件以及超声波组件等多种清洗方式为一
体，提高了装置的清洗效率和品质，降低清洗不够全面到位，出现清洗死角的情况发生。
9.在上述技术方案中，进一步的，还包括：
10.排液管，所述排液管贯穿固定安装在清洗箱一侧的表面，所述排液管的上表面固定安装有控制阀，所述排液管的内部固定安装有过滤板，所述排液管远离控制阀一侧的表面固定安装有安装头，安装头的底端螺纹连接有集污盒；
11.其中，所述过滤板位于安装头和控制阀的之间，所述集污盒安装在排液管靠近清洗箱的一端。
12.在本技术方案中，由于清洗过后的液体内会含带一些颗粒和污物，若直接排放会造成管道的堆积堵塞，而在排液管内部安装上过滤板，不仅可以对液体进行初步过滤，避免堵塞情况发生，还可以使滤下的杂质污物落入集污盒中，便于后期的集中处理，提高装置的实用性。
13.在上述技术方案中，进一步的，所述冲洗组件包括：
14.蓄液盒一和蓄液盒二，所述蓄液盒一和蓄液盒二均固定安装在一侧电动推杆的一端，所述蓄液盒一一侧的表面等间距固定安装有若干个高压喷头，所述蓄液盒二两侧的表面皆等间距固定安装有若干个高压喷头。
15.在本技术方案中，通过高压喷头喷洒清洗液到硅片表面，可以有效的清洗片子表面的污物，且高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤，清洗更加安全可靠。
16.在上述技术方案中，进一步的，所述刷洗组件包括：
17.壳体一和壳体二，所述壳体一和壳体一均固定安装在另一侧电动推杆的一端，所述壳体一的内部固定安装有双轴电机，所述壳体二的内部固定安装有单轴电机，所述单轴电机的输出端与双轴电机的输出轴均固定安装有刷板。
18.在本技术方案中，通过单轴电机和双轴电机分别带动刷板高速转动，从而可以有效的将硅片表面的颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜清除，进一步提高清洗的品质。
19.在上述技术方案中，进一步的，所述超声波组件包括：
20.放置台，所述放置台固定安装在清洗箱的内部，所述放置台的上表面等间距固定安装有若干个固定架，每个所述固定架内部的底部均固定安装有防护垫片，每个所述固定架内部两侧的表面均固定安装有夹持机构，所述放置台的下表面固定安装有超声波设备。
21.在本技术方案中，通过超声波设备发出的超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染，且频率越高清洗效果越好，有效避免刷板洗刷不到的情况发生，提高清洗的效率。
22.在上述技术方案中，进一步的：
23.所述蓄液盒一和蓄液盒二的内部分别通过软管与出水管相连通。
24.在本技术方案中，利用软管将蓄液盒一和蓄液盒二与安装管连通，便于后期液体的进入，从而完成对硅片表面的冲洗。
25.在上述技术方案中，进一步的：
26.所述清洗箱内部的底部呈倾斜设置。
27.在本技术方案中，清洗箱底部倾斜设置便于后期的排水工作，避免一些杂质残留在清洗箱的底部难以排出。
28.本实用新型的有益效果是：
29.1.通过冲洗组件。刷洗组件以及超声波组件等多种清洗方式为一体，提高了装置的清洗效率和品质，降低清洗不够全面到位，出现清洗死角的情况发生；
30.2.由于清洗过后的液体内会含带一些颗粒和污物，若直接排放会造成管道的堆积堵塞，而在排液管内部安装上过滤板，不仅可以对液体进行初步过滤，避免堵塞情况发生，还可以使滤下的杂质污物落入集污盒中，便于后期的集中处理，提高装置的实用性；
31.3.通过高压喷头喷洒清洗液到硅片表面，可以有效的清洗片子表面的污物，且高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤，清洗更加安全可靠；
32.4.通过单轴电机和双轴电机分别带动刷板高速转动，从而可以有效的将硅片表面的颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜清除，进一步提高清洗的品质；
33.5.通过超声波设备发出的超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染，且频率越高清洗效果越好，有效避免刷板洗刷不到的情况发生，提高清洗的效率。
附图说明
34.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
35.图1为本实用新型的第一立体结构示意图。
36.图2为本实用新型的第二立体结构示意图。
37.图3为本实用新型的剖面结构示意图。
38.图4为本实用新型的超声波组件立体结构示意图。
39.图中标记表示为：
40.清洗箱1、安装板2、冲洗组件3、蓄液盒一301、蓄液盒二302、高压喷头303、刷洗组件4、壳体一401、壳体二402、双轴电机403、单轴电机404、刷板405、超声波组件5、放置台501、固定架502、夹持机构503、超声波设备504、防护垫片505、排液管6、集污盒7、驱动电机8、安装管9、过滤板10、接水管11、出水管12、电动推杆13、固定板一14、固定板二15。
具体实施方式
41.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
42.在本技术的描述中，需要说明的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本技术的示例性实施方式。为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图
中不需要对其进行进一步讨论。
43.需要说明的是，本技术的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便本技术的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施，且“第一”、“第二”等所区分的对象通常为一类，并不限定对象的个数，例如第一对象可以是一个，也可以是多个。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
