一种用于硅管清洗的过滤装置的制作方法

1.本实用新型涉及过滤设备技术领域，具体而言，涉及一种用于硅管清洗的过滤装置。


背景技术：

2.硅材料是半导体设备常用的零部件，其中扩散设备会用到许多硅材料管状零件，行业内一般称为硅管。硅管内部不干净就会影响半导体材料的性能，因此需要定期清洗。
3.现有技术一般采用酸液浸泡的方式进行清洗，为了使清洗更加充分，会在清洗槽中进行酸液震荡、鼓泡或对流，但这种清洗模式对结构简单的零件较为适用，对于管状零件的清洗效果不佳。为了达到理想的清洗效果，可以通过管道将清洗液通入硅管内部，去除附着在管内壁的金属离子和有机物，这些杂质会进入清洗液中，清洗液消耗量大，清洗成本高。如需要循环利用清洗液就需要先进行过滤处理，但现有的过滤设备一般用于过滤颗粒物质，对于金属离子、有机物等杂质没有过滤作用，因此不适用于过滤硅管的清洗液。


技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的问题是如何实现硅管清洗液中金属离子、有机物等杂质的有效过滤。
5.为解决上述问题，本实用新型提供一种用于硅管清洗的过滤装置，包括过滤壳体，所述过滤壳体顶部设有滤液进口，所述过滤壳体底部设有滤液出口，所述过滤壳体内设有三层平行设置的隔板，所述隔板上设有多个滤孔，每层所述隔板上方的空间为过滤空间，所述过滤空间内填充有活性炭颗粒，所述活性炭颗粒的粒径大于所述滤孔的直径。
6.相对于现有技术，本实用新型的过滤装置设有三层过滤空间，过滤空间内填充有活性炭颗粒，可以吸附硅管清洗液中的金属离子、有机物等杂质，设置隔板清洗液只能从滤孔向下流动，由此延长了清洗液在过滤空间中的停留时间，提高了过滤效果。
7.进一步地，所述隔板的顶面覆盖耐酸滤膜。设置耐酸滤膜可以进一步提升过滤装置对金属离子和有机物的过滤效果，且能避免活性炭颗粒进入滤孔造成堵塞。
8.进一步地，所述隔板上的所述滤孔呈点阵排列。点阵排列的滤孔可以均匀分配各滤孔通过的清洗液流量，当部分滤孔堵塞时过滤装置仍能正常工作。
9.进一步地，所述滤孔的直径为1～3mm。滤孔的孔径较小，可以减少活性炭颗粒进入滤孔的几率，还能增加清洗液在过滤空间停留时间。
10.进一步地，从上往下三层所述过滤空间的高度依次增大。这样就能实现含有杂质较多的清洗液在上层过滤空间停留时间较短，而含有杂质较少的清洗液在下层过滤空间停留时间较长，有利于均衡分配各层过滤空间的过滤负荷，以延长过滤装置的使用寿命。
11.进一步地，从上往下三层所述过滤空间内填充的所述活性炭颗粒的粒径依次减小。这样可以对不同杂质实现分层过滤，逐步提高过滤精度，过滤效果更好。
12.进一步地，所述过滤壳体的侧壁为圆柱形。圆柱形过滤壳体的强度较高，且便于安
装。
13.进一步地，所述过滤壳体侧壁的直径为10～50cm。该过滤装置整体的体积较小，可以满足硅管清洗装置的装配需要。
14.进一步地，所述过滤壳体侧壁的高度为20～50cm。该过滤装置整体的体积较小，可以满足硅管清洗装置的装配需要。
15.进一步地，所述过滤壳体的底壁为锥形面。锥形面起到导流作用，有利于清洗液流出。
附图说明
16.图1为本实用新型实施例中过滤装置的结构图；
17.图2为本实用新型实施例中过滤装置的纵向剖视图；
18.图3为本实用新型实施例中过滤装置的横向剖视图；
19.图4为本实用新型实施例中立体结构的剖视图。
20.附图标记说明：
21.1-过滤壳体，2-滤液进口，3-滤液出口，4-隔板，5-滤孔，6-过滤空间。
具体实施方式
22.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
23.应注意到：相似的标记和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
24.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前”、“后”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
25.在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
26.以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
27.结合图1至图4所示，本实用新型的实施例提供一种过滤装置，用于过滤硅管清洗液。过滤装置包括过滤壳体1，过滤壳体1顶部设有滤液进口2，底部设有滤液出口3，待过滤清洗液采用上进下出的方式，保证流动通畅。过滤壳体1内设有三层平行设置的隔板4，隔板4水平设置，且隔板4上设有多个滤孔5，每层隔板4上方的空间为过滤空间6，因此过滤壳体1
内具有三层过滤空间6，过滤空间6内填充有活性炭颗粒，可以吸附硅管清洗液中的金属离子、有机物等杂质，清洗液只能从滤孔5向下流动，由此延长了清洗液在过滤空间6中的停留时间，提高了过滤效果。活性炭颗粒的粒径大于滤孔5的直径，避免活性炭颗粒进入滤孔5造成堵塞。
28.本实施例中，过滤壳体1的侧壁为圆柱形，直径为25cm，高度为40cm，圆柱形壳体具有较高的强度，且便于安装，过滤装置整体的体积较小，可以满足硅管清洗装置的装配需要。过滤壳体1的底壁为锥形面，起到导流作用，有利于清洗液流出。在其他实施方式中，过滤壳体1体侧壁的直径介于10～50cm之间，高度介于20～50cm之间。
29.结合图2所示，本实施例中，三层过滤空间6的高度相等，均为10cm，各层过滤空间6内填充的活性炭颗粒相同，这种结构的过滤装置加工比较方便，制造成本低。
30.在本实用新型的另一种实施例中，三层过滤空间6从上往下三层高度依次增大，由此含有杂质较多的清洗液在上层过滤空间6停留时间较短，而含有杂质较少的清洗液在下层过滤空间6停留时间较长，有利于均衡分配各层过滤空间6的过滤负荷，以延长过滤装置的使用寿命。另外，三层过滤空间6内填充的活性炭颗粒的粒径从上往下依次减小，由此可以对不同杂质实现分层过滤，逐步提高过滤精度，过滤效果更好。
31.进一步地，隔板4的顶面覆盖耐酸滤膜(图中未示出)，设置耐酸滤膜可以进一步提升过滤装置对金属离子和有机物的过滤效果，而且能避免活性炭颗粒进入滤孔5造成堵塞，延长过滤装置的使用寿命。
32.结合图3所示，隔板4上的滤孔5呈点阵排列，点阵排列形式可以均匀分配各滤孔5通过的清洗液流量，当部分滤孔5堵塞时过滤装置仍能正常工作。滤孔5的孔径较小，直径介于1～3mm之间，由此可以减少活性炭颗粒进入滤孔5的几率，还能增加清洗液在过滤空间6停留时间。
33.上述实施例的过滤装置针对硅管清洗液设计，具有三层过滤空间6，可以进行分层过滤，活性炭颗粒和耐酸滤膜相互配合，能有效吸附硅管清洗液中的金属离子、有机物等杂质，具有很好的过滤效果，满足硅管清洗设备的使用需要，使清洗液可以循环使用，节约清洗操作的成本。
34.最后应说明的是，以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。