一种等离子清洗设备的制作方法

本发明涉及半导体芯片制造，尤其涉及一种等离子清洗设备。

背景技术：

1、等离子表面处理技术是一种利用离子、电子、活性基团、光子等组成的等离子体来处理工件表面，实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的的一种新型表面处理技术，能够达到常规清洗方法所无法达到的特殊效果。等离子表面处理技术通常应用于半导体、新能源电池、数码电子等精密产品工件的生产制造中。现有的等离子清洗设备中，等离子清洗装置设置在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力下起辉产生高能量的无序等离子体，通过等离子体轰击待清洗工件表面．以达到清洗或增加工件表面吸附性等目的，对芯片等工件点胶后的附着力、印刷质量的提升效果非常显著。

2、现有的等离子清洗设备大多自动化程度较低，需要借助人工进行上下料，且上料、下料机构分别位于设备的两侧，需要至少两名操作人员配合实现，一方面效率低下、耗费人力，另一方面，工件表面会留下操作人员的橡胶手套印，还容易因人工疲劳出现工件放反、损坏等失误，影响清洗效果和工件质量。此外，现有的等离子清洗设备中通常为单线传输，待清洗的工件只能依次从设备的一侧传输至另一侧，工作效率较低。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种自动化程度高、工作效率高的等离子清洗设备。

2、为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：

3、一种等离子清洗设备，用于清洗工件，所述等离子清洗设备包括机架、第一上下料机构、第二上下料机构、第一转移机构、第二转移机构、第一中转机构、第二中转机构、清洗机构及移栽机构，其中，

4、所述第一上下料机构与所述第二上下料机构分设于所述机架的相异两侧，所述第一上下料机构和/或所述第二上下料机构用于所述工件的上料，所述第一上下料机构和/或所述第二上下料机构用于所述工件的下料；

5、所述第一转移机构用于将所述工件在所述第一上下料机构与所述第一中转机构之间转移；

6、所述第二转移机构用于将所述工件在所述第二上下料机构与所述第二中转机构之间转移；

7、所述移栽机构用于将所述工件在所述第一中转机构与所述清洗机构之间传输，和/或，所述移栽机构用于将所述工件在所述第二中转机构与所述清洗机构之间传输；

8、所述第一转移机构与所述第二转移机构均包括吸嘴模组，每个所述吸嘴模组均包括吸嘴座与多个吸嘴，每个所述吸嘴用于吸取一个所述工件，每个所述吸嘴均与对应的所述吸嘴座可拆卸地连接。

9、在一些实施方式中，所述第一上下料机构、所述第一中转机构、所述清洗机构、所述第二中转机构、所述第二上下料机构沿水平的第一方向依次设置；与所述第一方向相垂直的水平方向为第二方向，沿所述第二方向，所述第一转移机构及所述第二转移机构设于所述清洗机构的同一侧，所述移栽机构设于所述清洗机构的另一侧，所述第一中转机构及所述第二中转机构分别能够沿所述第二方向传输所述工件。

10、在一些实施方式中，所述第一上下料机构包括托盘平移模组与第一升降模组，所述机架包括第一工作台，所述托盘平移模组位于所述第一工作台的下方，所述托盘平移模组用于沿水平方向传输托盘，所述托盘用于存放多个所述工件，所述第一升降模组用于沿上下方向传输所述托盘，所述第一转移机构用于将所述工件在位于所述第一工作台上方的所述托盘与所述第一中转机构之间转移。

11、在一些实施方式中，所述第二上下料机构包括第一弹夹轨道、第二弹夹轨道及第二升降模组，所述第一弹夹轨道、所述第二弹夹轨道分别用于沿水平方向传输弹夹，所述弹夹用于存放所述工件，所述第一弹夹轨道具有靠近所述第二中转机构的第一接口，所述第二弹夹轨道具有靠近所述第二中转机构的第二接口，所述第一弹夹轨道位于所述第二弹夹轨道的上方，所述第一接口位于所述第二接口的上方，所述第二升降模组用于在所述第一接口与所述第二接口之间传输所述弹夹及工件，所述第二转移机构用于将所述工件在位于所述第一接口处的所述弹夹与所述第二中转机构之间转移。

12、在一些实施方式中，所述第二上下料机构具有沿第二方向间隔设置的两组，每组所述第二上下料机构中，所述第一弹夹轨道的传输方向及所述第二弹夹轨道的传输方向分别沿第一方向延伸，所述第一方向与所述第二方向分别沿水平方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

13、在一些实施方式中，所述第二升降模组包括弹夹顶升装置与工件顶升装置，所述弹夹顶升装置用于驱使所述弹夹沿上下方向相对运动，所述工件顶升装置用于驱使所述弹夹中的工件相对所述弹夹沿上下方向相对运动，所述工件顶升装置具有一个或多个，所述第二升降模组还包括用于检测所述工件高度的到位传感器。