44.需要说明的是，在本技术的描述中，术语方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。
45.需要说明的是，在本技术中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者装置不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者装置所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者装置中还存在另外的相同要素。此外，需要指出的是，本技术实施方式中的方法和装置的范围不限按示出或讨论的顺序来执行功能，还可包括根据所涉及的功能按基本同时的方式或按相反的顺序来执行功能，例如，可以按不同于所描述的次序来执行所描述的方法，并且还可以添加、省去、或组合各种步骤。另外，参照某些示例所描述的特征可在其他示例中被组合。
46.实施例1：
47.本技术实施例提供了一种硅片清洗机构，包括清洗箱1，清洗箱1的内部设置有超声波组件5，还包括：安装板2，安装板2共设置有两个，两个安装板2分别固定安装在清洗箱1的上表面两侧，一个安装板2的表面固定安装有驱动电机8，另一个安装板2的表面贯穿转动安装有接水管11，接水管11的一端与驱动电机8的输出端之间固定安装有安装管9，安装管9外侧的表面等间距固定安装有若干个出水管12，安装管9两侧的表面均等间距安装有固定板一14和固定板二15，固定板二15共设置有四个，四个固定板二15两两对称分布在安装管9的两端，固定板一14共设置有六个，六个固定板一14两两对称分布，两端固定板二15相远离一侧的表面与六个固定板一14一侧的表面均固定安装有电动推杆13，一侧电动推杆13的一端均设置有冲洗组件3，另一侧电动推杆13的一端均设置有刷洗组件4；
48.其中，安装管9的内部与接水管11和出水管12的内部相连通，接水管11的另一端与外接水源相连接。
49.本实施例中，通过冲洗组件。刷洗组件以及超声波组件等多种清洗方式为一体，提高了装置的清洗效率和品质，降低清洗不够全面到位，出现清洗死角的情况发生。
50.实施例2：
51.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征，还包括：排液管6，排液管6贯穿固定安装在清洗箱1一侧的表面，排液管6的上表面固定安装有控制阀，排液管6的内部固定安装有过滤板10，排液管6远离控制阀一侧
的表面固定安装有安装头，安装头的底端螺纹连接有集污盒7；
52.其中，过滤板10位于安装头和控制阀的之间，集污盒7安装在排液管6靠近清洗箱1的一端。
53.本实施例中，由于清洗过后的液体内会含带一些颗粒和污物，若直接排放会造成管道的堆积堵塞，而在排液管内部安装上过滤板，不仅可以对液体进行初步过滤，避免堵塞情况发生，还可以使滤下的杂质污物落入集污盒中，便于后期的集中处理，提高装置的实用性。
54.实施例3：
55.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征，冲洗组件3包括：蓄液盒一301和蓄液盒二302，蓄液盒一301和蓄液盒二302均固定安装在一侧电动推杆13的一端，蓄液盒一301一侧的表面等间距固定安装有若干个高压喷头303，蓄液盒二302两侧的表面皆等间距固定安装有若干个高压喷头303。
56.本实施例中，通过高压喷头喷洒清洗液到硅片表面，可以有效的清洗片子表面的污物，且高压清洗靠喷射作用，片子不易产生划痕和损伤，清洗更加安全可靠。
57.实施例4：
58.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征，刷洗组件4包括：壳体一401和壳体二402，壳体一401和壳体一401均固定安装在另一侧电动推杆13的一端，壳体一401的内部固定安装有双轴电机403，壳体二402的内部固定安装有单轴电机404，单轴电机404的输出端与双轴电机403的输出轴均固定安装有刷板405。
59.本实施例中，通过单轴电机和双轴电机分别带动刷板高速转动，从而可以有效的将硅片表面的颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜清除，进一步提高清洗的品质。
60.实施例5：
61.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征，超声波组件5包括：放置台501，放置台501固定安装在清洗箱1的内部，放置台501的上表面等间距固定安装有若干个固定架502，每个固定架502内部的底部均固定安装有防护垫片505，每个固定架502内部两侧的表面均固定安装有夹持机构503，放置台501的下表面固定安装有超声波设备504。
62.本实施例中，通过超声波设备发出的超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染，且频率越高清洗效果越好，有效避免刷板洗刷不到的情况发生，提高清洗的效率。
63.实施例6：
64.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征：蓄液盒一301和蓄液盒二302的内部分别通过软管与出水管12相连通。
65.本实施例中，利用软管将蓄液盒一和蓄液盒二与安装管连通，便于后期液体的进入，从而完成对硅片表面的冲洗。
66.实施例7：
67.本实施例提供了一种硅片清洗机构，除了包括上述实施例的技术方案外，还具有以下技术特征：清洗箱1内部的底部呈倾斜设置。
68.本实施例中，清洗箱底部倾斜设置便于后期的排水工作，避免一些杂质残留在清洗箱的底部难以排出。
69.上面结合附图对本技术的实施例进行了描述，在不冲突的情况下，本技术中的实施例及实施例中的特征是可以相互组合的，本技术并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本技术的启示下，在不脱离本技术宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本技术的保护之内。