14、在一些实施方式中，所述第二升降模组包括弹夹座，所述弹夹顶升装置包括弹夹升降座，所述弹夹升降座能够沿上下方向相对运动地与所述弹夹座连接；所述工件顶升装置包括顶升杆，所述顶升杆能够沿上下方向相对运动地与所述弹夹升降座连接，所述顶升杆的顶部具有顶板，所述顶板能够在所述弹夹中上下运动。

15、在一些实施方式中，所述第二升降模组包括弹夹座，所述弹夹座包括底座及侧板，所述侧板具有分设于所述底座两侧的两个，两个所述侧板与所述底座围设形成用于容纳所述弹夹的容纳空间，两个所述侧板能够相互靠近或相对远离地运动，所述第二升降模组还包括用于驱使至少一个所述侧板相对靠近或远离另一个所述侧板运动的间距调整装置。

16、在一些实施方式中，所述第一转移机构与所述第二转移机构均为机械手，每个所述机械手的一端部均设有所述吸嘴模组，所述吸嘴座具有第一磁性件，每个所述吸嘴均具有第二磁性件，所述第一磁性件与所述第二磁性件能够通过磁吸力相互吸合，每个所述吸嘴均具有真空吸附结构。

17、在一些实施方式中，所述第一中转机构与所述第二中转机构的结构相同，两者均包括中转座、第一传输台、第二传输台、第一治具及第二治具，其中，所述第一治具及所述第二治具分别用于存放多个所述工件，所述第一治具与所述第一传输台连接，所述第二治具与所述第二传输台连接，所述第一传输台及所述第二传输台分别能够沿第二方向相对运动地设置在所述中转座上，所述第一中转机构与所述第二中转机构沿第一方向间隔设置，所述第一方向与所述第二方向分别沿水平方向延伸，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

18、在一些实施方式中，所述第一中转机构与所述第二中转机构的每一者中，所述中转座设有第一轨道与第二轨道，所述第一轨道及所述第二轨道分别沿所述第二方向延伸，所述第一轨道位于所述第二轨道的上方，沿所述第一方向，所述第一轨道位于所述第二轨道的外侧；所述第一传输台能够相对滑动与所述第一轨道连接；所述第二传输台能够相对滑动地与所述第二轨道连接，所述第二传输台位于所述第一传输台的下方，所述第二治具能够沿上下方向相对运动地与所述第二传输台连接，所述第二传输台沿所述第二轨道运动的过程中，第二治具能够从所述第一传输台的下方穿过。

19、在一些实施方式中，所述第一中转机构与所述第二中转机构的每一者中，所述中转座开设有沿所述第二方向延伸的导向槽，所述导向槽具有沿所述第二方向依次相接的第一段、第二段及第三段，所述第一段位于所述第二段的上方，所述第三段位于所述第二段的上方；所述第二治具连接有导向销，所述导向销能够沿所述导向槽的延伸方向相对滑动地插设于所述导向槽中。

20、在一些实施方式中，所述第一中转机构、所述清洗机构、所述第二中转机构沿水平的第一方向依次设置，所述移栽机构包括支架、移栽座及吸取座，所述支架与所述机架固定连接，所述移栽座能够沿所述第一方向相对运动地与所述支架连接，所述吸取座能够沿上下方向相对运动地与所述移栽座连接，所述吸取座能够同时吸取多个所述工件。

21、在一些实施方式中，所述清洗机构包括等离子清洗喷头，所述等离子清洗喷头具有沿水平的第二方向依次设置的多个，所述第一方向与所述第二方向相互垂直。

22、在一些实施方式中，所述第一中转机构及所述第二中转机构分别包括用于承载所述工件的治具，每个所述治具均具有阵列排布的多个凹槽，每个所述凹槽用于放置一个所述工件，所述吸取座具有阵列排布的多个吸头，多个所述吸头与多个所述凹槽的位置一一对应，所述吸取座能够同时吸取一个所述治具中的全部工件。

23、由于以上技术方案的运用，本发明提供的等离子清洗设备，可以灵活选用第一上下料机构与第二上下料机构中的一者或两者进行上下料，适用多种供料模式，配合第一转移机构和/或第二转移机构，以及第一中转机构和/或第二中转机构完成工件的上下料、传输与清洗，无论从哪个方向上下料都可以顺畅衔接，不同机构互不干涉。整个清洗工艺中无需人工介入，自动化程度高，且能够不停机作业，实现工件的连续上料和清洗，工作效率更高。进一步地，本发明中第一转移机构与第二转移机构中的吸嘴模组能够一次性吸取多个工件，提高传输效率，且其吸嘴可以方便地拆卸更换，针对不同规格尺寸的工件选用不同的吸嘴，适用范围更广。